一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵和底座，所述底座的两侧面下端设有滑块，所述滑块套接设有滑杆，所述滑杆插接设有滑台，所述底座的上端连接设有立柱，所述立柱的内部设有侧部设有齿条一的连杆一，所述齿条一啮合设有齿轮一，所述齿轮一同轴连接设有电机一，所述连杆一铰接设有连杆二，所述连杆一和连杆二的同一侧连接设有液压杆，所述连杆二铰接设有支架，所述水泵位于支架的上端，所述支架的一端设有喷头，所述支架的下方设有喷枪，所述底座的下端一侧设有齿条二，所述齿条二啮合设有齿轮二，所述齿轮二同轴连接设有电机二。本发明专利技术与现有技术相比的优点在于：本装置可以自由移动，能够自由升降，同时能够分离冲洗。

A Grinding Machine Debris Washing Device for Single Crystal Silicon Wafer

The invention discloses a grinding machine debris washing device for single crystal silicon wafer, which comprises a water pump and a base. The lower ends of both sides of the base are provided with sliders. The slider sleeve is provided with slider, the slider socket is provided with slider, the upper end of the base is connected with a column, the inner part of the column is provided with a connecting rod with a rack, and the rack meshing is provided with a gear. The gear coaxial connection is provided with a motor, the connecting rod is articulated with a connecting rod two, the connecting rod one and the same side of the connecting rod two are connected with a hydraulic rod, the connecting rod two are articulated with a bracket, the water pump is located at the upper end of the bracket, one end of the bracket is provided with a nozzle, the lower end of the bracket is provided with a spray gun, the lower end of the base is provided with a rack two, and the rack two racks are connected with The meshing is provided with a gear 2, and the coaxial connection of the gear 2 is provided with a motor 2. Compared with the prior art, the device has the advantages of free movement, free ascent and descent, and separation and flushing.

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置
本专利技术涉及单晶硅片生产设备
，具体是指一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置。
技术介绍
单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿，其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等，而单晶硅片需要由磨床对晶体硅片进行磨削，而磨削产生的碎屑往往需要冲洗以免影响使用，目前，传统的磨床碎屑冲洗装置采用单一水枪式冲洗装置，该装置包括水枪、输水管和水泵，该种方式冲洗需要人工手持进行冲洗，费时费力，增大人工成本，不适应自动化生产的需求，这些问题都有待解决，所以需要对此进行改进。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服以上的技术缺陷，提供一种可以自由移动的、能够升降的、能够分离冲洗的一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置。为解决上述技术问题，本专利技术提供的技术方案为：一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵和底座，所述底座的两侧面下端设有滑块，所述滑块套接设有滑杆，所述滑杆插接设有滑台，所述底座的上端固定连接设有立柱，所述立柱的内部套接设有连杆一，所述连杆一的侧部设有齿条一，所述齿条一啮合设有齿轮一，所述齿轮一同轴连接设有电机一，所述连杆一铰接设有连杆二，所述连杆一和所述连杆二的同一侧连接设有液压杆，所述连杆二铰接设有支架，所述支架的上端连接有所述水泵，所述支架的一端设有喷头，所述支架的下方连接设有喷枪，所述底座的下端一侧设有齿条二，所述齿条二啮合设有齿轮二，所述齿轮二同轴连接设有电机二。本专利技术与现有技术相比的优点在于：一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵和底座，所述底座的两侧面下端设有滑块，所述滑块套接设有滑杆，所述滑杆插接设有滑台，这样通过所述滑块、滑杆和滑台的组合实现底座的沿滑杆的移动，所述底座的上端固定连接设有立柱，这样通过立柱进行支撑和对连杆一的限位，所述立柱的内部套接设有连杆一，所述连杆一的侧部设有齿条一，所述齿条一啮合设有齿轮一，所述齿轮一同轴连接设有电机一，这样所述电机一转动带动所述齿轮一和齿条一传动，实现冲洗装置的升降运动，所述连杆一铰接设有连杆二，所述连杆一和所述连杆二的同一侧连接设有液压杆，这样，通过所述液压杆实现对所述连杆二的驱动，所述连杆二铰接设有支架，所述支架的上端连接有所述水泵，这样，通过所述水泵可以对为清洗工作供水，所述支架的一端设有喷头，所述支架的下方连接设有喷枪，通过所述喷头和喷枪对所述磨床碎屑进行清洗，所述底座的下端一侧设有齿条二，所述齿条二啮合设有齿轮二，所述齿轮二同轴连接设有电机二，这样，所述电机二转动驱动所述齿轮二和齿条二传动并带动所述底座实现移动。作为改进，所述立柱设为一侧面开口的中空结构，所述齿条一的齿结构从所述立柱的开口处伸出，这样可以对所述齿条一进行限位。作为改进，所述水泵的侧面插接设有导管一，所述支架的下方连接设有导管二，所述导管二设为螺旋橡胶弯管，这样方便人工进行清洗的情况。作为改进，所述支架下端设有支杆，所述喷枪放置在所述支杆上，这样可以方便取放所述喷枪。作为改进，所述电机二固定在所述滑台的底部，所述电机二转动带动所述齿条二运动从而带动所述底座运动。作为改进，所述底座的上端面上设有控制所述液压杆、电机一和电机二的按钮控制装置，这样可以方便进行控制。附图说明图1是本专利技术一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置的结构示意图。图2是本专利技术一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置的底座结构示意图。如图所示：1、水泵，2、底座，3、滑块，4、滑杆，5、滑台，6、立柱，7、连杆一，8、齿条一，9、齿轮一，10、电机一，11、连杆二，12、液压杆，13、支架，14、喷头，15、喷枪，16、齿条二，17、齿轮二，18、电机二，19、导管一，20、导管二，21、支杆，22、按钮控制装置。具体实施方式下面结合附图对本专利技术做进一步的详细说明。本专利技术在具体实施时，提供一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵1和底座2，所述底座2的两侧面下端设有滑块3，所述滑块3套接设有滑杆4，所述滑杆4插接设有滑台5，所述底座2的上端固定连接设有立柱6，所述立柱6的内部套接设有连杆一7，所述连杆一7的侧部设有齿条一8，所述齿条一8啮合设有齿轮一9，所述齿轮一9同轴连接设有电机一10，所述连杆一7铰接设有连杆二11，所述连杆一7和所述连杆二11的同一侧连接设有液压杆12，所述连杆二11铰接设有支架13，所述支架13的上端连接有所述水泵1，所述支架13的一端设有喷头14，所述支架13的下方连接设有喷枪15，所述底座2的下端一侧设有齿条二16，所述齿条二16啮合设有齿轮二17，所述齿轮二17同轴连接设有电机二18。所述立柱6设为一侧面开口的中空结构，所述齿条一8的齿结构从所述立柱6的开口处伸出。所述水泵1的侧面插接设有导管一19，所述支架13的下方连接设有导管二20，所述导管二20设为螺旋橡胶弯管。所述支架13下端设有支杆21，所述喷枪15放置在所述支杆21上。所述电机二18固定在所述滑台5的底部，所述电机二18转动带动所述齿条二16运动从而带动所述底座2运动。所述底座2的上端面上设有控制所述液压杆12、电机一10和电机二18的按钮控制装置22。本专利技术的工作原理是：本专利技术的一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置提供一种可以自由移动，能够自由升降，同时能够分离冲洗，目前，目前，传统的磨床碎屑冲洗装置采用单一水枪式冲洗装置，不仅费时费力，增大人工成本，也不适应自动化生产的需求，针对这些问题，本单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵1和底座2，所述底座2的上端固定连接设有立柱6，所述立柱6设为一侧面开口的中空结构，所述齿条一8的齿结构从所述立柱6的开口处伸出，可以对所述齿条一8进行限位，通过立柱6进行支撑和对连杆一7的限位，所述立柱6的内部套接设有连杆一7，所述连杆一7的侧部设有齿条一8，所述齿条一8啮合设有齿轮一9，所述齿轮一9同轴连接设有电机一10，所述电机一10转动带动所述齿轮一9和齿条一8传动，实现冲洗装置的升降运动，所述连杆一7铰接设有连杆二11，所述连杆一7和所述连杆二11的同一侧连接设有液压杆12，通过所述液压杆12的伸缩驱动实现带动所述连杆二11运动，所述连杆二11铰接设有支架13，所述支架13的上端连接有所述水泵1，所述水泵1的侧面插接设有导管一19，所述支架13的下方连接设有导管二20，所述导管二20设为螺旋橡胶弯管，当需要人工进行清洗时，可以方便人工进行清洗的情况，并且通过所述水泵1可以对为清洗工作供水，所述支架13的一端设有喷头14，所述支架下端设有支杆21，所述喷枪15放置在所述支杆21上，这样可以方便取放所述喷枪15，通过所述喷头14和喷枪15对所述磨床碎屑进行清洗，所述底座2的两侧面下端设有滑块3，所述滑块3套接设有滑杆4，所述滑杆4插接设有滑台5，所述底座2的下端一侧设有齿条二16，所述齿条二16啮合设有齿轮二17，所述齿轮二17同轴连接设有电机二18，所述电机二18固定在所述滑台5的底部，所述电机二18转动驱动所述齿轮二17和齿条二16传动并带动所述底座2通过所述滑块3、滑杆4和滑台5的组合实现底座2的沿滑杆4的移动，对于控制来说，所述底座2的上端面上设有控制所述液压杆12、电机一10和电机二18的按钮控制装置22，可以在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵(1)和底座(2)，其特征在于：所述底座(2)的两侧面下端设有滑块(3)，所述滑块(3)套接设有滑杆(4)，所述滑杆(4)插接设有滑台(5)，所述底座(2)的上端固定连接设有立柱(6)，所述立柱(6)的内部套接设有连杆一(7)，所述连杆一(7)的侧部设有齿条一(8)，所述齿条一(8)啮合设有齿轮一(9)，所述齿轮一(9)同轴连接设有电机一(10)，所述连杆一(7)铰接设有连杆二(11)，所述连杆一(7)和所述连杆二(11)的同一侧连接设有液压杆(12)，所述连杆二(11)铰接设有支架(13)，所述支架(13)的上端连接有所述水泵(1)，所述支架(13)的一端设有喷头(14)，所述支架(13)的下方连接设有喷枪(15)，所述底座(2)的下端一侧设有齿条二(16)，所述齿条二(16)啮合设有齿轮二(17)，所述齿轮二(17)同轴连接设有电机二(18)。

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片用磨床碎屑冲洗装置，包括水泵(1)和底座(2)，其特征在于：所述底座(2)的两侧面下端设有滑块(3)，所述滑块(3)套接设有滑杆(4)，所述滑杆(4)插接设有滑台(5)，所述底座(2)的上端固定连接设有立柱(6)，所述立柱(6)的内部套接设有连杆一(7)，所述连杆一(7)的侧部设有齿条一(8)，所述齿条一(8)啮合设有齿轮一(9)，所述齿轮一(9)同轴连接设有电机一(10)，所述连杆一(7)铰接设有连杆二(11)，所述连杆一(7)和所述连杆二(11)的同一侧连接设有液压杆(12)，所述连杆二(11)铰接设有支架(13)，所述支架(13)的上端连接有所述水泵(1)，所述支架(13)的一端设有喷头(14)，所述支架(13)的下方连接设有喷枪(15)，所述底座(2)的下端一侧设有齿条二(16)，所述齿条二(16)啮合设有齿轮二(17)，所述齿轮二(17)同轴连接设有电机二(18)。2.根据权利要求1所述的一种单晶...

【专利技术属性】
技术研发人员：周伟平，
申请(专利权)人：江苏晶成光学有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32