The invention discloses a double-sided coated glass applied in visible and near infrared light bands and a production process. The double-sided coated glass comprises a glass base material, and the front and back sides of the glass base material are coated with AR antireflective nanocomposite layer. The production process includes preparing glass substrates and using sputtering coating equipment to prepare AR Antireflective and antireflective nanocomposite coatings on the front and back of glass substrates. The invention uses a sputtering coating equipment to complete the thickness superposition of the film at one time, and has the antireflective effect in the visible and infrared bands of 500 to 1200 nm.
【技术实现步骤摘要】
应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃及生产工艺
本专利技术涉及应用于可见光和近红外光波段的的镀膜玻璃,尤其涉及一种应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃及生产工艺。
技术介绍
增透膜,也叫减反射膜,在现代光学仪器上应用比较广泛。如照相机、摄像机、显微镜、各类显示屏等等。随着科技的发展,越来越多的军工、医疗仪器显示仪已经综合多功能使用,光学系统的工作波段可能要覆盖可见、微光、红外等波段。这样的光学系统比较复杂,光学零件很多,光能的损失也很大,这就需要工作光谱范围很宽的宽带增透膜来改善光学元件成像质量。国内外研究红外增透膜,大都采用氟化物材料制作红外增透膜,但氟化物材料易吸潮、且少量溶于水,材料可选性小,膜层性能差。有些还具有放射性和一定的毒性,如氟化钍,许多国家已禁止做为膜料使用。由于氟化物不能在空气中长时间应用,所以这种红外增透膜并不适合做光学仪器显示屏采用。因氟化物的缺陷,多层膜结构的宽波段红外增透膜逐步被推广,国内也在研究多层膜结构的宽波段红外增透膜,以解决氟化物材料制作红外膜的缺陷,常采用TIO2、SIO2、MgF2、Al2O3等材料组合,所设计的膜层多达几十层,最少的材料组合也有11层之多,膜厚达到0.6μm,有的比此还更厚。目前,常用的磁控溅射镀膜设备种类中,主要是单箱体旋转镀膜设备和连续式组合箱体的镀膜线,单箱体旋转镀膜设备,基片可以在镀膜箱内无限次旋转,膜层可以往复叠加,每层膜厚也可以做得很厚。连续式磁控溅射镀膜线,不同于单体镀膜设备,其真空镀膜箱多个组合一般长度40-60米,能排列磁控溅射靶位数有限,基片从进口到通过溅射箱室再到出口出 ...
【技术保护点】
1.一种应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,包括有玻璃基材(1),所述玻璃基材(1)的正面和反面均镀制有AR增透减反射纳米复合层。
【技术特征摘要】
1.一种应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,包括有玻璃基材(1),所述玻璃基材(1)的正面和反面均镀制有AR增透减反射纳米复合层。2.如权利要求1所述的应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,所述AR增透减反射纳米复合层包括有第一氧化铌层(2)和第一二氧化硅层(3),所述第一氧化铌层(2)和第一二氧化硅层(3)由内至外依次镀制于玻璃基材(1)表面。3.如权利要求2所述的应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,所述第一二氧化硅层(3)的外表面镀制有第二氧化铌层(4),所述第二氧化铌层(4)的外表面镀制有第二二氧化硅层(5)。4.如权利要求3所述的应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,所述第一氧化铌层(2)的厚度为27nm~29nm,所述第一二氧化硅层(3)的厚度为65nm~70nm,所述第二氧化铌层(4)的厚度为21nm~24nm,所述第二二氧化硅层(5)的厚度为157nm~162nm。5.如权利要求1所述的应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃,其特征在于,所述AR增透减反射纳米复合层包括有氧化钛层和第一二氧化硅层(3),所述氧化钛层和第一二氧化硅层(3)由内至外依次镀制于玻璃基材(1)表面。6.一种应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃生产工艺,其特征在于,该工艺包括:准备玻璃基材(1),利用溅射镀膜设备在玻璃基材(1)的正面和反面镀制AR增透减反射纳米复合层。7.如权利要求6所述的应用于可见光和近红外光波段的双面镀膜玻璃生产工艺,其特征在于,镀制AR增透减反射纳米复合层的过程包括:准备连续式磁控溅射镀膜设备,按AR增透减反射纳米复合层的设计膜系,确定所述第一氧...
【专利技术属性】
技术研发人员:詹达勇,张忠义,卓小龙,杨航军,
申请(专利权)人:深圳市三鑫精美特玻璃有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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