一种电致发光器件及其制造方法技术

一种电致发光器件及其制造方法，涉及发光器件领域。本发明专利技术实施例的电致发光器件的制造方法采用涂布加打印的工艺，降低器件制作难度，降低成本；并且在像素隔离结构上完成所有溶液制程之后，在蒸镀或溅射电极层之前，在像素隔离结构上打印绝缘层，解决湿法工艺中器件漏电及阴阳极短路的技术问题。本发明专利技术实施例的电致发光器件采用上述制造方法制得，该电致发光器能够极大减少器件漏电和阴阳极短路的技术问题，提高器件性能。

An Electroluminescent Device and Its Manufacturing Method

The invention relates to an electroluminescent device and a manufacturing method thereof, which relates to the field of light-emitting devices. The manufacturing method of the electroluminescent device according to the embodiment of the present invention adopts the coating and printing process to reduce the difficulty of device fabrication and cost, and print the insulation layer on the pixel isolation structure before evaporating or sputtering the electrode layer to solve the technical problems of device leakage and short circuit between cathode and anode in the wet process after the completion of all solution fabrication on the pixel isolation structure. The electroluminescent device according to the embodiment of the present invention is fabricated by the above-mentioned manufacturing method. The electroluminescent device can greatly reduce the technical problems of device leakage and short circuit between cathode and anode, and improve device performance.

【技术实现步骤摘要】
一种电致发光器件及其制造方法
本专利技术涉及发光器件领域，具体而言，涉及一种电致发光器件及其制造方法。
技术介绍
量子点发光器件(QLED，QuantumDotlightEmittingDevice)和有机发光器件(OLED，OrganicLight-EmittingDiode)都是采用电致发光原理进行发光的发光器件。这种电致发光器件的功能层组一般包括电子注入层EIL、电子传输层ETL、发光层EML、空穴传输层HTL、空穴注入层HIL，功能层组和设置于两侧的阳极和阴极组成发光结构，共同实现发光。目前电致发光器件采用湿法工艺制作。现有技术中采用湿法工艺制作OLED时，除EML的R、G、B像素使用打印工艺外，其它功能层还是使用成熟的蒸镀工艺，但是这样又存在蒸镀材料利用率低、成本较高的缺陷。另一方面，QLED只能用湿法工艺制作，但是当各个功能层均采用打印工艺，则需要配制可用的墨水，其制作难度加大，会出现打印过程及干燥过程中像素内产生不均匀性从而导致器件漏电的现象。因此，现有技术还有待改进和发展。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种电致发光器件，其能够极大减少器件漏电和阴阳极短路的技术问题，提高器件性能。本专利技术的另一目的在于提供一种电致发光器件的制造方法，其采用涂布加打印的工艺，解决漏电现象。本专利技术的实施例是这样实现的：一种电致发光器件的制造方法，其包括以下步骤：在导电基板上形成多个像素隔离结构，相邻像素隔离结构之间形成多个相互隔离的像素区域；在各个像素隔离结构的外表面和导电基板裸露的外表面上涂布形成第一载流子传输层；在各像素区域内的第二部分第一载流子传输层上打印形成发光层；在发光层和位于各像素隔离结构上方的第一部分第一载流子传输层上涂布形成第二载流子传输层；在位于各像素隔离结构上方的第一部分第二载流子传输层上打印形成绝缘层；在绝缘层和位于各像素区域上方的第二部分第二载流子传输层上蒸镀或溅射形成电极层；其中，第一载流子传输层为电子传输层或空穴传输层，对应的第二载流子为空穴传输层或电子传输层。在本专利技术较佳的实施例中，上述涂布工艺选自狭缝涂布工艺、旋涂工艺、喷涂工艺中的一种，优选为狭缝涂布工艺。在本专利技术较佳的实施例中，上述先在第一部分第二载流子传输层的上方设置具有镂空部的掩膜，再打印墨水穿过镂空部，固化形成绝缘层。一种电致发光器件，包括：导电基板；多个像素隔离结构，位于导电基板上，相邻像素隔离结构之间形成多个相互隔离的像素区域；以及按照下述顺序依次叠置的多层结构：第一载流子传输层，位于各像素隔离结构的外表面和导电基板裸露的外表面上；发光层，位于各像素区域内的第二部分第一载流子传输层远离导电基板的一侧表面上；第二载流子传输层，位于发光层远离导电基板的一侧表面上和各像素隔离结构上方的第一部分第一载流子传输层远离导电基板的一侧表面上；绝缘层，位于各像素隔离结构上方的第一部分第二载流子传输层远离导电基板的一侧表面上；以及电极层，位于绝缘层远离导电基板的一侧表面上和各像素区域上方的第二部分第二载流子传输层远离导电基板的一侧表面上；其中，第一载流子传输层为电子传输层或空穴传输层，对应的第二载流子为空穴传输层或电子传输层。在本专利技术较佳的实施例中，上述导电基板为阳极底衬，第一载流子传输层为空穴传输层，第二载流子传输层为电子传输层，电极层为阴极层。在本专利技术较佳的实施例中，上述导电基板为阴极底衬，第一载流子传输层为电子传输层，第二载流子传输层为空穴传输层，电极层为阳极层。在本专利技术较佳的实施例中，上述空穴传输层包括第一空穴传输层，或者空穴传输层包括叠置的空穴注入层和第二空穴传输层，第二空穴传输层位于空穴注入层和发光层之间。在本专利技术较佳的实施例中，上述电子传输层包括第一电子传输层，或者电子传输层包括叠置的第二电子传输层和电子注入层，第二电子传输层位于电子注入层和发光层之间。在本专利技术较佳的实施例中，上述绝缘层的厚度为0.5-1.5μm；绝缘层的材料选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、聚酰胺、聚四氟乙烯、聚酯-酰亚胺、聚胺-酰亚胺、聚酯、聚碳酸酯、酚醛树酯、聚丙烯、交联聚乙烯、聚氯乙烯、聚苯乙烯和环氧树酯中的一种或多种。在本专利技术较佳的实施例中，上述像素隔离结构的高度为0.5-2.5μm。本专利技术实施例的有益效果是：本专利技术实施例的电致发光器件的制造方法采用涂布加打印的工艺，降低器件制作难度，降低成本；并且在像素隔离结构上完成所有溶液制程之后，在蒸镀或溅射电极层之前，在像素隔离结构上打印绝缘层，解决湿法工艺中器件漏电及阴阳极短路的技术问题。本专利技术实施例的电致发光器件采用上述制造方法制得，该电致发光器能够极大减少器件漏电和阴阳极短路的技术问题，提高器件性能。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本专利技术第一实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的电致发光器件的掩膜图案示意图；图3为本专利技术第二实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图；图4为本专利技术第三实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图；图5为本专利技术第四实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图；图6为本专利技术第五实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图；图7为本专利技术第六实施例提供的一种电致发光器件的结构示意图。图标：100-电致发光器件；110-阳极底衬；120-像素隔离结构；130-空穴传输层；140-发光层；150-电子传输层；160-绝缘层；170-阴极层；180-像素区域；200-电致发光器件；210-空穴注入层；220-空穴传输层；300-电致发光器件；310-电子传输层；320-电子注入层；400-电致发光器件；410-阴极底衬；430-电子传输层；450-空穴传输层；470-阳极层；500-电致发光器件；510-电子注入层；520-电子传输层；600-电致发光器件；610-空穴传输层；620-空穴注入层。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“上方”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电致发光器件的制造方法，其特征在于，其包括以下步骤：在导电基板上形成多个像素隔离结构，相邻所述像素隔离结构之间形成多个相互隔离的像素区域；在各个所述像素隔离结构的外表面和所述导电基板裸露的外表面上涂布形成第一载流子传输层；在各所述像素区域内的第二部分所述第一载流子传输层上打印形成发光层；在所述发光层和位于各所述像素隔离结构上方的第一部分所述第一载流子传输层上涂布形成第二载流子传输层；在位于各所述像素隔离结构上方的第一部分所述第二载流子传输层上打印形成绝缘层；在所述绝缘层和位于各所述像素区域上方的第二部分所述第二载流子传输层上蒸镀或溅射形成电极层；其中，所述第一载流子传输层为电子传输层或空穴传输层，对应的所述第二载流子为空穴传输层或电子传输层。

【技术特征摘要】
1.一种电致发光器件的制造方法，其特征在于，其包括以下步骤：在导电基板上形成多个像素隔离结构，相邻所述像素隔离结构之间形成多个相互隔离的像素区域；在各个所述像素隔离结构的外表面和所述导电基板裸露的外表面上涂布形成第一载流子传输层；在各所述像素区域内的第二部分所述第一载流子传输层上打印形成发光层；在所述发光层和位于各所述像素隔离结构上方的第一部分所述第一载流子传输层上涂布形成第二载流子传输层；在位于各所述像素隔离结构上方的第一部分所述第二载流子传输层上打印形成绝缘层；在所述绝缘层和位于各所述像素区域上方的第二部分所述第二载流子传输层上蒸镀或溅射形成电极层；其中，所述第一载流子传输层为电子传输层或空穴传输层，对应的所述第二载流子为空穴传输层或电子传输层。2.根据权利要求1所述的电致发光器件的制造方法，其特征在于，所述涂布工艺选自狭缝涂布工艺、旋涂工艺、喷涂工艺中的一种，优选为狭缝涂布工艺。3.根据权利要求1所述的电致发光器件的制造方法，其特征在于，先在第一部分所述第二载流子传输层的上方设置具有镂空部的掩膜，再打印墨水穿过所述镂空部，固化形成所述绝缘层。4.一种电致发光器件，其特征在于，包括：导电基板；多个像素隔离结构，位于所述导电基板上，相邻所述像素隔离结构之间形成多个相互隔离的像素区域；以及按照下述顺序依次叠置的多层结构：第一载流子传输层，位于各所述像素隔离结构的外表面和所述导电基板裸露的外表面上；发光层，位于各所述像素区域内的第二部分所述第一载流子传输层远离所述导电基板的一侧表面上；第二载流子传输层，位于所述发光层远离所述导电基板的一侧表面上和各所述像素隔离结构上方的第一部分所述第一载流子传输层远离所述导电基板的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜勇，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33