温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种把半导体制造工艺发生的有害气体予以净化处理后排放的综合处理系统，更详细地说，该有害气体综合处理系统在壳体内统合性地设有洗涤除尘装置、电气集尘装置、催化反应装置而能够同时处理所排放的酸性气体(亦即，HF气体与HCl气体)、温室气...
该专利属于明成环保科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过明成环保科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。