轴承套圈的平面磨支架制造技术

技术编号:20736298 阅读:37 留言:0更新日期:2019-04-03 06:19
本实用新型专利技术涉及一种轴承套圈加工装置,尤其是轴承套圈的平面磨支架,所述支架的顶部设有定位槽,且定位槽位于支架的中心,定位槽沿支架的纵向设置,轴承套圈的挡边位于定位槽中。本实用新型专利技术提供的轴承套圈的平面磨支架将磨床支承结构改进为双点支承结构,套圈不易发生歪斜现象,提高了套圈加工质量,避免了端面磨伤现象的发生,有效提高合格率。

Plane grinding support for bearing rings

The utility model relates to a bearing ring processing device, in particular to a plane grinding support for the bearing ring. The top of the support is provided with a positioning groove, which is located in the center of the support, the positioning groove is arranged along the longitudinal direction of the support, and the retaining edge of the bearing ring is located in the positioning groove. The planar grinding support provided by the utility model improves the support structure of the grinding machine to a double-point support structure, and the ring is not easy to deflect, which improves the processing quality of the ring, avoids the occurrence of end-face abrasion and effectively improves the qualified rate.

【技术实现步骤摘要】
轴承套圈的平面磨支架
本技术涉及一种轴承套圈加工装置,尤其是轴承套圈的平面磨支架。
技术介绍
复式双端面磨床M7675加工轴承套圈(轴承内圈)端面时,轴承套圈位于上下两个支架之间,通过调整上下两个支架位置,使套圈的中心处于砂轮的中心。加工时,以套圈外径面定位,将套圈放在上下两个支架之间,通过送料盘将套圈送入两砂轮之间,进行往复磨削。由于支架只有一个支撑点且支撑位置位于套圈中间,对于调心滚子轴承内圈来说,内圈中挡边宽度太窄,接触面积小,在磨削过程中套圈不稳定,容易造成套圈出料时失稳而产生歪斜,导致两端面产生不均匀磨削,平面度超差,时有磨伤现象发生。
技术实现思路
为解决上述问题,本技术提供一种将磨床支承结构改进为双点支承结构,套圈不易发生歪斜现象,提高了套圈加工质量,避免了端面磨伤现象的发生,有效提高合格率的轴承套圈的平面磨支架,具体技术方案为:轴承套圈的平面磨支架,所述支架的顶部设有定位槽,且定位槽位于支架的中心,定位槽沿支架的纵向设置,轴承套圈的挡边位于定位槽中。优选的,所述支架的顶部设有圆弧面,圆弧面位于定位槽的两侧,圆弧面与轴承套圈的弧面相匹配。根据加工的轴承套圈的宽窄适当的调整支架的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.轴承套圈的平面磨支架,其特征在于,所述支架(2)的顶部设有定位槽(21),且定位槽(21)位于支架(2)的中心,定位槽(21)沿支架(2)的纵向设置,轴承套圈(5)的挡边(51)位于定位槽(21)中;所述支架(2)的顶部设有圆弧面(22),圆弧面(22)位于定位槽(21)的两侧,圆弧面(22)与轴承套圈(5)的弧面相匹配。

【技术特征摘要】
1.轴承套圈的平面磨支架,其特征在于,所述支架(2)的顶部设有定位槽(21),且定位槽(21)位于支架(2)的中心,定位槽(21)沿支架(2)的纵向设置,轴承套圈(...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘志凯孔维涛
申请(专利权)人:江苏锡滚轴承科技有限公司
类型:新型
国别省市:江苏,32

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