显示基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板的制作方法，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。本发明专利技术的技术方案能够提高显示基板的良率，同时有利于实现显示装置的窄边框。

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种显示基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
有机电致发光器件(OLED)因其具有功耗低，轻便，亮度高，视野宽，高对比度和反应速度快等优点，取得了很多成果，目前面板厂商都在布局OLED产线。现有的OLED器件包括薄膜晶体管阵列层和发光单元，发光单元包括阳极、阴极和发光层。其中，通常采用溅射工艺制备覆盖显示区域的整层的阴极，但是现有技术在制备阴极时，溅射形成的阴极往往超出显示区域，一方面容易发生短路，降低OLED器件的良率；另一方面，会导致OLED器件的边框变大，不利于实现OLED器件的窄边框。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示基板的良率，同时有利于实现显示装置的窄边框。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种显示基板的制作方法，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。进一步地，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层包括：采用贴膜工艺在所述显示基板的非显示区域贴附所述可形变膜层。进一步地，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层之前，所述方法还包括：形成所述显示基板的发光层。进一步地，所述在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层包括：采用溅射工艺在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的阴极层。进一步地，所述可形变膜层包括基底和位于基底上的发泡材料。进一步地，所述发泡材料由基体材料、催化剂、泡沫稳定剂以及发泡剂组成，所述基体材料选自塑料和橡胶。进一步地，所述控制所述可形变膜层的体积变大包括：对所述软质发泡材料进行加热，使得所述可形变膜层的体积变大。进一步地，所述将所述可形变膜层从所述显示基板上去除包括：采用机械剥离方式将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。本专利技术实施例还提供了一种显示基板，采用如上所述的制作方法制作得到，所述显示基板的电极层不超出所述显示基板的显示区域。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示基板。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，在制备电极层前，形成覆盖显示基板的非显示区域的可形变膜层，可形变膜层包括有对应显示基板的显示区域的镂空部，之后在形成有可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层，控制可形变膜层的体积变大，使得位于可形变膜层上的电极层部分与位于显示区域的电极层部分自然分，将可形变膜层从显示基板上去除，这样可以将位于可形变膜层上的电极层部分也从显示基板上去除，通过本专利技术的技术方案，能够实现显示基板的电极层不超出显示基板的显示区域，这样一方面避免发生短路，提高了显示基板的良率；另一方面，不需要将显示基板的边框预留较大的空间，最大限度的缩减边框，有利于实现显示装置的窄边框。附图说明图1和图2为现有技术中出现shadow现象的示意图；图3为本专利技术实施例提供的可形变膜层的示意图；图4为本专利技术实施例制作显示基板的阴极层的示意图；图5为本专利技术实施例显示基板的阴极层不超出显示区域的示意图。附图标记1发光层2可形变膜层3阴极层具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。本专利技术的实施例针对现有技术中在制备阴极时，溅射形成的阴极往往超出显示区域，一方面容易发生短路，降低OLED器件的良率；另一方面，会导致OLED器件的边框变大，不利于实现OLED器件的窄边框的问题，提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，能够提高显示基板的良率，同时有利于实现显示装置的窄边框。本专利技术的实施例提供一种显示基板的制作方法，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。本实施例中，在制备电极层前，形成覆盖显示基板的非显示区域的可形变膜层，可形变膜层包括有对应显示基板的显示区域的镂空部，之后在形成有可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层，控制可形变膜层的体积变大，使得位于可形变膜层上的电极层部分与位于显示区域的电极层部分自然分，将可形变膜层从显示基板上去除，这样可以将位于可形变膜层上的电极层部分也从显示基板上去除，通过本专利技术的技术方案，能够实现显示基板的电极层不超出显示基板的显示区域，这样一方面避免发生短路，提高了显示基板的良率；另一方面，不需要将显示基板的边框预留较大的空间，最大限度的缩减边框，有利于实现显示装置的窄边框。进一步地，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层包括：采用贴膜工艺在所述显示基板的非显示区域贴附所述可形变膜层。相比沉积、涂覆等其他成膜工艺，贴膜工艺对显示基板的影响较小，不会对显示基板上已形成的元器件的性能造成影响。一具体实施例中，所述电极层为OLED显示基板的阴极层，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层之前，所述方法还包括：形成所述显示基板的发光层。进一步地，所述在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层包括：采用溅射工艺在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的阴极层。其中，可形变膜层可以采用多种能够发生形变的材料，比如电致伸缩材料，能够在电场的作用下发生形变；比如磁致伸缩材料，能够在磁场的作用下发生形变，一具体实施例中，所述可形变膜层可以采用基底和位于基底上的发泡材料，发泡材料在环境温度升高后，体积将会发生膨胀，发泡材料的成本较低，并且只需要对发泡材料进行加热即可使得发泡材料膨胀，对发生形变的工艺要求较低，便于实现。进一步地，所述发泡材料由基体材料、催化剂、泡沫稳定剂以及发泡剂组成，所述基体材料选自塑料(PE、EVA等)和橡胶(SBR、CR等)。进一步地，所述控制所述可形变膜层的体积变大包括：对所述发泡材料进行加热，使得所述可形变膜层的体积变大。进一步地，所述将所述可形变膜层从所述显示基板上去除包括：采用机械剥离方式将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。机械剥离方式不会对显示基板上已形成的其他元器件造成影响，并且实现成本较低。下面结合附图以及具体的实施例对本专利技术的技术方案进行详细介绍：现有技术在制备OLED器件时，首先制备薄膜晶体管阵列层，然后依次进行阳极层、发光层和阴极层的制备，其中，通常采用溅射工艺制备覆盖显示区域的整层的阴极层，但是现有技术在制备阴极层时，如图1所示，溅射形成的阴极层3往往超出显示区域，该种现象称之为shadow现象，其中，1为位于显示区域内的发光层，shadow现象一方面容易发生短路，降低OLED器件的良率；另一方面，会导致OLED器件的边框变大，不利于实现OLED器件的窄边框。如图2所示，其中，S为阴极层超出显示区域的宽度，D2为阴极层的设计厚度，D1为显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层，所述可形变膜层包括有对应所述显示基板的显示区域的镂空部；在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层；控制所述可形变膜层的体积变大，使得位于所述可形变膜层上的电极层部分与位于所述显示区域的电极层部分自然分离；将所述可形变膜层从所述显示基板上去除。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层包括：采用贴膜工艺在所述显示基板的非显示区域贴附所述可形变膜层。3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成覆盖所述显示基板的非显示区域的可形变膜层之前，所述方法还包括：形成所述显示基板的发光层。4.根据权利要求3所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在形成有所述可形变膜层的显示基板上形成整层的电极层包括：采用溅射工艺在...

【专利技术属性】
技术研发人员：全威，刘晴，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11