显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板的制作方法，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。本发明专利技术的技术方案能够提高显示基板的良率，同时有利于实现显示装置的窄边框。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)因其具有功耗低，轻便，亮度高，视野宽，高对比度和反应速度快等优点，取得了很多成果，目前面板厂商都在布局OLED产线。现有的OLED器件包括薄膜晶体管阵列层和发光单元，发光单元包括阳极、阴极和发光层。其中，通常采用溅射工艺制备覆盖显示区域的整层的阴极，但是现有技术在制备阴极时，溅射形成的阴极往往超出显示区域，一方面容易发生短路，降低OLED器件的良率；另一方面，会导致OLED器件的边框变大，不利于实现OLED器件的窄边框。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示基板的良率，同时有利于实现显示装置的窄边框。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种显示基板的制作方法，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层包括：采用贴膜工艺在所述显示基板的非显示区域贴附所述可形变膜层。3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层之前，所述方法还包括：形成所述显示基板的发光层。4.根据权利要求3所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层包括：采用溅射工艺在...

【专利技术属性】
技术研发人员：全威，刘晴，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11