一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备和操作方法技术

本发明专利技术提供了一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，还包括机架，机架被放电部分分割成左右两部分，右部分为封闭的空间，左部分为开放空间，处理平台原始状态为在左部分，处理平台下方的一侧设有第一导杆，下方另一侧设有第二导杆，第一导杆被第一导杆支架支撑，第二导杆被第二导杆支架支撑，处理平台的下方，第一导杆和第二导杆的中间位置设有丝杆，丝杆带动处理平台左右平移，丝杆和电机连接，电机设置在右部分，右部分的右侧内框设有排气口。本发明专利技术采用低温等离子体表面改性技术通过等离子体处理后，处理效果高，均匀性好，温度低，并能够在材料表面形成活性分子，并且外观不受影响，无污染。

An Atmospheric Pressure Low Temperature Plasma Flake Film Processing Equipment and Operating Method

The invention provides an atmospheric pressure cryogenic plasma sheet film processing equipment, which also includes a rack. The rack is divided into left and right parts by the discharging part, the right part is closed space, the left part is open space, the original state of the processing platform is in the left part, one side under the processing platform is equipped with a first guide rod, the other side is equipped with a second guide rod, and the first guide rod is first. The first guide rod and the second guide rod are supported by the second guide rod bracket. Under the processing platform, the middle position of the first guide rod and the second guide rod is provided with a screw rod. The screw rod drives the processing platform to move left and right, and the screw rod is connected with the motor. The motor is set in the right part, and the right inner frame of the right part is provided with an exhaust port. The low temperature plasma surface modification technology adopted by the invention has high treatment effect, good uniformity, low temperature, and can form active molecules on the surface of materials, and the appearance is not affected and pollution-free.

【技术实现步骤摘要】
一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备和操作方法
本专利技术属于低温等离子领域，涉及一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备和操作方法。
技术介绍
等离子体是一种高能量的物质聚集态，其中含有大量的电子、离子、激发态的原子、分子、光子和自由基等活性粒子。利用等离子体对材料进行处理可引起材料表面的物理变化（如刻蚀、解吸、溅射、注入、激发和电离等）和化学变化（如氧化、分解、交联、聚合和接枝等），以达到改变材料表面特性（包括亲水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防静电性以及生物适应性）的目的。低温等离子体的电子能量一般约为几个到几十个电子伏特，高于聚合物中常见的化学键能。因此，等离子体可以有足够的能量引起聚合物内的各种化学键发生断裂或重组。表现在大分子的降解，材料表面和外来气体、单体在等离子体作用下发生反应。近年来，等离子体表面改性技术在材料改性上的应用已成为等离子体技术的一个研究热点。低温等离子处理分为等离子体聚合和等离子体表面处理。等离子体聚合是利用放电把有机类气态单体等离子体化，使其产生各类活性物质，由这些活性物质之间或活性物质与单体之问进行加成反应形成聚合物。而等离子体表面处理是利用本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，包括电极（4）和处理平台（1），所述的处理平台（1）位于电极（4）的下方，其特征在于：所述的电极（4）设置在放电部分（23）内，还包括机架（6），所述的机架（6）被放电部分（23）分割成左右两部分，所述的右部分为封闭的空间，左部分为开放空间，所述的处理平台（1）原始状态为在左部分，所述处理平台（1）下方的一侧设有第一导杆（15），下方另一侧设有第二导杆（21），第一导杆（15）被第一导杆支架（16）支撑，第二导杆（21）被第二导杆支架（22）支撑，所述的处理平台（1）的下方，第一导杆（15）和第二导杆（21）的中间位置设有丝杆（3），所述的第一导杆（...

【技术特征摘要】
1.一种大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，包括电极（4）和处理平台（1），所述的处理平台（1）位于电极（4）的下方，其特征在于：所述的电极（4）设置在放电部分（23）内，还包括机架（6），所述的机架（6）被放电部分（23）分割成左右两部分，所述的右部分为封闭的空间，左部分为开放空间，所述的处理平台（1）原始状态为在左部分，所述处理平台（1）下方的一侧设有第一导杆（15），下方另一侧设有第二导杆（21），第一导杆（15）被第一导杆支架（16）支撑，第二导杆（21）被第二导杆支架（22）支撑，所述的处理平台（1）的下方，第一导杆（15）和第二导杆（21）的中间位置设有丝杆（3），所述的第一导杆（15）、第二导杆（21）、丝杆（3）长度相等，都是一半在左部分，一半在右部分，所述的丝杆（3）带动处理平台（1）左右平移，所述的丝杆（3）和电机（2）连接，所述的电机（2）设置在右部分，所述的右部分的右侧内框设有排气口（5）。2.如权利要求1所述的大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，其特征在于：所述的电极（4）被第一固定板（18）固定，电极（4）上方设有第二固定板（19），所述的第二固定板（19）上左右两端设置有升降螺纹，所述的升降螺纹一端和第二固定板（19）连接，另一端和放电部分（23）的顶部连接，所述的升降螺纹通过调节旋钮（12）来旋转调节高低，所述的调节旋钮（12）从放电部分（23）中伸出，所述的第一固定板（18）两侧设有支撑板（20）。3.如权利要求2所述的大气压低温等离子体片状薄膜处理设备，其特征在于：所述的第二固定板（19）在两个升降螺纹之间设有...

【专利技术属性】
技术研发人员：周玥，
申请(专利权)人：南京珀斯佩特电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32