气体引导机构及碳化硅降膜吸收器制造技术

本实用新型专利技术提供了一种气体引导机构及碳化硅降膜吸收器，涉及工业气体吸收设备技术领域，本实用新型专利技术提供的气体引导机构包括孔板和与孔板连接的多个气相管，其中：孔板上设有与多个气相管一一对应的多个通孔，孔板用于与吸收器管箱连接；气相管的第一端部插接于通孔中，气相管的第二端部具有多个出气孔，第二端部用于伸入碳化硅管，以将进入吸收器管箱内的工业气体直接导入碳化硅管。本实用新型专利技术提供的气体引导机构能够直接将吸收器管箱内的工业气体导入碳化硅管内，能够将吸收时释放的热量通过高效间壁换热的方式将热量带走，有效的避免局部温度升温过高，降低安全隐患。

Gas guide mechanism and silicon carbide falling film absorber

The utility model provides a gas guiding mechanism and a silicon carbide falling film absorber, which relates to the technical field of industrial gas absorption equipment. The gas guiding mechanism provided by the utility model includes a orifice plate and a plurality of gas phase pipes connected with the orifice plate. The orifice plate is provided with a plurality of through holes corresponding to a plurality of gas phase pipes one by one, and the orifice plate is used to connect with the first end of the gas phase pipe box. The second end of the gas phase tube is used for extending into the silicon carbide tube to direct the industrial gas entering the absorber tube box into the silicon carbide tube. The gas guiding mechanism provided by the utility model can directly import the industrial gas in the absorber tube box into the silicon carbide tube, and can take away the heat released during absorption by means of high efficiency heat transfer between walls, effectively avoid excessive local temperature rise and reduce the potential safety hazards.

【技术实现步骤摘要】
气体引导机构及碳化硅降膜吸收器
本技术涉及工业气体吸收设备
，尤其是涉及一种气体引导机构及碳化硅降膜吸收器。
技术介绍
碳化硅降膜吸收器用于工业上对气体的吸收，其防腐性能好、强度高。现有的碳化硅降膜吸收器在使用时，工业气体从碳化硅降膜吸收器上部进入，吸收液从上封头侧向进入，越过四氟挡板并与工业气体接触吸收，释放出大量热量；从四氟分布管处自流进入碳化硅管，壳体侧的冷却水可以将工业气体吸收过程释放的热量通过碳化硅管壁带走冷却。现有碳化硅降膜吸收器中工业气体吸收的部位和吸收后冷却部位是单独分开的，吸收了工业气体的吸收液在进入碳化硅管冷却之前局部可能会升温过高造成安全隐患。因此，如何提供一种吸收放热与冷却水降温同时进行的气体引导机构及碳化硅降膜吸收器是本领域技术人员需解决的技术问题之一。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种气体引导机构及碳化硅降膜吸收器，能够直接将吸收器壳体内的工业气体导入碳化硅管内，有效的避免局部温度升温过高，降低安全隐患。为实现上述目的，本技术提供以下技术方案：第一方面，本技术提供一种气体引导机构，包括孔板和与所述孔板连接的多个气相管，其中：所述孔板上设有与多个所述气相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体引导机构，其特征在于，包括孔板(1)和与所述孔板(1)连接的多个气相管(2)，其中：所述孔板(1)上设有与多个所述气相管(2)一一对应的多个通孔，所述孔板(1)用于与吸收器管箱(3)连接；所述气相管(2)的第一端部插接于所述通孔中，所述气相管(2)的第二端部具有多个出气孔(21)，所述第二端部用于伸入碳化硅管(4)，以将进入所述吸收器管箱(3)内的工业气体直接导入所述碳化硅管(4)。

【技术特征摘要】
1.一种气体引导机构，其特征在于，包括孔板(1)和与所述孔板(1)连接的多个气相管(2)，其中：所述孔板(1)上设有与多个所述气相管(2)一一对应的多个通孔，所述孔板(1)用于与吸收器管箱(3)连接；所述气相管(2)的第一端部插接于所述通孔中，所述气相管(2)的第二端部具有多个出气孔(21)，所述第二端部用于伸入碳化硅管(4)，以将进入所述吸收器管箱(3)内的工业气体直接导入所述碳化硅管(4)。2.根据权利要求1所述的气体引导机构，其特征在于，所述气相管(2)的第一端部贯穿所述通孔并与所述孔板(1)焊接。3.一种碳化硅降膜吸收器，其特征在于，包括吸收器管箱(3)、四氟管板(5)和多个碳化硅管(4)，还包括如权利要求1或2所述的气体引导机构，其中：所述气体引导机构中的孔板(1)与所述吸收器管箱(3)连接，所述气体引导机构中多个气相管(2)的第二端部一一对应的伸入多个所述碳化硅管(4)中；多个所述碳化硅管(4)通过所述四氟管板(5)与所述吸收器管箱(3)连接。4.根据权利要求3所述的碳化硅降膜吸收器，其特征在于，所述四氟管板(5)上设有与多个所述碳化硅管(4)一一对应插接的多个四氟分布管(6)，所述四氟分布管(6)用...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐鹏飞，李志刚，
申请(专利权)人：无锡英罗唯森科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32