显示基板及其制造方法和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及其制造方法和显示装置。该方法包括：在衬底基板上依次形成第一电极、发光层和第二电极；在第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成保护层、保护层上的开孔以及第二电极上的去除区域，所述去除区域位于所述开孔的下方。本发明专利技术中在保护层的保护下仅开孔下方的第二电极被去除，避免了开孔下方的去除区域周边的第二电极受到损伤，当开孔对应于摄像头区域时避免了摄像头区域周边的第二电极受到损伤，从而降低了显示装置的显示不良。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制造方法和显示装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。
技术介绍
在有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)显示装置中，柔性显示装置正在呈现越来越重要的地位。同时，全面屏的概念被提出之后，一直处于不断改进和实现的过程中。在此过程中，摄像头区域是一个实现全面屏非常难以绕过的区域。其中，摄像头区域对应的阴极膜层(Cathode)在光路中对于光的穿透率有较大的影响，一般而言需要将摄像头区域对应的阴极膜层去除。现有的工艺中，直接在薄膜封装(ThinFilmEncapsulation，简称TFE)工艺后，采用掩膜板(Mask)保护下等离子体蚀刻的方式对于阴极膜层相应的区域进行处理，由于掩膜板(Mask)的曝光间距(Gap)有限，且受等离子体扩散的影响，摄像头区域对应的阴极膜层周边的非需要蚀刻区域的膜层也易受到损伤，进而导致整个显示装置的显示不良。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于降低显示装置的显示不良。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显示基板的制造方法，包括：在衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上依次形成第一电极、发光层和第二电极；在第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成保护层、保护层上的开孔以及所述第二电极上的去除区域，所述去除区域位于所述开孔的下方。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：在衬底基板上依次形成第一电极、发光层和第二电极；在第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成保护层、保护层上的开孔以及所述第二电极上的去除区域，所述去除区域位于所述开孔的下方。2.根据权利要求1所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述第二电极为阴极。3.根据权利要求1所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成保护层、保护层上的开孔以及所述第二电极上的去除区域，所述去除区域位于所述开孔的下方包括：在所述第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成所述保护层；在所述保护层上形成所述开孔以及在所述第二电极上形成所述去除区域，其中，所述开孔和所述去除区域通过金属掩膜板紧密贴附所述保护层而形成。4.根据权利要求3所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述金属掩膜板包括第二金属掩膜板；所述在所述保护层上形成所述开孔以及在所述第二电极上形成所述去除区域包括：通过第二金属掩膜板对所述保护层的第一区域和所述第二电极的与第一区域对应的第二区域进行等离子体处理或者化学腐蚀处理，在所述保护层上形成所述开孔以及在所述第二电极上形成所述去除区域，所述第二金属掩膜板上形成有开孔区域，所述开孔区域用于形成所述开孔和所述去除区域。5.根据权利要求1所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述在第二电极的远离所述衬底基板的一侧形成保护层、保护层上的开孔以及所述第二电极上的去除区域，所述去除区域位于所述开孔的下方包括：在第二电极的远离衬底基板的一侧形成保护层和位于保护层上的开孔，其中，所述开孔通过金属掩膜板紧密贴附所述第二电极而形成；去除所述开孔下方的第二电极以在第二电极上形成所述去除区域。6.根据权利要求5所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述金属掩膜板包括第三金属掩膜板；所述在第二电极的远离衬底基板的一侧形成保护层和位于保护...

【专利技术属性】
技术研发人员：田宏伟，牛亚男，谢春燕，王纯阳，李栋，刘政，刘明，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11