一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔制造技术

本实用新型专利技术提供一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口、废气出口及塔身，废气入口设置于塔身左侧、废气出口设置于塔身右侧，所述喷淋系统包括喷头、供液管及供液泵，喷头设置于塔身顶部，供液泵设置于塔身外部，供液管分别与喷头及供液泵连接，所述回风系统包括风管及风机，所述风管一端与塔身顶部右侧连接、另一端与废气入口顶部连接，所述风机设置于风管中段。本实用新型专利技术所述的半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其对洗涤塔形成内部气体循环，降低废气流速，增加废气形成，从而提高废气吸收效率，在投资较低情况下避免洗涤塔总负荷达标但因局部废气吸收较差带来的废气外排。

A Multi-cycle High Efficiency Washing Tower for Semiconductor Workshop

The utility model provides a multi-cycle high-efficiency scrubbing tower for semiconductor workshop, which comprises a scrubbing tower body, a spraying system and a return air system. The scrubbing tower body comprises an exhaust gas inlet, an exhaust gas outlet and a tower body. The exhaust gas inlet is arranged on the left side of the tower body and the exhaust gas outlet is arranged on the right side of the tower body. The spraying system comprises a sprinkler head, a liquid supply pipe and a liquid supply pump, and the sprinkler head is arranged on the top of the tower The liquid supply pump is arranged outside the tower body, and the liquid supply pipe is connected with the nozzle and the liquid supply pump respectively. The air return system comprises an air duct and a fan. One end of the air duct is connected with the right side of the top of the tower body and the other end is connected with the top of the exhaust gas inlet. The fan is arranged in the middle section of the air duct. The multi-cycle high-efficiency scrubbing tower used in the semiconductor plant of the utility model forms internal gas circulation to the scrubbing tower, reduces the exhaust gas velocity and increases the exhaust gas formation, thereby improving the exhaust gas absorption efficiency and avoiding exhaust gas outflow caused by poor local exhaust gas absorption when the total load of the scrubbing tower reaches the standard under low investment conditions.

【技术实现步骤摘要】
一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔
本技术涉及一种卧式洗涤塔，具体涉及一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔。
技术介绍
洗涤塔是一种新型的气体净化处理设备。它是在可浮动填料层气体净化器的基础上改进而产生的，广泛应用于工业废气净化、除尘等方面的前处理，净化效果很好。对煤气化工艺来说，煤气洗涤不可避免，无论什么煤气化技术都用到这一单元操作。由于其工作原理类似洗涤过程，故名洗涤塔。现有技术中用于半导体厂房的酸碱性排气的卧式洗涤塔，在进行吸气过程中，会有偶发的吸气不彻底、废气外排等现象。其原因在于，废气供给阶段，局部风力及废气浓度过高，导致局部废气无法完全吸收即被排出洗涤塔。因此，需要一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔。
技术实现思路
为解决上述存在的问题，本技术的目的在于提供一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其对洗涤塔形成内部气体循环，降低废气流速，增加废气形成，从而提高废气吸收效率，在投资较低情况下避免洗涤塔总负荷达标但因局部废气吸收较差带来的废气外排。为达到上述目的，本技术的技术方案是：一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口、废气出本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口（1）、废气出口（2）及塔身（3），所述废气入口（1）设置于塔身（3）左侧、所述废气出口（2）设置于塔身（3）右侧，所述喷淋系统包括喷头（4）、供液管（5）及供液泵（6），所述喷头（4）设置于塔身（3）顶部，所述供液泵（6）设置于塔身（3）外部，所述供液管（5）分别与喷头（4）及供液泵（6）连接，所述回风系统包括风管（7）及风机（8），所述风管（7）一端与塔身（3）顶部右侧连接、另一端与废气入口（1）顶部连接，所述风机（8）设置于风管（7）中段。

【技术特征摘要】
1.一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，包括洗涤塔本体、喷淋系统及回风系统，所述洗涤塔本体包括废气入口（1）、废气出口（2）及塔身（3），所述废气入口（1）设置于塔身（3）左侧、所述废气出口（2）设置于塔身（3）右侧，所述喷淋系统包括喷头（4）、供液管（5）及供液泵（6），所述喷头（4）设置于塔身（3）顶部，所述供液泵（6）设置于塔身（3）外部，所述供液管（5）分别与喷头（4）及供液泵（6）连接，所述回风系统包括风管（7）及风机（8），所述风管（7）一端与塔身（3）顶部右侧连接、另一端与废气入口（1）顶部连接，所述风机（8）设置于风管（7）中段。2.根据权利要求1所述的一种半导体厂房用多循环高效洗涤塔，其特征在于，所述风管（7）内设有防腐蚀涂层。...

【专利技术属性】
技术研发人员：张宇，
申请(专利权)人：太仓市宇格明叶环保设备有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32