一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:20519286 阅读:77 留言:0更新日期:2019-03-06 03:25
本发明专利技术提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置,在不增加平坦层总厚度的前提下,通过分两次形成两个平坦化层,得到包括两段式平坦化结构的显示基板,在形成第一平坦化层后,可以有效降低显示基板表面的段差,从而在制备第二平坦化层时,降低工艺难度,并满足平坦化工艺的要求。经试验证明,两层平坦化工艺可将显示基板表面的段差降低到20nm以内,从而保证形成在平坦化层上的功能器件能够正常工作。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置
本专利技术涉及显示
,具体涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。
技术介绍
有机电子薄膜器件装置通常包括晶体管电路、发光装置(例如OLED)及光电感测元件。这些装置或元件从微观上看,通常都是由多层无机(如各种金属、半导体,绝缘介质等)薄膜和有机薄膜形成,且这些薄膜是图形化的,可以呈现线状,块状,条状等。图形化的薄膜相互交叠,即在不同区域交叠的薄膜层数不同导致厚度存在差异,出现凸凹不平的现象。图1为现有的显示基板的结构示意图,衬底基板300上设置有第一图形层100,第一图形层100上设置第二图形层200。图1中显示基板的最高点是两个图形层的重叠之处,其与衬底基板300所在平面的段差记为a1。在电路结构或晶体管器件(即上述图形层)制作完成后,会形成平坦化层400,以利于后续工艺步骤的进行,最常用的方法是在最上方的图形层表面涂覆液态的平坦化层材料,利用其流平特性进行平坦化,干燥固化后形成薄膜。如图1所示,当图形层的段差a1过大时,单层的光刻胶涂覆很难满足平坦化的要求,或者,必须要足够厚的光刻胶才能达到一定的平坦度要求,这对后续工艺难度较大。对于某些功能器件而言,比如有机电致发光器件(OLED),功能层厚度通常较薄,一般在20-100nm范围内,其对底层基板的表面平坦性能的要求非常高,衬底基板表面的细微不平会体现在发光亮度上,导致发光不均。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述不足,提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置,用以至少部分解决现有的显示基板平坦化效果差,平坦化工艺难度大的问题。本专利技术为解决上述技术问题,采用如下技术方案:本专利技术提供一种显示基板的制备方法,包括以下步骤:在衬底基板上形成图形层;在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成所述第一平坦化层;在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层。优选的,所述第一预聚合溶液的粘度小于50厘泊。优选的,所述在所述图形层上形成第一平坦化层,具体包括:在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成所述第一平坦化层。优选的,所述在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,具体包括:在所述图形层上依次涂覆第一预聚合溶液和第二预聚合溶液,以使所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液混合。进一步的,所述显示基板的制备方法还包括:在所述第一预聚合溶液和所述第二聚合溶液混合过程中,和/或,在聚合反应过程中,向所述混合溶液加载超声波。优选的,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚溶液中含有光学活性材料。进一步的,所述生成聚合物之后,所述方法还包括:去除未充分聚合的所述第一或第二预聚合溶液的混合溶液。进一步的,所述涂覆第二预聚合溶液之前,所述方法还包括:部分挥发所述第一预聚合溶液,以使挥发后的第一预聚合溶液的液面不高于所述最上层的图形层的上表面。优选的,所述挥发后的第一预聚合溶液的体积为挥发前的第一预聚合溶液的体积的10-30%。优选的,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚合溶液含有催化剂或引发剂;所述通过聚合反应生成聚合物,具体包括:所述第一预聚合溶液的第一预聚单体与所述第二预聚合溶液的第二预聚单体在所述催化剂或所述引发剂作用下发生共聚反应,生成所述聚合物。优选的,所述第一预聚单体和所述第二预聚单体其中之一为异氰酸酯类单体,另一个为羟基化合物类单体。优选的,所述通过聚合反应生成聚合物,具体包括:所述第二预聚合溶液为引发剂,所述第一预聚合溶液的第一预聚单体在所述第二预聚合溶液的引发下发生自聚反应,生成所述聚合物;或者,所述第一预聚合溶液为引发剂,所述第二预聚合溶液的第二预聚单体在所述第一预聚合溶液的引发下发生自聚反应,生成所述聚合物。优选的,所述第一预聚合溶液为引发剂,所述挥发后的第一预聚合溶液的质量百分比浓度小于或等于0.5%。优选的,所述引发剂为偶氮类引发剂或过氧类化合物引发剂。优选的,所述在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成所述第一平坦化层,具体包括:在所述图形层上涂覆第一预聚合溶液,所述第一预聚合溶液为第一预聚单体溶液,且含有引发剂;在加热条件下,所述第一预聚合溶液的第一预聚单体在所述引发剂的引发下发生本体聚合反应生成聚合物,以形成第一平坦化层。进一步的,所述第一预聚合溶液的第一预聚单体在所述引发剂的引发下发生本体聚合反应生成聚合物之前,所述方法还包括:部分挥发所述第一预聚合溶液,以使挥发后的第一预聚合溶液的液面不高于所述最上层的图形层的上表面。优选的,所述第一预聚合溶液中含有光学活性材料。进一步的,所述生成聚合物之后,所述方法还包括:去除未充分聚合的所述第一预聚合溶液。本专利技术还提供一种显示基板,采用如前所述的方法制备,包括:衬底基板、形成在所述衬底基板上的图形层、第一平坦化层和第二平坦化层,所述第一平坦化层形成在所述图形层上,所述第二平坦化层形成在所述第一平坦化层上。优选的,所述第一平坦化层和所述第二平坦化层的材料中含有光学活性材料。本专利技术还提供一种显示装置,包括如权利要求19或20所述的显示基板。本专利技术能够实现以下有益效果:本专利技术在不增加平坦层总厚度的前提下,通过分两次形成两个平坦化层,得到包括两段式平坦化结构的显示基板,在形成第一平坦化层后,可以有效降低显示基板表面的段差,从而在制备第二平坦化层时,降低工艺难度,并满足平坦化工艺的要求。经试验证明,两层平坦化工艺可将显示基板表面的段差降低到20nm以内,从而保证形成在平坦化层上的功能器件能够正常工作。附图说明图1为现有的显示基板的结构示意图;图2为本专利技术实施例4提供的显示基板的结构示意图;图3a-图3d为本专利技术实施例1、2提供的制备显示基板的第一平坦化层步骤示意图;图4a-图4c为本专利技术实施例3提供的制备显示基板的第一平坦化层步骤示意图。图例说明:100、第一图形层200、第二图形层300、衬底基板400、平坦化层500、第一平坦化层600、第二平坦化层501、第一预聚合溶液502、第二预聚合溶液具体实施方式下面将结合本专利技术中的附图,对本专利技术中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。实施例1本专利技术实施例1提供一种显示基板的制备方法,结合图2和图3a-图3d所示,所显示基板的制备方法包括以下步骤:步骤11,在衬底基板300上形成图形层。具体的,在本专利技术实施例中,图形层可以包括第一图形层100和第二图形层200,第一图形层100和第二图形层200依次形成在衬底基板300上。步骤12,在所述图形层上形成第一平坦化层500。具体的,如图3a所示,在所述图形层(即第二图形层200)上至少涂覆第一预聚合溶液501,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成第一平坦化层500。在实施例1中,如图3a和图3c所示,在所述图形层上依次涂覆第一预聚合溶液501和第二预聚合溶液502,以使第一预聚合溶液501和第二预聚合溶液502混合。步骤12具体包括以下步骤:步骤121,在第二图形层本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底基板上形成图形层;在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成所述第一平坦化层;在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底基板上形成图形层;在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,在加热条件下通过聚合反应生成聚合物,以形成所述第一平坦化层;在所述第一平坦化层上形成第二平坦化层。2.如权利要求1所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液的粘度小于50厘泊。3.如权利要求1或2所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述在所述图形层上至少涂覆第一预聚合溶液,具体包括:在所述图形层上依次涂覆第一预聚合溶液和第二预聚合溶液,以使所述第一预聚合溶液和所述第二预聚合溶液混合。4.如权利要求3所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:在所述第一预聚合溶液和所述第二聚合溶液混合过程中,和/或,在聚合反应过程中,向所述混合溶液加载超声波。5.如权利要求3所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚溶液中含有光学活性材料。6.如权利要求3所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述生成聚合物之后,所述方法还包括:去除未充分聚合的所述第二预聚合溶液的混合溶液。7.如权利要求3所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述涂覆第二预聚合溶液之前,所述方法还包括:部分挥发所述第一预聚合溶液,以使挥发后的第一预聚合溶液的液面低于最上层的图形层的上表面。8.如权利要求7所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述挥发后的第一预聚合溶液的体积为挥发前的第一预聚合溶液的体积的10-30%。9.如权利要求7所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚合溶液和/或所述第二预聚合溶液含有催化剂或引发剂;所述通过聚合反应生成聚合物,具体包括:所述第一预聚合溶液的第一预聚单体与所述第二预聚合溶液的第二预聚单体在所述催化剂或所述引发剂作用下发生共聚反应,生成所述聚合物。10.如权利要求9所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述第一预聚单体和所述第二预聚单体其中之一为异氰酸酯类单体,另一个为羟基化合物类单体。11.如权利要求7所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述通过聚合反应生成聚合...

【专利技术属性】
技术研发人员:代青
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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