一种砂粉回收装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种砂粉回收装置，包括沉淀机构和设置于沉淀机构上的盖板机构，沉淀机构包括沉淀槽、第一隔板、第二隔板和设置于沉淀槽上的进水口、第一排水口、第二排水口，沉淀槽为两端封闭的凹形槽，进水口还靠近沉淀槽的槽口设置，进水口连接于背损伤机的砂液排放端口，沉淀槽的另一侧面还设有第二排水口；第一隔板设置于沉淀槽的内部，第二隔板固定于沉淀槽内，盖板机构设置于沉淀槽的槽口处；盖板机构包括板体和设置于板体上的把手，板体的底面覆盖于沉淀槽的槽口处，板体底面的大小大于沉淀槽槽口的大小，把手与第二隔板分别设置于板体的两侧。本实用新型专利技术可以对背部损伤机排放的大部分砂粉实现回收利用，降低生产成本。

A Sand Powder Recovery Device

The utility model provides a sand powder recovery device, which comprises a settling mechanism and a cover plate mechanism arranged on the settling mechanism. The settling mechanism comprises a settling tank, a first partition board, a second partition board and a water inlet, a first drainage port and a second drainage outlet arranged on the settling tank. The settling tank is a groove closed at both ends. The water inlet is also arranged near the groove of the settling tank, and the water inlet is connected with the groove of the settling tank. The sand discharge port of the back damage machine is provided with a second drainage outlet on the other side of the sedimentation tank; the first separator is set in the interior of the sedimentation tank, the second separator is fixed in the sedimentation tank, and the cover mechanism is set at the slot mouth of the sedimentation tank; the cover mechanism consists of a plate body and a handle arranged on the plate body; the bottom surface of the plate body is covered at the slot mouth of the sedimentation tank, and the size of the bottom surface of the plate body is larger than that of the sedimentation tank. The size of the groove opening, the handle and the second separator are respectively arranged on both sides of the plate body. The utility model can recover and utilize most of the sand powder discharged by the back damage machine and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种砂粉回收装置
本技术属于单晶硅抛光片背面软损伤吸杂
，主要目的是提供一种用于硅片背面软损伤的砂粉回收装置。
技术介绍
金属沾污、晶格缺陷在半导体器件生产的过程中是无处不在的，而杂质吸除是减少硅片中金属杂质、降低某些晶格缺陷、提高硅片质量的行之有效的方法。随着集成电路（IC）的发展，对硅材料的质量提出越来越高的要求。为了满足超大规模集成电路发展的需要，除了改进单晶硅生产技术外，通常在IC用硅片背面进行特殊的加工，具体为用杂质吸除技术保证硅片的质量，常用的技术为采用喷砂法以使硅片背面形成软损伤，从而实现其金属及晶格缺陷的吸除性能。喷砂发是一种比较常见的背面软损伤工艺，该工艺主要采用混有一定粒径的颗粒状砂粉（如SiO2）的水溶液形成的砂浆，在一定压空压力下带动砂浆对在移动传送带上的硅片进行喷砂，以达到在硅片表面形成一层软损伤层的方法。由于硅片在背面软损伤到清洗的整个过程中都是在湿法工艺中进行的，大量的砂粉会在硅片表面随着纯水的冲洗而流失，砂粉随冲洗水杯排入下水地沟中，进而造成大量砂粉的浪费。
技术实现思路
为解决上述问题，本技术提供一种砂粉回收装置，可以对背部损伤机排放的大部分砂粉实现回收利用，大幅度降低了砂粉的消耗量，降低生产成本。为了实现上述目的，本技术采用的技术方案为：一种砂粉回收装置，包括沉淀机构和设置于沉淀机构上的盖板机构，其特征在于：所述沉淀机构包括沉淀槽、第一隔板、第二隔板和设置于沉淀槽上的进水口、第一排水口、第二排水口，所述沉淀槽为两端封闭的凹形槽，所述进水口和所述第一排水口设置于所述沉淀槽的一侧面，进水口还靠近沉淀槽的槽口设置，所述进水口连接背损伤机的砂液排放端口，所述第一排水口靠近沉淀槽的底部设置，沉淀槽的另一侧面还设有所述第二排水口；所述第一隔板设置于所述沉淀槽的内部，第一隔板还分别与沉淀槽的槽底和两个侧壁相接触，所述第二隔板固定于所述沉淀槽内，第二隔板的两端分别连接于沉淀槽两侧的内壁，所述盖板机构设置于沉淀槽的槽口处；所述盖板机构包括板体和设置于板体上的把手，所述板体的底面覆盖于所述沉淀槽的槽口处，板体底面的大小大于沉淀槽槽口的大小，所述把手与所述第二隔板分别设置于板体的两侧。进一步的，所述沉淀槽的底部还设有便于砂粉回收装置移动和放置的四个脚轮。进一步的，所述沉淀槽上还设有溢流口，所述溢流口的水平高度与所述进水口的水平高度相一致。进一步的，所述第一排水口、所述第二排水口和溢流口还均连接于下水管道。进一步的，所述第二排水口的水平高度低于所述进水口的水平高度且高于所述第一排水口的水平高度。进一步的，沉淀槽的槽底和两个侧壁还分别设有可供第一隔板放置的凹槽，第一隔板还垂直设置于槽底和两个侧壁的凹槽中，第二隔板一端的水平高度与沉淀槽槽口的水平高度相同，第二隔板的另一端设置于沉淀槽的内部。进一步的，所述第一隔板和所述第二隔板均设置为两个，第一隔板与第二隔板还互为交替设置。本技术的有益效果为：1、本技术的一种砂粉回收装置，通过沉淀机构和盖板机构的设置，实现砂粉的回收，安装及操作方便，有效解决目前硅片背面软损伤工艺过程中砂粉大量消耗而使运行成本增高的问题，减少新砂粉使用量，大幅度降低生产成本；2、本技术的一种砂粉回收装置设置了第一隔板和第二隔板，第一隔板通过凹槽沿垂直方向插设于沉淀槽中，为可拆卸的隔板，其作用是加大在有限长度的沉淀槽体内啥也的移动距离，增加砂粉的沉淀量，同时可拆卸的隔板还方便后续沉淀槽内砂粉的收集；第二隔板固定于盖板机构的板体上，为固定隔板，固定隔板的作用是减缓砂液从背损伤机中进入沉淀槽时产生的震动，砂液震动越小，砂粉越容易沉淀。附图说明图1为本技术的结构示意图；图2为本技术的俯视图；图3为本技术的侧视图。其中，图中各标号为：1、沉淀槽；2、板体；3、把手；4、脚轮；5、进水口；6、第一排水口；7、第二排水口；8、溢流口；9、第一隔板；10、第二隔板。具体实施方式下面将结合本技术的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术的一种砂粉回收装置，包括沉淀机构和设置于沉淀机构上的盖板机构，在使用时，首先把背损伤机中砂液排放端口与砂粉回收装置的进水口5相连接，盖上盖板机构，防止外界颗粒进入沉淀的砂粉中，背损伤机工作期间持续不断的为砂粉回收装置提供砂液。沉淀机构包括沉淀槽1、第一隔板9和设置于沉淀槽1上的进水口5、第一排水口6、第二排水口7，沉淀槽1是一个连通装置，可以设置为矩形槽，主要用来盛放和沉淀纯水稀释过的砂液，槽体上方设置盖板机构，盖板机构的作用是为了防止空气中的其他颗粒进入溶液，降低收集的砂粉的纯度，避免不纯的砂粉在后续使用中影响硅片的质量；盖板机构的把手3加装在板体上方，设置为两个，方便盖板机构的开启和关闭。脚轮4的位置在沉淀槽1的底部的四个角落均匀分布，方便了整个砂粉回收装置的移动和放置；进水口5的位置距离沉淀槽1槽底40cm处且与背部损伤机的砂液出口相连接，主要作用是背部损伤机排出的砂液的输入；第二排水口7比进水口5的水平线低5cm且与下水管道相连接，作用是在砂粉回收装置工作的新情况下进行排水，第一排水口6距沉淀槽1槽底2cm，也与下水管管道相连接，其作用是在砂粉回收装置停止工作的时候进行快速排水；溢流口8的位置在于进水口5的同一高度的水平线上且与下水管道相连，其作用是在第二排水口7堵塞时，及时把沉淀槽1槽体的砂液排出，避免砂液从沉淀槽1中溢出。两个第一隔板9的与沉淀槽1的底部和侧壁相接触，具体是垂直插设于沉淀槽1底部和两个侧壁的凹槽内，沉淀槽1底部凹槽的两端分别与沉淀槽1两个侧壁的凹槽相连接，三个凹槽构成的凹槽框可供第一隔板1插入，其作用是加大在有限长度的沉淀槽1槽体内砂液移动的距离，在砂液流速相同的情况下，砂液移动的月圆，沉淀的砂粉越多，其中，设计成可拆卸的不低是为了方便后续砂粉的收集；两个第二隔板10一端的位置与沉淀槽1槽口同高，与侧壁相连且距离沉淀槽1的槽底10cm，其主要作用是减缓啥也从背损伤机中进入沉淀槽1内部时产生巨大的震动，砂液的震动越小，砂粉越容易沉淀。利用本技术的一种砂粉回收装置，回收装置本身的结构简单，安装操作方便，可以有效解决目前现有砂粉大量消耗而运行成本高的问题，减少了新砂份使用量、大幅度降低生产成本。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种砂粉回收装置，包括沉淀机构和设置于沉淀机构上的盖板机构，其特征在于：所述沉淀机构包括沉淀槽、第一隔板、第二隔板和设置于沉淀槽上的进水口、第一排水口、第二排水口，所述沉淀槽为两端封闭的凹形槽，所述进水口和所述第一排水口设置于所述沉淀槽的一侧面，进水口还靠近沉淀槽的槽口设置，所述进水口连接背损伤机的砂液排放端口，所述第一排水口靠近沉淀槽的底部设置，沉淀槽的另一侧面还设有所述第二排水口；所述第一隔板设置于所述沉淀槽的内部，第一隔板还分别与沉淀槽的槽底和两个侧壁相接触，所述第二隔板固定于所述沉淀槽内，第二隔板的两端分别连接于沉淀槽两侧的内壁，所述盖板机构设置于沉淀槽的槽口处；所述盖板机构包括板体和设置于板体上的把手，所述板体的底面覆盖于所述沉淀槽的槽口处，板体底面的大小大于沉淀槽槽口的大小，所述把手与所述第二隔板分别设置于板体的两侧。

【技术特征摘要】
1.一种砂粉回收装置，包括沉淀机构和设置于沉淀机构上的盖板机构，其特征在于：所述沉淀机构包括沉淀槽、第一隔板、第二隔板和设置于沉淀槽上的进水口、第一排水口、第二排水口，所述沉淀槽为两端封闭的凹形槽，所述进水口和所述第一排水口设置于所述沉淀槽的一侧面，进水口还靠近沉淀槽的槽口设置，所述进水口连接背损伤机的砂液排放端口，所述第一排水口靠近沉淀槽的底部设置，沉淀槽的另一侧面还设有所述第二排水口；所述第一隔板设置于所述沉淀槽的内部，第一隔板还分别与沉淀槽的槽底和两个侧壁相接触，所述第二隔板固定于所述沉淀槽内，第二隔板的两端分别连接于沉淀槽两侧的内壁，所述盖板机构设置于沉淀槽的槽口处；所述盖板机构包括板体和设置于板体上的把手，所述板体的底面覆盖于所述沉淀槽的槽口处，板体底面的大小大于沉淀槽槽口的大小，所述把手与所述第二隔板分别设置于板体的两侧。2.根据权利要求1所述的一种砂粉回收装置，其特征在于：所述沉淀槽的底部还设有便于砂粉回收装置移动和放置的...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩云霄，杨波，崔小换，
申请(专利权)人：麦斯克电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41