The method consists of two parts: 1. The upper and lower ITO and silver paste patterns of GFF structure for laser etching process; 2. The technological parameters of laser etching silver paste and ITO layers. The ITO and slurry patterns are etched by synchronous one-time laser etching with the ITO and silver slurry patterns of the upper and lower layers of the special GFF structure, which reduces the process flow and improves the productivity and yield of the products. In the etching process, the acid-free and alkali solvents will not pollute the environment and the pure water cleaning system will not need to be increased to save the cost of the pure water resources and the water-making system. Synchronized etching of silver paste pattern avoids the need of overlap size between graphs and the use of ultra-fine laser etching silver paste and ultra-fine laser etching equipment can greatly reduce the size of the frame on both sides of the GFF structure to achieve the overall screen requirements of the GFF ultra-narrow frame products.
【技术实现步骤摘要】
一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法
本专利技术涉及触控显示领域,尤其涉及一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法。
技术介绍
当前的行业内,针对GFF结构触摸屏的加工方法主要存在以下两种,这些方法各自存在以下的缺陷:一、酸碱蚀刻上下两层ITO图形+镭射上下两层银浆线路:(1)生产过程中需要使用强酸蚀刻ITO图形,强碱剥离保护层从而导致环境污染无法达到环保要求且增加额外的酸碱溶液材料成本;(2)在生产过程中需要纯水清洗,使用大量的纯水资源造成水资源的浪费不符合节约型的社会需求;(3)需要额外添加至少五道工序使用特殊的保护层(丝印或贴覆保护层、烘烤或曝光保护层、酸碱蚀刻、纯水清洗、热风吹干),保护不被强酸蚀刻需要留下的图形,造成了良率、效率和成本的浪费。二、蚀刻膏蚀刻上下两层ITO图形+镭射上下两层银浆线路:(1)生产过程中需要使用酸性蚀刻膏蚀刻ITO图形从而导致环境污染无法达到环保要求且增加额外的蚀刻膏材料成本;(2)在生产过程中需要使用纯水清洗烘干后的蚀刻膏,使用大量的纯水资源造成水资源的浪费不符合节约型的社会需求;(3)需要增加丝印蚀刻膏、烘干蚀刻膏、纯水清洗蚀刻膏三道工序,造成了造成了良率、效率和成本的浪费。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法。为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法,本方法由两部分组成:S1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形:GFF结构触摸屏由玻璃盖板、上层OCA光学胶层、上层触 ...
【技术保护点】
1.一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法,其特征在于,本方法由两部分组成:S1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形:GFF结构触摸屏由玻璃盖板、上层OCA光学胶层、上层触控层、下层OCA光学胶层、下层触控层组成,玻璃盖板的左右两侧的边框市场需求越来越窄实现超窄边框触控模组;上层或下层触控层由ITO膜材的PET基材、透明ITO层、丝印在ITO层上的银浆层组成,其中透明ITO层上需要蚀刻ITO图形,丝印在ITO层上的银浆层需要蚀刻银浆图形,蚀刻工艺采用激光的方法进行蚀刻;S2、激光蚀刻银浆图层和ITO图层的工艺参数:银浆图层和ITO图层在激光设备上分属于两个不同的图层且每层图层的工艺参数可以分别设定,由于ITO图层的材质为ITO,银浆图层的材质为银浆,不同的材质需采用不同的工艺参数。
【技术特征摘要】
1.一种GFF结构触摸屏用全激光工艺的制作方法,其特征在于,本方法由两部分组成:S1、激光蚀刻工艺专用的GFF结构上下层ITO图形和银浆图形:GFF结构触摸屏由玻璃盖板、上层OCA光学胶层、上层触控层、下层OCA光学胶层、下层触控层组成,玻璃盖板的左右两侧的边框市场需求越来越窄实现超窄边框触控模组;上层或下层触控层由ITO膜材的PET基材、透明ITO层、丝印在ITO层上的银浆层组成,其中透明ITO层上需要蚀刻ITO图形,丝印在ITO层上的银浆层需要蚀刻银浆图形,蚀刻工艺采用激光的方法进行蚀刻;S2、激光蚀刻银浆图层和ITO图层的工艺参数:银浆图层和ITO图层在激光设备上分属于两个不同的图层且每层图层的工艺参数可以分别设定,由于ITO图层的材质为ITO,银浆图层的材质为银浆,不同的材质需采用不同的工艺参数。2.根据权利要求1所述的一种G...
【专利技术属性】
技术研发人员:周志强,李金雄,梁巨春,钱鼎林,
申请(专利权)人:深圳市鸿展光电有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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