一种半导体废气处理的酸碱中和设备制造技术

技术编号:20733892 阅读:38 留言:0更新日期:2019-04-03 04:59
本实用新型专利技术提供一种半导体废气处理的酸碱中和设备,涉及环保设备技术领域。该半导体废气处理的酸碱中和设备,包括半导体发生装置,所述半导体发生装置右侧连通有第一输气管,所述除污箱内部固定安装有过滤网,所述过滤网底部固定安装有压力喷水装置,所述除污箱顶部过滤装置,所述酸性反应台右端连通有第三输气管,所述第三输气管右端连通有碱性反应台,所述碱性反应台右侧连通有排气口。该半导体废气处理的酸碱中和设备,通过设置过滤网,过滤网上设置若干的压力喷水装置,使较大的粒子被液滴捕集,通过设置第二气泵,也可以使得反应的更为充分,通过设置第三气泵,也可以使得反应的更为充分。

An acid-base neutralizing equipment for semiconductor waste gas treatment

The utility model provides an acid-base neutralizing device for semiconductor waste gas treatment, which relates to the technical field of environmental protection equipment. The acid-base neutralizing device for semiconductor waste gas treatment includes a semiconductor generating device, the right side of which is connected with a first gas pipeline, the filter screen is fixed inside the decontamination box, the pressure water spraying device is fixed at the bottom of the filter screen, the top filter device of the decontamination box, the right end of the acid reaction platform is connected with a third gas pipeline, and the third gas pipeline is fixed at the bottom of the filter screen. The right end of the trachea is connected with an alkaline reaction platform, and the right side of the alkaline reaction platform is connected with an exhaust port. The acid and alkali neutralization equipment for semiconductor waste gas treatment can also make the reaction more fully by setting up a filter screen and a number of pressure water spraying devices on the filter network, so that larger particles can be trapped by droplets. By setting up a second gas pump, the reaction can also be more fully, and by setting up a third gas pump, the reaction can also be more fully.

【技术实现步骤摘要】
一种半导体废气处理的酸碱中和设备
本技术涉及环保设备
,具体为一种半导体废气处理的酸碱中和设备。
技术介绍
随着社会的进步,工业化的进程也飞速发展,工业生产不断发展会对大气中排放大量的工业残余气体,这样的气体排放到大气中,会导致很多严重的后果,例如:产生环境污染,对工厂的厂房,尤其是现代化的钢结构厂房有很大的腐蚀作用,造成不可挽回的损失,对成品及再制品的表面质量产生影响,特别是酸气会导致铜及铜合金带材表面产生腐蚀、锈斑,另外酸碱废气对人的身体健康也有很大的危害,半导体废气排放也不例外,半导体制配过程中会产生酸碱气体,这样的气体排放到空气中会污染空气,危害人体的健康,甚至会产生爆炸,对工人的人身安全带来影响,于是半导体废气处理的酸碱中和设备应运而生。现在对制配半导体产生的废气处理多采用洗涤塔进行吸收,碱性气体采用酸性洗涤塔吸收,酸性气体采用碱性洗涤塔吸收。往往这样简单的采用洗涤塔中和酸碱气体的方式导致中和不彻底,没有达到净化标准就排放到大气中,同样也会对环境产生影响。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种半导体废气处理的酸碱中和设备,解决了半导体废气处理时酸碱中和的问题。技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种半导体废气处理的酸碱中和设备,包括半导体发生装置(1),其特征在于:所述半导体发生装置(1)右侧连通有第一输气管(2),所述第一输气管(2)上连通有第一风机(3),所述第一风机(3)右端连通有除污箱(4),所述除污箱(4)顶部连通有第一气泵(5),所述除污箱(4)内部固定安装有过滤网(6),所述过滤网(6)底部固定安装有压力喷水装置(7),所述除污箱(4)顶部过滤装置(8),所述过滤装置(8)顶端连通有第二输气管(9),所述第二输气管(9)底端连通有酸性反应台(10),所述酸性反应台(10)右端连通有第三输气管(17),所述第三输气管(17)右端连通有碱性反应台(18),所述碱性反应台...

【技术特征摘要】
1.一种半导体废气处理的酸碱中和设备,包括半导体发生装置(1),其特征在于:所述半导体发生装置(1)右侧连通有第一输气管(2),所述第一输气管(2)上连通有第一风机(3),所述第一风机(3)右端连通有除污箱(4),所述除污箱(4)顶部连通有第一气泵(5),所述除污箱(4)内部固定安装有过滤网(6),所述过滤网(6)底部固定安装有压力喷水装置(7),所述除污箱(4)顶部过滤装置(8),所述过滤装置(8)顶端连通有第二输气管(9),所述第二输气管(9)底端连通有酸性反应台(10),所述酸性反应台(10)右端连通有第三输气管(17),所述第三输气管(17)右端连通有碱性反应台(18),所述碱性反应台(18)右侧连通有排气口(22)。2.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备,其特征在于:所述过滤网(6)数量为三个,且分别均匀分布在除污箱(4)的内部,所述压力喷水装置(7)有若干个,且分别均匀分布在过滤网(6)底部。3.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备,其特征在于:所述酸性反应台(10)右侧连通有第二气泵(15),所述酸性反应台(10)左侧贯穿有第一吸水管(13),所述第一吸水管(13)右端延伸至酸性反应台(10)底部,所述第一吸水管(13)的一端连通有第一回收箱(14)。4.根据权利要求1所述的一种半导体废气处理的酸碱中和设备,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨春涛张坤司马超杨春水赵力行邹昭平蒋俊海于浩
申请(专利权)人:安徽京仪自动化装备技术有限公司
类型:新型
国别省市:安徽,34

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