异物检测方法及装置制造方法及图纸

技术编号:20817797 阅读:37 留言:0更新日期:2019-04-10 05:26
本发明专利技术公开了一种异物检测方法及装置,属于显示技术领域。所述方法包括:将待检测物体放置在承载基台上;在所述承载基台上放置辅助检测块,所述辅助检测块的侧面与所述目标侧面贴合,所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同,所述指定阈值基于检测精度确定;向所述待检测表面照射检测光;基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物。本发明专利技术提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。

【技术实现步骤摘要】
异物检测方法及装置
本专利技术涉及显示
,特别涉及一种异物检测方法及装置。
技术介绍
在显示面板的制造过程中,通常需要在玻璃基板上制造各个膜层。但是,当玻璃基板的表面存在异物时,若直接在该存在异物的表面上制造膜层,会影响制造得到的膜层的性能,且该异物还可能对用于制造膜层的装置造成损伤。因此,在玻璃基板的表面形成膜层之前,对该表面进行异物检测是十分必要的。相关技术中,在对玻璃基板的表面进行异物检测时,通常将玻璃基板放置在承载基台上,然后向其表面照射激光,并获取被该表面反射的反射光,通过对该反射光进行检测,能够确定该表面是否存在异物。但是,由于承载基台和该表面均会对激光产生反射,被承载基台反射的光会对该表面反射的光产生干扰,导致对该表面进行异物检测的准确度较低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种异物检测方法及装置,可以解决相关技术中对玻璃基板的表面进行异物检测的准确度较低的问题。所述技术方案如下:第一方面,提供了一种异物检测方法,包括:将待检测物体放置在承载基台上;在所述承载基台上放置辅助检测块,所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合,所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同,所述指定阈值基于检测精度确定;向所述待检测表面照射检测光;基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物。可选地,所述反射面的反射率与所述待检测表面的反射率相同。可选地,所述目标侧面被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。可选地,所述待检测物体的所有侧面均被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。可选地,所述反射面与所述待检测表面共面。可选地,所述基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物,包括:当所述待检测表面的某一点的反射光的亮度小于或等于指定阈值时,确定所述某一点所处的位置处存在异物;或者,当所有反射光的亮度均匀度未处于指定范围内时,确定所述待检测表面上存在异物。可选地,所述在所述承载基台上放置辅助检测块,包括:基于所述待检测物体的放置位置和所述辅助检测块的初始位置,确定将所述辅助检测块放置到所述承载基台上所需的位移量;基于所述位移量,将所述辅助检测块放置到所述承载基台上。第二方面,提供了一种异物检测装置,包括:移动模块,用于将待检测物体放置在承载基台上;所述移动模块,还用于在所述承载基台上放置辅助检测块,所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合,所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同,所述指定阈值基于检测精度确定;光发射模块,用于向所述待检测表面照射检测光;处理模块,用于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物。可选地,所述反射面的反射率与所述待检测表面的反射率相同。可选地,所述待检测物体的所有侧面均被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。本专利技术提供的技术方案带来的有益效果是:本专利技术实施例提供的异物检测方法及装置,通过在承载基台上放置辅助检测块,由于该辅助检测块的侧面与该目标侧面贴合,且该辅助检测块的反射面与该待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,当该反射面与该待检测表面的朝向相同时,待检测表面对检测光的反射作用与该反射面对检测光的反射作用基本相同,相较于相关技术,有效地减小了对待检测表面反射的检测光产生的干扰,提高了对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种将待检测的玻璃基板放置在顶针式承载基台表面进行异物检测的示意图;图2是本专利技术实施例提供的一种异物检测方法的流程图;图3是本专利技术实施例提供的一种将被检测物体和辅助检测块放置在承载基台上后,对被检测物体进行异物检测的示意图;图4是本专利技术实施例提供的另一种异物检测方法的流程图;图5是本专利技术实施例提供的一种待检测表面上存在异物时,被待检测表面反射的反射光的示意图;图6是本专利技术实施例提供的一种异物检测装置的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。异物为位于待检测物体表面,且影响该表面平整度的物体。异物检测是检测待检测物体的表面是否存在异物的过程。在显示面板制造领域,可以对玻璃基板表面进行异物检测,以保证玻璃基板表面的清洁度,避免由于玻璃基板表面上的异物对制造在该表面上的膜层及对用于形成膜层的制造装置产生影响。相关技术中,请参考图1,通常将待检测的玻璃基板01放置在顶针式承载基台02表面,并采用光发射器03向该玻璃基板01的待检测表面011照射激光,然后采用光接收器04接收被该待检测表面反射的激光,并根据该被反射的激光的亮度,确定该待检测表面上是否存在异物。但是,请继续参考图1,由于该待检测表面011与承载基台02的表面之间存在段差,且该玻璃基板01的反射率和该承载基台02的反射率相差较大,导致该待检测表面011对激光的反射作用和该承载基台02对激光的反射作用存在较大差异,例如,被承载基台反射的激光J1会被反射至用于接收被待检测表面反射的激光J2的光接收区域中,使被承载基台反射的激光会对待检测表面反射的激光产生干扰,导致无法准确地检测该被检测表面是否存在异物。为此,本专利技术实施例提供了一种异物检测方法,该方法用于检测待检测物体的表面上是否存在异物。如图2所示,该方法可以包括:步骤101、将待检测物体放置在承载基台上。步骤102、在承载基台上放置辅助检测块,辅助检测块的侧面与待检测物体的目标侧面贴合,且辅助检测块的反射面与待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,反射面与待检测表面的朝向相同。其中,指定阈值基于检测精度确定。步骤103、向待检测物体的待检测表面照射检测光。步骤104、基于检测光被待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定待检测表面上是否存在异物。图3为将被检测物体11和辅助检测块15放置在承载基台12上,向待检测表面111照射检测光后,检测光被待检测表面111反射的光路示意图。如图3所示,当反射面151的反射率与待检测表面111的反射率的差值小于或等于指定阈值,辅助检测块15的侧面与目标侧面贴合,且反射面151与待检测表面111的朝向相同时,被反射面151反射的反射光J3与被待检测表面111反射的反射光J2的光路基本相同,即反射面151对检测光的反射作用与该待检测物体11对检测光的反射作用基本相同。因此,通过设置该辅助检测块,可以尽量减小被辅助检测块反射的检测光对被待检测物体反射的检测光的干扰,及减少位于被检测物体侧面的承载基台对被检测物体反射的检测光的干扰,能够提高对待检测物体的表面进行异物检测的准确度。综上所述,本专利技术实施例提供的异物检测方法,通过在承载基台上放置辅助检测块,由于该辅助检测块的侧面与该目标侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种异物检测方法,其特征在于,包括:将待检测物体放置在承载基台上;在所述承载基台上放置辅助检测块,所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合,所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同,所述指定阈值基于检测精度确定;向所述待检测表面照射检测光;基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物。

【技术特征摘要】
1.一种异物检测方法,其特征在于,包括:将待检测物体放置在承载基台上;在所述承载基台上放置辅助检测块,所述辅助检测块的侧面与所述待检测物体的目标侧面贴合,所述辅助检测块的反射面与所述待检测物体的待检测表面的反射率差值小于或等于指定阈值,且所述反射面与所述待检测表面的朝向相同,所述指定阈值基于检测精度确定;向所述待检测表面照射检测光;基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述反射面的反射率与所述待检测表面的反射率相同。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述目标侧面被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述待检测物体的所有侧面均被所述辅助检测块的侧面完全覆盖。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述反射面与所述待检测表面共面。6.根据权利要求1至5任一所述的方法,其特征在于,所述基于所述检测光被所述待检测表面所反射的反射光的检测结果,确定所述待检测表面上是否存在异物,包括:当所述待检测表面的某一点的反射光的亮度小于或等于指定阈值时,确定所述某一点所处的位置处存在异物...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈静静
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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