The invention discloses a low-pollution environmental-friendly chemical mechanical polishing solution, which is made of 11 15 parts of sodium tetraborate, 3 6 parts of isopropanol, 6 7 parts of boron nitride, 5 7 parts of sodium benzoate, 12 18 parts of cerium oxide, 1 4 parts of aluminium hydroxide, 6 9 parts of stearamide, 5 7 parts of diammonium phosphate, 3 4 parts of sodium triphosphate, 9 12 parts of liquid paraffin, and 4 parts of ethylenediamine tetraethyl ethylene. 6 8 acid and 4 6 sodium oxalate. The invention can obtain a more perfect surface and a higher polishing speed, and the resulting smoothness is two orders of magnitude higher than other methods, with less pollution and strong environmental protection.
【技术实现步骤摘要】
一种低污染环保型化学机械抛光液
本专利技术涉及抛光液
，尤其涉及一种低污染环保型化学机械抛光液。
技术介绍
半导体加工过程中，最初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。而单纯的化学抛光，抛光速率较快，表面光洁度高，损伤低，完美性好，但表面平整度和平行度差，抛光后表面一致性差；单纯的机械抛光表面一致性好，表面平整度高，但表面光洁度差，损伤层深。
技术实现思路
为解决上述存在的问题，本专利技术提供一种低污染环保型化学机械抛光液。本专利技术解决上述技术问题采用的技术方案为：一种低污染环保型化学机械抛光液，由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠11-15份，异丙醇3-6份，氮化硼6-7份，苯甲酸钠5-7份，氧化铈12-18份，氢氧化铝1-4份，硬脂酰胺6-9份，磷酸二铵5-7份，三聚磷酸钠3-4份，液态石蜡9-12份，乙二胺四乙酸6-8份，草酸钠4-6份。上述的低污染环保型化学机械抛光液，由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠13份，异丙醇5份，氮化硼6.4份，苯甲酸钠6份，氧化铈15份，氢氧化铝2份，硬脂酰胺8份...
【技术保护点】
1.一种低污染环保型化学机械抛光液，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠11‑15份，异丙醇3‑6份，氮化硼6‑7份，苯甲酸钠5‑7份，氧化铈12‑18份，氢氧化铝1‑4份，硬脂酰胺6‑9份，磷酸二铵5‑7份，三聚磷酸钠3‑4份，液态石蜡9‑12份，乙二胺四乙酸6‑8份，草酸钠4‑6份。
【技术特征摘要】
1.一种低污染环保型化学机械抛光液，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：四硼酸钠11-15份，异丙醇3-6份，氮化硼6-7份，苯甲酸钠5-7份，氧化铈12-18份，氢氧化铝1-4份，硬脂酰胺6-9份，磷酸二铵5-7份，三聚磷酸钠3-4份，液态石蜡9-12份，乙二胺四乙酸6-8份，草...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋丛恺，
申请(专利权)人：青岛凯玉盈商贸有限公司，
类型：发明
国别省市：山东,37
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