一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法技术

技术编号:20745542 阅读:48 留言:0更新日期:2019-04-03 10:27
本发明专利技术提供了一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法,包括:配置料浆,将料浆置入喷涂装置中,其中,喷涂装置包括旋转喷头,喷头包括底座和设于底座上的至少两个气体分散装置,底座中心设有料浆孔,至少两个气体分散装置相交于料浆孔,气体分散装置包括第一侧壁和与第一侧壁相连接的第二侧壁,至少两个第一侧壁相交于料浆孔,第一侧壁上设有第一分散孔。开启喷涂装置,料浆从料浆孔中喷出,压缩空气从第一分散孔中喷出,使料浆分散成多个颗粒,多个颗粒在坩埚内表面形成浆点。通过旋转喷头将料浆喷出,并通过倾斜设置的第一分散孔中喷出的压缩空气将料浆分散成多个颗粒,并均匀地落在坩埚内表面以形成浆点,最终提高了坩埚内表面的粗糙度。

【技术实现步骤摘要】
一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法
本专利技术属于多晶铸锭用坩埚制造
,具体涉及一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法。
技术介绍
在多晶硅铸锭用坩埚内表面沉积氮化硅层来隔绝硅液与坩埚的侵蚀反应,以方便多晶硅锭脱模,是现在行业内常用的做法。但氮化硅层和坩埚内表面的结合力差,导致氮化硅层易脱落,会使坩埚的杂质进入到硅锭中去,严重的情况下会导致硅锭与坩埚黏连形成粘锅、裂锭等。目前,通常采用喷砂工艺来改善上述问题。例如采用压缩空气为动力,将砂料以高速射向多晶硅铸锭用坩埚内表面,在一定的冲击力下破坏表层,使坩埚内表面裸露出新的表层,该表层的形状发生变化,形成凹凸不平的结构,从而获得一定的清洁度和粗糙度,最终提高氮化硅层和多晶硅铸锭用坩埚内表面的结合力。但在喷砂过程中由于坩埚内表面各处的硬度存在不均,喷砂效果的均一性也会受到影响,同时喷砂对材料粗糙度的提高程度也有限,并且上述方法在使用过程中会产生大量的粉尘,对环境和人体造成严重的危害。
技术实现思路
鉴于此,本专利技术提供了一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法,通过旋转喷头将喷出的料浆分散成颗粒,并均匀地落在多晶硅铸锭用坩本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法,其特征在于,包括以下步骤:配置料浆,将所述料浆置入喷涂装置中,其中,所述喷涂装置包括旋转喷头,所述喷头包括底座和设于所述底座上的至少两个气体分散装置,所述底座中心设有料浆孔,至少两个所述气体分散装置相交于所述料浆孔,所述气体分散装置包括第一侧壁和与所述第一侧壁相连接的第二侧壁,至少两个所述第一侧壁相交于所述料浆孔,所述第一侧壁上设有第一分散孔;开启所述喷涂装置,所述料浆从所述料浆孔中喷出,压缩空气从所述第一分散孔中喷出,使所述料浆分散成多个颗粒,多个所述颗粒在所述多晶硅铸锭用坩埚内表面形成浆点以提高所述多晶硅铸锭用坩埚内表面的粗糙度。

【技术特征摘要】
1.一种提高多晶硅铸锭用坩埚内表面粗糙度的方法,其特征在于,包括以下步骤:配置料浆,将所述料浆置入喷涂装置中,其中,所述喷涂装置包括旋转喷头,所述喷头包括底座和设于所述底座上的至少两个气体分散装置,所述底座中心设有料浆孔,至少两个所述气体分散装置相交于所述料浆孔,所述气体分散装置包括第一侧壁和与所述第一侧壁相连接的第二侧壁,至少两个所述第一侧壁相交于所述料浆孔,所述第一侧壁上设有第一分散孔;开启所述喷涂装置,所述料浆从所述料浆孔中喷出,压缩空气从所述第一分散孔中喷出,使所述料浆分散成多个颗粒,多个所述颗粒在所述多晶硅铸锭用坩埚内表面形成浆点以提高所述多晶硅铸锭用坩埚内表面的粗糙度。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第二侧壁与所述第一侧壁的夹角为100°-130°,所述第二侧壁上设有第二分散孔,所述第二分散孔用于使所述颗粒分散至所述多晶硅铸锭用坩埚内表面上。3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一侧壁与所述底座之间的夹角为10°-30°。4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当所述料浆从所述料浆孔中喷出...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄蓉帅钟德京刘兵贾建广
申请(专利权)人:中材江苏太阳能新材料有限公司江西中材太阳能新材料有限公司中材高新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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