主动开关及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本申请涉及一种主动开关及其制作方法、显示装置，该主动开关的制作方法包括：提供一基板，并在所述基板上形成第一金属层，并对所述第一金属层进行图案化处理，形成栅极；在所述栅极上依次形成栅极绝缘层、有源层、掺杂层和源漏极；其中，采用两次湿法刻蚀工艺和两次干法刻蚀工艺形成所述有源层、掺杂层、源漏极以及一沟道区；在预设功率下对所述沟道区进行气体预处理；其中，将气体预处理装置的功率调节至所述预设功率；在所述预设功率下将所述沟道区置于氮气和氨气的混合气氛中进行加热处理。本申请可有效降低主动开关器件的光漏电流，改善残影现象。

【技术实现步骤摘要】
主动开关及其制作方法、显示装置
本申请涉及显示
，特别是涉及一种主动开关及其制作方法、显示装置。
技术介绍
作为对显示面板的工作性能具有十分重要作用的开关器件，是显示技术中一个非要重要的关键器件。随着显示技术的迭代发展，更高性能、高画质以及大尺寸的显示装置成为发展趋势，也是直接影响用户观看体验和购物体验的因素。以高性能来说，想要显示装置具有更高的性能，从其中一个方面就要求显示装置中具备高性能的开关器件。而通常的非晶硅开关器件的制程中，都是采用BCE(BackChannelEtching，背沟道蚀刻)型结构，这种结构的成本相对低廉并且相对于ES(Etchingstop，蚀刻阻挡层)型结构的工艺来说更加简单。但是采用BCE型结构进行背沟道蚀刻(N+cutting)时，有源层(半导体层)通常被破坏而产生较多悬挂键(DanglingBond)与弱键(WeakBond)，弱键容易在光照下分解,悬空键可能引起开关器件的不稳定性，造成开关器件的漏电流增大，进而引起显示装置在信赖性测试的时候出现IS(imagesticking，残影)现象。
技术实现思路
基于此，有必要针对采用BCE型结构制成的开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种主动开关的制作方法，其特征在于，所述主动开关的制作方法包括：提供一基板，并在所述基板上形成第一金属层，并对所述第一金属层进行图案化处理，形成栅极；在所述栅极上依次形成栅极绝缘层、有源层、掺杂层和源漏极；其中，采用两次湿法刻蚀工艺和两次干法刻蚀工艺形成所述有源层、掺杂层、源漏极以及一沟道区，所述沟道区贯穿所述掺杂层、并部分贯穿至所述有源层；在预设功率下对所述沟道区进行气体预处理；其中，将气体预处理装置的功率调节至所述预设功率；在所述预设功率下将所述沟道区置于氮气和氨气的混合气氛中进行加热处理。

【技术特征摘要】
1.一种主动开关的制作方法，其特征在于，所述主动开关的制作方法包括：提供一基板，并在所述基板上形成第一金属层，并对所述第一金属层进行图案化处理，形成栅极；在所述栅极上依次形成栅极绝缘层、有源层、掺杂层和源漏极；其中，采用两次湿法刻蚀工艺和两次干法刻蚀工艺形成所述有源层、掺杂层、源漏极以及一沟道区，所述沟道区贯穿所述掺杂层、并部分贯穿至所述有源层；在预设功率下对所述沟道区进行气体预处理；其中，将气体预处理装置的功率调节至所述预设功率；在所述预设功率下将所述沟道区置于氮气和氨气的混合气氛中进行加热处理。2.根据权利要求1所述的主动开关的制作方法，其特征在于，所述在所述栅极上依次形成栅极绝缘层、有源层、掺杂层和源漏极的步骤，包括：在所述栅极上依次沉积栅极绝缘层、有源膜层、掺杂膜层和第二金属层；在所述第二金属层上涂布一层光刻胶，并对所述光刻胶进行图案化处理；采用第一次湿法刻蚀工艺对所述第二金属层进行刻蚀以形成第二子金属层；采用第一次干法刻蚀工艺对所述有源膜层和掺杂膜层进行刻蚀以形成有源层和掺杂层、同时对所述光刻胶进行灰化；采用第二次湿法刻蚀工艺对所述第二子金属层进行刻蚀以形成源漏极；采用第二次干法刻蚀工艺对所述有源层和掺杂层进行刻蚀以形成沟道区，所述沟道区贯穿所述掺杂层、并部分贯穿至所述有源层。3.根据权利要求1所述的主动开关的制作方法，其特征在于，在所述氮气和氨气的混...

【专利技术属性】
技术研发人员：莫琼花，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44