一种蒸镀仪用基片盘装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术揭示了一种蒸镀仪用基片盘装置，由上而下依次包括上、下金属盘，及设于两者间的掩膜版，上金属盘上方有样品托，上金属盘上开设有样品托槽，样品托的底部向下凸设有定位柱；样品托上开设有用于放置基片的基片孔，样品托的底部还向下凸出设置有用于承接基片的承接柱，承接柱设置于所述基片孔的端部，且承接柱设置于掩膜版的让位孔正上方。本实用新型专利技术效果为在镀膜时，基片与掩模版直接接触，不会出现薄膜边缘呈锯齿状或阴影；样品托方便取下来放置基片，基片通过与样品托公差配合，保证其在样品托内稳定不移动，使得基片与掩模版镂空图案保持一致，不会出现材料薄膜镀偏。发光面积大小统一，提高了镀膜产品的良率。

A Substrate Disk Device for Evaporator

The utility model discloses a substrate disc device for an evaporator, which comprises an upper and a lower metal disc in turn, and a mask plate arranged between the two. A sample bracket is arranged above the upper metal disc, a sample bracket is arranged on the upper metal disc, and a positioning column is arranged downward convex at the bottom of the sample bracket; a substrate hole for placing the substrate is arranged on the sample bracket, and the bottom of the sample bracket is also arranged downward convex. A bearing column for receiving the substrate is arranged at the end of the substrate hole, and the bearing column is arranged directly above the yield hole of the mask plate. The utility model has the effect that when coating, the substrate contacts the mask directly, and the edge of the film is not serrated or shaded; the sample holder is convenient to take down and place the substrate, and the substrate is stable and not moved in the sample holder by cooperating with the tolerance of the sample holder, so that the hollow pattern of the substrate and the mask keeps the same, and the film deviation of the material does not occur. The uniform size of luminous area improves the yield of coated products.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸镀仪用基片盘装置
本技术属于真空镀膜
，尤其涉及一种蒸镀仪用基片盘装置。
技术介绍
有机发光二极管（OrganicLight-EmittingDiode,OLED）又称为有机电激光显示、有机发光半导体（OrganicElectroluminesenceDisplay，OLED）。通常用ITO导电薄膜做阳极，金属材料做阴极，中间沉淀一层有机发光材料作为发光层。当OLED接通电源之后，金属阴极会产生电子，而ITO阳极会产生空穴，在电场力的作用下，电子和空穴分别通过各自对应的传输层在有机发光层结合，形成激子，激子激发发光分子使得发光分子的能量提高，处于激发状态，而处于激发状态的分子则会释放光子以回到稳定状态。发光层材料的成分不同，所发出光的颜色也就不同，因此通过选择不同的发光材料，可获得红、蓝、绿，实现全彩显示屏。目前中小尺寸的OLED一般采用高精度金属掩模版蒸镀，在每一个像素点都镀上不同颜色的发光材料。即通过FMM（FineMetalMask）精密金属光学掩模版蒸镀，使像素点分别能够发出红/绿/蓝三原色，再经过色光叠加成其他颜色。现有的掩模版都是装配在下托盘上，基片放置于上托盘上，同时，为了防止在提升上托盘进行在线切换掩模版时基片脱落，上托盘的基片槽下方还需再装0.2毫米的挡片，这就导致了基片与掩模版之间存在0.2毫米的间隙，将严重影响材料蒸汽有效的透过掩模版附着在基片上，从而导致镀到基片上的薄膜边缘呈锯齿装或出现阴影。同时，基片直接放置在基片槽内，需要人工用真空吸笔从上托盘把基片取出，由于角度很难控制，所以基片槽尺寸公差需要放大才能取出基片，这就导致基片在基片槽内会进行移动，容易导致材料蒸汽不能很精准的镀到基片上的正确位置，使镀出的薄膜位置出现偏差。以上得问题都会对OLED器件的发光面积、发光效率、使用寿命都有很大的影响。
技术实现思路
鉴于现有技术存在上述缺陷，本技术的目的在于提供一种蒸镀仪用基片盘装置。本技术的目的，将通过以下技术方案得以实现：一种蒸镀仪用基片盘装置，由上而下依次包括上金属盘、下金属盘，及设置于所述上金属盘与下金属盘中间的掩膜版，所述上金属盘上方还设置有一用于放置基片的样品托，所述上金属盘上开设有用于放置样品托的样品托槽，所述样品托的底部向下凸设有定位柱，所述样品托通过定位柱设置于所述上金属盘的样品托槽内；所述样品托上开设有用于放置基片的基片孔，所述样品托的底部还向下凸出设置有用于承接基片的承接柱，所述承接柱设置于所述基片孔的端部，且所述承接柱设置于所述掩膜版的让位孔正上方。优选地，所述上金属盘设置有用于使得上、下金属盘实现重叠定位的定位销。优选地，所述定位销设置有三个。优选地，所述定位柱设置有两个，分别置于样品托的两端。优选地，所述定位柱的截面为圆形。优选地，所述承接柱截面为圆形，且所述承接柱通过连接柱连接于所述样品托的底部，所述连接柱的直径小于所述承接柱直径，所述连接柱的切线与所述基片孔的边缘在同一直线上。优选地，所述连接柱分别在基片孔的四个端部，设置有两个，且分别设置于基片孔的相邻边上。本技术突出效果为：1、在镀膜时，基片与掩模版直接接触，不会出现薄膜边缘呈锯齿状或阴影；对于oled器件，其发光效率、亮度会大大提高。2、样品托方便取下来放置基片，基片通过与样品托公差配合，保证其在样品托内稳定不移动，使得基片与掩模版镂空图案保持一致，不会出现材料薄膜镀偏。发光面积大小统一，提高了镀膜产品的良率。以下便结合实施例附图，对本技术的具体实施方式作进一步的详述，以使本技术技术方案更易于理解、掌握。附图说明图1：本技术的爆炸图。图2：本技术的样品托的立体结构示意图。图3：本技术的俯视图。图4：图3的B-B的剖面结构示意图。图5：图4中的局部放大示意图。具体实施方式本技术揭示了一种蒸镀仪用基片盘装置，结合图1-图5所示，与现有技术类似，由上而下依次包括上金属盘2、下金属盘4，及设置于所述上金属盘2与下金属盘4中间的掩膜版3。与现有技术不同的是，所述上金属盘上方还设置有一用于放置基片的样品托1，所述上金属盘上2开设有用于放置样品托的样品托槽21，为了能使得样品托1能更快速的放置于样品托槽内，所述样品托1的底部向下凸设有定位柱11，所述定位柱11设置有两个，分别置于样品托1的两端。一般来说，为方便定位，所述定位柱的截面为圆形。所述样品托1通过定位柱11设置于所述上金属盘的样品托槽21内。所述样品托1上开设有用于放置基片的基片孔7，所述样品托1的底部还向下凸出设置有用于承接基片的承接柱6，所述承接柱6设置于所述基片孔的端部，且所述承接柱6设置于所述掩膜版的让位孔正上方。且，所述承接柱6与所述让位孔的直径相当，即所述承接柱6在镀膜时将穿设于所述让位孔内。以使得基片与所述掩膜版完全接触。而样品托在单独放置基片时，所述的基片放置于所述基片孔7内时，基片的底部将与所述承接柱6的上端面接触。所述承接柱6截面为圆形。为了使得基片8与掩膜版3接触，所述承接柱6通过连接柱连接于所述样品托的底部。且所述连接柱的直径小于所述承接柱直径，所述连接柱的切线与所述基片孔的边缘在同一直线上。即，所述连接柱的外侧不超过基片孔7。具体的，所述连接柱分别在基片孔的四个端部，数量为有两个，且分别设置于基片孔的相邻边上。为了能更好的使得上、下金属盘重叠，所述上金属盘2设置有用于使得上、下金属盘实现重叠定位的定位销5，所述定位销5均布于所述上金属盘2的周圈，本实施例中设置有3个。本技术中对于定位销及定位柱的形状限制，并不是唯一，也可以采用其他形状，能达到定位的目的即可。为更好的理解本技术，以下简述下本技术的工作原理：将基片放置于样品托1内，所述样品托1通过底部的定位柱11置于上金属盘2的样品托槽21内，所述上金属盘2上开设有与所述定位柱11相应的定位柱孔22。将掩膜版3固定于下金属盘4上，上金属盘2通过定位销5与下金属盘4进行重叠定位，此时掩膜版夹设于上、下金属盘内。基片与掩膜版3完全接触，在镀膜时，材料蒸汽透过下金属盘穿过掩膜版的镂空图形，附着于基片表面，避免了现有技术中由于无法完全接触而产生的不足和缺点。本技术尚有多种实施方式，凡采用等同变换或者等效变换而形成的所有技术方案，均落在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀仪用基片盘装置，由上而下依次包括上金属盘、下金属盘，及设置于所述上金属盘与下金属盘中间的掩膜版，其特征在于：所述上金属盘上方还设置有一用于放置基片的样品托，所述上金属盘上开设有用于放置样品托的样品托槽，所述样品托的底部向下凸设有定位柱，所述样品托通过定位柱设置于所述上金属盘的样品托槽内；所述样品托上开设有用于放置基片的基片孔，所述样品托的底部还向下凸出设置有用于承接基片的承接柱，所述承接柱设置于所述基片孔的端部，且所述承接柱设置于所述掩膜版的让位孔正上方。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀仪用基片盘装置，由上而下依次包括上金属盘、下金属盘，及设置于所述上金属盘与下金属盘中间的掩膜版，其特征在于：所述上金属盘上方还设置有一用于放置基片的样品托，所述上金属盘上开设有用于放置样品托的样品托槽，所述样品托的底部向下凸设有定位柱，所述样品托通过定位柱设置于所述上金属盘的样品托槽内；所述样品托上开设有用于放置基片的基片孔，所述样品托的底部还向下凸出设置有用于承接基片的承接柱，所述承接柱设置于所述基片孔的端部，且所述承接柱设置于所述掩膜版的让位孔正上方。2.根据权利要求1所述的一种蒸镀仪用基片盘装置，其特征在于：所述上金属盘设置有用于使得上、下金属盘实现重叠定位的定位销。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：颜峰，陈敏，徐飞，
申请(专利权)人：苏州方昇光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32