透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏技术

本发明专利技术提供了一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。该制备方法，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层的表面，干燥后得到光学调整层，光学调整层包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离的耐高温基材层的表面设置的第一涂料和第二涂料为一组，各组中的低折射率材料层位于高折射率材料层的远离耐高温基材层的一侧；S2，在光学调整层的表面设置ITO层。采用上述方法缓解了上述立体纹现象，提高了电容式触摸屏的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏
本专利技术涉及光学
，具体而言，涉及一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。
技术介绍
市场上用于电容式触摸屏中的透明导电膜除了具有基材和ITO层之外，通常还具有设置于基材两侧的硬化膜以及设置于基材与ITO层之间的光学调整层(IM)，这类硬化膜产品能够满足目前电容式触摸屏的基本需求。随着智能设备市场的迅速扩大及普及电容式触摸屏的品质要求也逐步提高，于此同时，价格竞争也越来愈激烈。在现有技术中用于电容式触摸屏的透明导电膜中，基材通常为PET材料，然而，PET材料的耐温性较差，从而会影响电容式触摸屏的耐候性，若采用耐温性较高的基材替换现有技术中的PET基材，由于耐温性较高的基材通常具有与硬化膜较大的折射率差，从而会导致透明导电膜出现干涉条纹，上述干涉条纹会影响电容式触摸屏的显示效果；并且，在产品的制备中ITO层的蚀刻是必不可少的，而在蚀刻工艺中，ITO层被蚀刻的纹路会因为基材在加热工序中的收缩而变形，蚀刻凹坑与ITO的反射率差别、色差或凹凸差别变得更加明显从使得而立体纹显露出来。具体地，IM层与ITO层的色差越大，基材的收缩率越大，立体纹也就越明显，从而导致最后做成的触摸屏幕会因为明显的立体纹而严重影响产品的品质。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏，以解决现有技术中透明导电膜难以同时保证电容式触摸屏的耐候性及显示效果的问题。为了实现上述目的，根据本专利技术的一个方面，提供了一种透明导电膜的制备方法，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层的表面，干燥后得到光学调整层，光学调整层包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离的耐高温基材层的表面设置的第一涂料和第二涂料为一组，各组中的低折射率材料层位于高折射率材料层的远离耐高温基材层的一侧；S2，在光学调整层的表面设置ITO层。进一步地，在步骤S1中，采用多层同时涂布工艺将多组第一涂料与第二涂料同步设置，至少一组第一涂料中的高折射率材料不同于其他组第一涂料中的高折射率材料，且至少一组第二涂料中的低折射率材料不同于其他组第一涂料中的低折射率材料。进一步地，光学调整层包括n组高折射率材料层和低折射率材料层，1≤n≤10，优选1≤n≤3。进一步地，在步骤S1中，多层同时涂布工艺的涂布速度为10～300m/min。进一步地，采用多层涂布设备实施多层同时涂布工艺，多层涂布设备包括：可旋转的涂布轴，涂布轴用于承载耐高温基材层；涂布模块，涂布模块的上表面为沿靠近涂布轴的方向向下倾斜的滑动面，且涂布模块包括多个涂布头，且各涂布头具有出口的表面构成滑动面，涂布头的出口沿远离涂布轴的方向平行排列，涂布轴的旋转轴与涂布头的排列方向垂直，多层同时涂布工艺实施时，第一涂料以及第二涂料间隔地从不同的涂布头的出口流至滑动面后流动至涂布轴上的耐高温基材层上。进一步地，滑动面的与水平面的夹角为2～15°。进一步地，在步骤S1中，干燥的温度为30～250℃。进一步地，耐高温基材层为具有结构式A的环烯烃的共聚物层、具有结构式B的环烯烃的聚合物层或PI层，结构式A为结构式B为n＝20～10000。进一步地，耐高温基材层的折射率为1.3～1.8。进一步地，高折射率材料的折射率为1.6～4.0，优选为1.65～2.8，低折射率材料的折射率为1.2～1.5，优选为1.3～1.48。进一步地，ITO层中Sn的含量为1～25wt％，优选为2～15wt％。根据本专利技术的另一方面，提供了一种透明导电薄膜，透明导电薄膜由上述的制备方法制备而成。进一步地，透明导电薄膜中，耐高温基材层的厚度为5～250μm，高折射率材料层的厚度为5～120nm，低折射率材料层的厚度为20～150nm，ITO层的厚度为15～40nm；优选耐高温基材层的厚度为10～120μm，高折射率材料层的厚度为8～100nm，低折射率材料层的厚度为30～120nm，ITO层的厚度为18～35nm。根据本专利技术的另一方面，还提供了一种电容式触摸屏，包括透明导电薄膜，透明导电薄膜为上述的透明导电薄膜。应用本专利技术的技术方案，提供了一种透明导电膜的制备方法，该制备方法先采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层的表面，干燥后得到光学调整层，光学调整层包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，且各组中的低折射率材料层位于高折射率材料层的远离耐高温基材层的一侧，然后在光学调整层的表面设置ITO层，由于耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，从而能够有效地提高透明导电膜的耐候性；并且，由于常规的高、低折射率涂布工艺为层层涂布，膜厚精度很难控制，加上多次加工，精度及公差均很难保证达到设计要求，而本专利技术通过采用多层同时涂布工艺能够同时形成高折射率材料层和低折射率材料层，从而不仅提高了透明导电膜的工艺效率，而且使膜厚精度大大提高，进而通过合理调整高折射率材料和低折射率材料的折射率，有效地缩小了光线在刻蚀凹坑处与ITO层表面时的反射率差，缓解了上述立体纹现象，提高了电容式触摸屏的显示效果。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本专利技术还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本专利技术作进一步详细的说明。附图说明构成本专利技术的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1示出了采用本专利技术实施方式所提供透明导电膜的制备方法制备而成的一种透明导电膜的剖面结构示意图；图2示出了采用本专利技术实施方式所提供透明导电膜的制备方法制备而成的一种包括多组高折射率材料层和低折射率材料层的透明导电膜的剖面结构示意图；以及图3示出了本专利技术实施方式所提供的一种透明导电膜的制备方法中实现多层同时涂布工艺的多层涂布设备的结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、基材层；20、光学调整层；220、高折射率材料层；230、低折射率材料层；30、ITO层；40、涂布设备；410、涂布头；420、滑动面；430、涂布轴。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本专利技术中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，本专利技术的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本专利技术的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明导电膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层(10)的表面，干燥后得到光学调整层(20)，所述光学调整层(20)包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层(220)和低折射率材料层(230)，所述耐高温基材层(10)的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离所述的耐高温基材层(10)的表面设置的所述第一涂料和所述第二涂料为一组，各组中的所述低折射率材料层(230)位于所述高折射率材料层(220)的远离所述耐高温基材层(10)的一侧；S2，在所述光学调整层(20)的表面设置ITO层(30)。

【技术特征摘要】
1.一种透明导电膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，采用多层同时涂布工艺将包括高折射率材料的第一涂料以及包括低折射率材料的第二涂料同步设置于耐高温基材层(10)的表面，干燥后得到光学调整层(20)，所述光学调整层(20)包括交替层叠设置的至少一组高折射率材料层(220)和低折射率材料层(230)，所述耐高温基材层(10)的玻璃转化温度大于120℃，且各相邻依次远离所述的耐高温基材层(10)的表面设置的所述第一涂料和所述第二涂料为一组，各组中的所述低折射率材料层(230)位于所述高折射率材料层(220)的远离所述耐高温基材层(10)的一侧；S2，在所述光学调整层(20)的表面设置ITO层(30)。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，采用所述多层同时涂布工艺将多组所述第一涂料与所述第二涂料同步设置，至少一组所述第一涂料中的高折射率材料不同于其他组所述第一涂料中的高折射率材料，且至少一组所述第二涂料中的低折射率材料不同于其他组所述第一涂料中的低折射率材料。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光学调整层(20)包括n组所述高折射率材料层(220)和所述低折射率材料层(230)，1≤n≤10，优选1≤n≤3。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述步骤S1中，所述多层同时涂布工艺的涂布速度为10～300m/min。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，采用多层涂布设备(40)实施所述多层同时涂布工艺，所述多层涂布设备(40)包括：可旋转的涂布轴(430)，所述涂布轴(430)用于承载所述耐高温基材层(10)；涂布模块，所述涂布模块的上表面为沿靠近所述涂布轴(430)的方向向下倾斜的滑动面(420)，且所述涂布模块包括多个涂布头(410)，且各所述涂布头(410)具有出口的表面构成所述滑动面(420)，所述涂布头(410)的出口沿远离所述涂布轴(430)的方向平行排列，所述涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：张国臻，于甄，
申请(专利权)人：张家港康得新光电材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32