半导体制造工艺所排放的有害气体的综合处理系统技术方案

本发明专利技术涉及一种把半导体制造工艺发生的有害气体予以净化处理后排放的综合处理系统，更详细地说，该有害气体综合处理系统在壳体内统合性地设有洗涤除尘装置、电气集尘装置、催化反应装置而能够同时处理所排放的酸性气体(亦即，HF气体与HCl气体)、温室气体(N2O气体)及氮氧化物与微细物质，能通过热交换器节约能源。

A Comprehensive Treatment System for Harmful Gases Emitted from Semiconductor Manufacturing Process

The invention relates to a comprehensive treatment system for the discharge of harmful gases from semiconductor manufacturing process after purification. More specifically, the integrated treatment system for harmful gases is integrated with a washing and dust removal device, an electric dust collection device and a catalytic reaction device in the shell to simultaneously treat the acid gases (i.e., HF and HCl gases) and greenhouse gases emitted. (N2O gas) and nitrogen oxides and fine materials can save energy through heat exchangers.

【技术实现步骤摘要】
半导体制造工艺所排放的有害气体的综合处理系统
本专利技术涉及一种把半导体制造工艺发生的有害气体予以净化处理后排放的综合处理系统，更详细地说，该有害气体综合处理系统在壳体内统合性地设有洗涤除尘装置、电气集尘装置、催化反应装置而能够同时处理所排放的酸性气体(亦即，HF气体与HCl气体)、温室气体(N2O气体)及氮氧化物与微细物质，能通过热交换器节约能源。
技术介绍
半导体制造工艺中应用于沉积及蚀刻工序等处后排放的废气大部分包含有害物质，因此通过适当的处理予以净化后排放。例如，如同注册专利第10-0521091号“能够高效率地消除有害气体及粉尘的气体洗涤器”一样地把废气以等离子体处理或予以燃烧或通过湿式处理消除废气中的有害成分，由于该废气含有种类繁多的有害物质，因此不经过一系列过程地予以处理的话就无法完整地处理。因此，目前都配备各种气体处理装置。更何况，近来人们对环境的关注程度日益提高而进一步增强了制约活动，因此在众多的现场上除了现有的处理装置以外还附设了其它装置。如前所述，包含复合型有害物质的废气具有难以同时处理的组合，其中造成腐蚀的酸性气体中典型气体是HF气体与HCl气体，还包含作为温本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有害气体综合处理系统，其特征在于，包括：壳体，设有让有害气体流入的流入部、把净化的废气排放的排放部；洗涤除尘装置，由连接到上述流入部并且让有害气体贯穿的多个过滤构件、设有向上述过滤构件喷射清洗液的多个喷嘴的洗涤器构成，消除有害气体内的HF气体与HCl气体；电气集尘装置，设于上述洗涤除尘装置后端并且消除有害气体内的液滴及薄雾；催化反应装置，让通过了上述电气集尘装置的有害气体流入并且和分解催化剂或还原催化剂进行反应消除N2O气体后把消除了有害成分的废气予以排放。

【技术特征摘要】
2017.10.27 KR 10-2017-01408181.一种有害气体综合处理系统，其特征在于，包括：壳体，设有让有害气体流入的流入部、把净化的废气排放的排放部；洗涤除尘装置，由连接到上述流入部并且让有害气体贯穿的多个过滤构件、设有向上述过滤构件喷射清洗液的多个喷嘴的洗涤器构成，消除有害气体内的HF气体与HCl气体；电气集尘装置，设于上述洗涤除尘装置后端并且消除有害气体内的液滴及薄雾；催化反应装置，让通过了上述电气集尘装置的有害气体流入并且和分解催化剂或还原催化剂进行反应消除N2O气体后把消除了有害成分的废气予以排放。2.根据权利要求1所述的有害气体综合处理系统，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：金炫澔，鲁学宰，尹今洙，
申请(专利权)人：明成环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR