The utility model relates to the field of automation technology, in particular to an automatic silicon wafer cleaning device, which comprises a body, one side of the body is provided with an inlet and outlet, the other side of the body is provided with an outlet, the outlet is provided with an outlet, the body is provided with a cleaning mechanism, the first ultrasonic cleaning tank is close to the inlet and outlet, and two rollers are arranged on both sides of the cleaning mechanism. The rolling mechanism consists of two fixed plates. The fixed plates are movably connected with two second rollers. There are moving plates between the rolling mechanisms. The two ends of the moving plates are respectively located between the second rollers. The output shaft of the second expansion bar is fixed with one end of the moving plate. There are many first expansion bars above the moving plates between the rolling mechanisms, and the connecting plates are located above the installation plates. \u3002 The device reduces labor force and labor intensity, improves work efficiency and cleaning effect of silicon wafers, and reduces production costs of manufacturers.
【技术实现步骤摘要】
一种全自动硅片清洗装置
本技术涉及自动化
,尤其涉及一种全自动硅片清洗装置。
技术介绍
中国光伏市场装机量需求增长迅猛。劳动力短缺、人工成本不断攀升,导致太阳能厂商对自动化设备需求提升,对降低生产成本、提高产品良率有者显著的效果。现清洗设备使用厂商在硅片脱胶后,需要人工插片将清洗篮装满硅片,即花篮装满。然后通过小车周转托入清洗机进料处。待清洗后再由人工周转放入烘箱进行硅片烘干,烘干后再次周转到分选仪设备人工放篮。因此,现有的生产模式过于依赖人海战术,且产能不稳定,为此我们提出了一种全自动硅片清洗装置。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种全自动硅片清洗装置。为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:设计一种全自动硅片清洗装置,包括机体,所述机体的一侧设有进料口,所述进料口处设有进料机构,所述机体的另一侧设有出料口,所述出料口处设有出料机构,所述机体内设有清洗机构,所述清洗机构包括依次设置在机体内底部的第一超声清洗槽、第二超声清洗槽、第一超声碱洗槽、第二超声碱洗槽、第一超声漂洗槽、第二超声漂洗槽、酸洗槽、第三超声漂洗槽和第四超声漂洗槽,所述第一超声清洗槽靠近进料口,所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构,所述滚动机构包括两个固定板,所述固定板之间活动连接有两个第二滚轴,所述滚动机构之间设有移动板,所述移动板的两端分别位于第二滚轴之间,所述机体的内壁上设有第二伸缩杆,所述第二伸缩杆的输出轴与移动板的一端固定连接,所述滚动机构之间移动板的上方设有多个第一伸缩杆,所述第一伸缩杆的上方连接有安装板,所述第一超声清洗槽、第二超声清洗槽、 ...
【技术保护点】
1.一种全自动硅片清洗装置,包括机体(4),其特征在于,所述机体(4)的一侧设有进料口(2),所述进料口(2)处设有进料机构,所述机体(4)的另一侧设有出料口(14),所述出料口(14)处设有出料机构,所述机体(4)内设有清洗机构,所述清洗机构包括依次设置在机体(4)内底部的第一超声清洗槽(16)、第二超声清洗槽(17)、第一超声碱洗槽(18)、第二超声碱洗槽(19)、第一超声漂洗槽(20)、第二超声漂洗槽(21)、酸洗槽(22)、第三超声漂洗槽(23)和第四超声漂洗槽(24),所述第一超声清洗槽(16)靠近进料口(2),所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构,所述滚动机构包括两个固定板(31),所述固定板(31)之间活动连接有两个第二滚轴(30),所述滚动机构之间设有移动板(10),所述移动板(10)的两端分别位于第二滚轴(30)之间,所述机体(4)的内壁上设有第二伸缩杆(25),所述第二伸缩杆(25)的输出轴与移动板(10)的一端固定连接,所述滚动机构之间移动板(10)的上方设有多个第一伸缩杆(9),所述第一伸缩杆(9)的上方连接有安装板(8),所述第一超声清洗槽(16)、第二超声清 ...
【技术特征摘要】
1.一种全自动硅片清洗装置,包括机体(4),其特征在于,所述机体(4)的一侧设有进料口(2),所述进料口(2)处设有进料机构,所述机体(4)的另一侧设有出料口(14),所述出料口(14)处设有出料机构,所述机体(4)内设有清洗机构,所述清洗机构包括依次设置在机体(4)内底部的第一超声清洗槽(16)、第二超声清洗槽(17)、第一超声碱洗槽(18)、第二超声碱洗槽(19)、第一超声漂洗槽(20)、第二超声漂洗槽(21)、酸洗槽(22)、第三超声漂洗槽(23)和第四超声漂洗槽(24),所述第一超声清洗槽(16)靠近进料口(2),所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构,所述滚动机构包括两个固定板(31),所述固定板(31)之间活动连接有两个第二滚轴(30),所述滚动机构之间设有移动板(10),所述移动板(10)的两端分别位于第二滚轴(30)之间,所述机体(4)的内壁上设有第二伸缩杆(25),所述第二伸缩杆(25)的输出轴与移动板(10)的一端固定连接,所述滚动机构之间移动板(10)的上方设有多个第一伸缩杆(9),所述第一伸缩杆(9)的上方连接有安装板(8),所述第一超声清洗槽(16)、第二超声清洗槽(17)、第一超声碱洗槽(18)、第二超声碱洗槽(19)、第一超声漂洗槽(20)、第二超声漂洗槽(21)、酸洗槽(22)、第三超声漂洗槽(23)和第四超声漂洗槽(24)内均设有硅片放置架(32),所述硅片放置架(32)的两侧均设有连接板(5),所述连接板(5)位于安装板(8)的上方。2.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置,其特征在于,所述进料机构包括设置在机体(4)内的第一支架(3),并且第一支架(3)位于第一超声清洗槽(16)的一侧,所述第一支架(3)的另一侧通过进料口(2)延伸出去,所述第一支架(3)的上方活动连...
【专利技术属性】
技术研发人员:季丽,王松华,聂海洲,余志兵,
申请(专利权)人:浙江海顺新能源有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
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