一种匀胶显影机的供液装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种匀胶显影机的供液装置，包括供液箱，供液装置还包括两个缓存罐，缓存罐均通过供液管路与供液箱的进液口连通，供液管路包括两段主进液管段和两段分出液管段，两个主进液管段伸入到对应缓存罐底部，分出液管段的另一端分别与对应的进液口连通；缓存罐的顶部设置有进气口，该进气口的下端处于缓存罐的液面的上方，进气口与供液压缩空气系统连通，供液箱内的上部和下部分别设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器、电磁阀、供液压缩空气系统的动力源均与控制器电连接。该供液装置在加液时不会带入杂质，同时两个缓存罐相互切换使用可延长补液的时间。

A liquid feeding device for a leveling developer

The utility model discloses a liquid feeding device of a leveling developer, which comprises a liquid feeding tank and two buffer tanks. The buffer tanks are connected with the liquid inlet of the liquid feeding tank through the liquid feeding pipeline. The liquid feeding pipeline includes two main inlet and two separate outlet sections. The two main inlet sections extend to the bottom of the corresponding buffer tank, and the other end of the separate liquid pipeline section corresponds to each other. The top of the buffer tank is provided with an air inlet, the lower end of which is above the liquid level of the buffer tank, and the air inlet is connected with the hydraulic compressed air system. The upper and lower parts of the tank are respectively provided with upper and lower liquid level sensors, and the power sources of the upper and lower liquid level sensors, solenoid valves and the hydraulic compressed air system are controlled. Electrical connection. The feeding device will not bring impurities into the filling process, and the switching of the two buffer tanks can prolong the filling time.

【技术实现步骤摘要】
一种匀胶显影机的供液装置
本技术涉及一种供液装置，尤其涉及一种匀胶显影机的供液装置。
技术介绍
在半导体行业中，光刻和显影是两个重要的步骤，显影过程在显影机上完成，显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程，显影的基本过程是：对准曝光(光刻机)→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片降温到23℃左右，而目前的匀胶显影机先通过多个冷板对硅片冷却，冷却后的硅片才通过显影液显影。而目前的匀胶显影机的显影液是储存在设备内部的供液箱中，显影液在工作时持续使用，一般在供液箱内设置了液位传感器用来检测供液箱内的显影液量，当量不够时，需要打开设备内的供液箱的箱盖，然后手工添加，或者是通过输送泵将外置的缓存罐内的的显影液输送给供液箱内部。然利用输送泵进行输送可能引入一些杂质，这样影响了硅片的显影效果。另外缓存罐在补液时也不方便，需要频繁补液。另外，由于气候的变化，因此显影液的温度可能有波动，而硅片在显影时需要显影液与硅片的温度保持基本一致，因此，当天气寒冷时，显影液由于相对长的一段时间处于缓存罐中，这样温度会降低，因此也会影响显影的效果。技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀胶显影机的供液装置，包括设置于匀胶显影机中的供液箱，其特征在于：所述供液箱上设置有进液口，所述供液装置还包括两个缓存罐，每个缓存罐均通过供液管路与供液箱的进液口连通，所述供液管路包括两段主进液管段和两段分出液管段，两个主进液管段一一对应伸入到对应缓存罐底部，每段分出液管段的一端均与两段主进液管段连通，分出液管段的另一端分别与对应的进液口连通；所述两段主进液管段上分别设置有电磁阀，所述缓存罐的顶部设置有进气口，该进气口的下端处于缓存罐的液面的上方，所述进气口与供液压缩空气系统连通，所述供液箱内的上部和下部分别设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器、电磁阀、供液压缩...

【技术特征摘要】
1.一种匀胶显影机的供液装置，包括设置于匀胶显影机中的供液箱，其特征在于：所述供液箱上设置有进液口，所述供液装置还包括两个缓存罐，每个缓存罐均通过供液管路与供液箱的进液口连通，所述供液管路包括两段主进液管段和两段分出液管段，两个主进液管段一一对应伸入到对应缓存罐底部，每段分出液管段的一端均与两段主进液管段连通，分出液管段的另一端分别与对应的进液口连通；所述两段主进液管段上分别设置有电磁阀，所述缓存罐的顶部设置有进气口，该进气口的下端处于缓存罐的液面的上方，所述进气口与供液压缩空气系统连通，所述供液箱内的上部和下部分别设置有上液位传感器和下液位传感器，上液位传感器、下液位传感器、电磁阀、供液压缩空气系统的动力源均与控制器电连接。2.如权利要求1所述的一种匀胶显影机的供液装置，其特征在于：所述供液压缩空气系统的动力源为供液压缩机，该供液压缩空气系统包括惰性气体存储罐，惰性气体存储罐的出气口和缓存罐的进气口之间设置有供液压缩空气供入管道连通，该供液压缩机设置于供液压缩空气供入管道上。3.如权利要求2所述的一种匀胶显影机的供液装置，其特征在于：所述缓存罐的顶部设置有安全泄压阀。4.如权利要求3所述的一种匀胶显影机的供液装置，其特征在于：所述供液装...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁桃宝，吴啸，
申请(专利权)人：苏州晋宇达实业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32