The purpose of the utility model is to provide a substrate processing device and a substrate processing method, which prevents the process fluid containing a certain concentration of foreign matter from flowing into the chamber used to perform the substrate processing process, and uses high purity process fluid to carry out the substrate processing process. In order to achieve the purpose, the baseboard processing device of the utility model comprises a supply line, which supplies process fluid to the chamber of the receiving baseboard, and a purity measuring section which is connected to the supply line and measures the purity of the process fluid.
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本技术涉及一种基板处理装置,更为详细地,涉及一种基板处理装置,其防止包括一定浓度以上的异物的工艺流体流入用于执行基板处理工艺的腔室,并且利用纯度高的工艺流体来执行基板处理工艺。
技术介绍
通常,通过反复进行如下多个基板处理而制造半导体元件:光刻(lithography)、沉积(Deposition)及蚀刻(etching)、光刻胶(Photoresist)的涂覆(Coating)、显影(Develop)、清洗及干燥工艺等。各个工艺利用与各自的目的相适合的工艺流体来实现,由于各个工艺要求适合各个工艺流体的工艺环境,因此,通常将基板收容于形成有相应环境的腔室内部来进行基板处理工艺。其中,基板清洗及干燥工艺的反复执行尤其重要,因为在经过各个工艺期间,金属杂质、有机物等会残存于基板上。如上所述的污染物质会引起基板的工艺不良,并且对产品的收率及可靠性造成不良影响,因此每当各个工艺完成时会执行清洗及干燥工艺。因此,为了防止基板处理工艺不良,将工艺流体的纯度维持在一定水平尤为重要。在各个工艺流体中可能包含在各个基板处理工艺中所利用的纯粹的工艺流体之外的异物,其是造成基板的工艺不良并且给产品的收率及可靠造成不良影响的原因。因此,优选地,利用经过提炼过程使得纯度提高的工艺流体来执行基板处理工艺。但是,在利用超临界流体的基板处理工艺中,因为超临界流体的压力维持在高压状态,所以存在的问题是,很难测量超临界流体中所包含的异物中有机物和无机物的含量。关于所述基板处理装置的先行技术记载于韩国登记专利第10-0647148号中。
技术实现思路
本技术是为了解决所述问题而提出的,目 ...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置,其特征在于,其包括:供给线路,其用于向收容基板的腔室供给工艺流体;纯度测量部,其连接于所述供给线路,并测量所述工艺流体的纯度;分析线路,其从所述供给线路分支出来,并且所述工艺流体的一部分在分析线路上流动,压力调整部和所述纯度测量部设置于所述分析线路,所述纯度测量部对通过所述压力调整部得到减压的所述工艺流体的异物含量进行测量;控制部,其连接于所述纯度测量部,将设定的异物限制设定量和所述纯度测量部测量出的所述异物含量相比较来判断是否中断所述工艺流体的供给;所述供给线路上还设置有供给调整部,供给调整部控制所述工艺流体的供给,基板处理装置包括控制部,控制部与所述供给调整部连接,对所述工艺流体的供给进行控制。
【技术特征摘要】
2017.06.29 KR 10-2017-0082824;2018.06.05 KR 10-2011.一种基板处理装置,其特征在于,其包括:供给线路,其用于向收容基板的腔室供给工艺流体;纯度测量部,其连接于所述供给线路,并测量所述工艺流体的纯度;分析线路,其从所述供给线路分支出来,并且所述工艺流体的一部分在分析线路上流动,压力调整部和所述纯度测量部设置于所述分析线路,所述纯度测量部对通过所述压力调整部得到减压的所述工艺流体的异物含量进行测量;控制部,其连接于所述纯度测量部,将设定的异物限制设定量和所述纯度测量部测量出的所述异物含量相比较来判断是否中断所述工艺流体的供给;所述供给线路上还设置有供给调整部,供给调整部控制所述工艺流体的供给,基板处理装置包括控制部,控制部与所述供给调整部连接,对所述工艺流体的供给进行控制。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述分析线路从供给线路分支的分支点设置于超临界流体气化器和超临界流体存储槽之间。3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述分析线路从供给线路分支的分支点设置于药液和超临界流体的混合装置和腔室之间。4.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述分析线路从供给线路分支的分支点设置于超临界流体存储槽和腔室之间。5.根据权利要求1所述的基板处理装置,多个所述分析线路设置于所述供给线路的不同位置,设置于所述多个分析线路的多个纯度测量部连接于所述控制部,所述基板处理装置包括所述控制部,所述控制部对所述多个纯度测量部所测量出的异物含量进行比较,从而判断是否中断所述工艺流体的供给。6.根据权利要求1所述的基板处理装置...
【专利技术属性】
技术研发人员:申寅澈,
申请(专利权)人:凯斯科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:韩国,KR
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