抗反射膜制造技术

本发明专利技术涉及抗反射膜，所述抗反射膜包括：硬涂层；和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中在通过向表面施加400g的负荷而测量的与TAC膜的摩擦力的测量图中，基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小。

Antireflective film

The present invention relates to an anti-reflective film, which comprises a hard coating and a low refractive index layer comprising an adhesive resin and hollow inorganic nanoparticles and solid inorganic nanoparticles dispersed in the adhesive resin. Among them, the friction force with TAC film measured by applying 400 g of load to the surface is the most based on average friction force. Large amplitude (A) is 0.1 or less.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗反射膜
相关申请的交叉引用本申请要求于2017年4月28日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2017-0055672号的优先权的权益，其全部公开内容通过引用并入本文中。本专利技术涉及抗反射膜。更具体地，本专利技术涉及这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时实现高耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。
技术介绍
通常，平板显示装置如等离子显示面板(plasmadisplaypanel，PDP)或液晶显示器(liquidcrystaldisplay，LCD)配备有抗反射膜以使从外部入射的光的反射最小化。作为用于使光的反射最小化的方法，存在以下方法：其中将诸如无机细颗粒的填料分散在树脂中并涂覆到基底膜上以赋予不规则性的方法(防眩光(anti-glare)：AG涂覆)；通过在基底膜上形成具有不同折射率的复数个层来利用光的干涉的方法(抗反射(anti-reflection)：AR涂覆)；它们的混合方法等。其中，在AG涂覆的情况下，反射光的绝对量等于一般的硬涂覆，但是可以通过利用经由不规则性的光散射来减少进入眼睛的光的量获得低反射效果。然而，由于AG涂覆因表面不规则性而具有差的屏幕清晰度，因此近来已经进行了许多关于AR涂覆的研究。作为使用AR涂覆的膜，其中硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等层合在基底膜上的多层结构已经商业化。然而，如上所述的形成复数个层的方法的缺点在于，由于形成各层的过程分开进行，层间粘合力(界面粘合)弱，并因此耐刮擦性降低，并且由于重复的过程而使制造成本增加。此外，常规地，为了改善包括在抗反射膜中的低折射率层的耐刮擦性，主要尝试了添加具有纳米尺寸的多种颗粒(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石等颗粒)的方法。然而，当如上所述使用纳米尺寸的颗粒时，在降低低折射率层的反射率的同时在增加耐刮擦性方面存在限制，并且低折射率层的表面的防污性由于具有纳米尺寸的颗粒而大幅降低。因此，虽然已经积极地进行了许多研究以减少从外部入射的光的绝对反射量并且改善防污性和耐刮擦性，但是由此产生的物理特性的改善程度不足。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时实现高耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。技术方案在本专利技术的一个实施方案中，提供了抗反射膜，其包括：硬涂层；和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中在通过向表面施加400g的负荷而测量的与TAC(三乙酰纤维素)膜的摩擦力的测量图中，基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小。下文中，将更详细地描述根据本专利技术的具体实施方案的抗反射膜。在本公开内容中，可光聚合化合物统指在用光照射时(例如，在用可见光或紫外光照射时)引起聚合反应的化合物。此外，含氟化合物是指在化合物中包含至少一个氟元素的化合物。此外，(甲基)丙烯酸酯基/(甲基)丙烯酰基((meth)acryl)是指包括丙烯酸酯基/丙烯酰基和甲基丙烯酸酯基/甲基丙烯酰基两者。此外，(共聚)聚合物是指包括共聚物和均聚物两者。此外，中空二氧化硅颗粒是指衍生自硅化合物或有机硅化合物的二氧化硅颗粒，其中在二氧化硅颗粒的表面上和/或内部存在空隙。根据本专利技术的一个实施方案，可以提供这样的抗反射膜，其包括：硬涂层；和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中在通过向表面施加400g的负荷而测量的与TAC膜的摩擦力的测量图中，基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小。本文中，最大振幅(A)是指在摩擦力测量的图上的动态测试距离区间中确定平均摩擦力、最大摩擦力和最小摩擦力之后，平均摩擦力与最大摩擦力之间的差的绝对值和平均摩擦力与最小摩擦力之间的差的绝对值中的最大值。对于低折射率层，为了实现低折射率，通常可以大量添加具有低折射率的中空无机纳米颗粒。然而，增加中空无机纳米颗粒的量导致机械特性如耐刮擦性和防污性降低的问题。在这一点上，本专利技术人对膜的表面摩擦力进行了广泛且深入的研究以得到这样的低折射率层构造：其在降低低折射层的反射率的同时表现出优异的耐刮擦性和防污性。结果，本专利技术人通过实验发现，通过经由在抗反射膜的表面的与TAC膜的摩擦力的测量图中的最大振幅(A)参数确定抗反射膜的表面的滑动特性，容易掌握所述膜的耐刮擦性和防污性，从而完成了本专利技术。抗反射膜的摩擦力测量的图可以如下获得：使TAC膜与所述膜表面接触，在其上放置具有400g负荷的滑动件(sled)，然后在使该滑动件以某测试速度移动指定距离的同时测量摩擦力。在这种情况下，摩擦力测量的图作为相对于测试距离(x轴)的摩擦力(y轴)获得，并且测试距离被分为静态测试距离区间和动态测试距离区间。本文中，静态测试距离是用于测量静摩擦力的区间，并且静摩擦力定义为在测量开始之后直至3cm的距离处测量的摩擦力。此外，动态测试距离是用于测量动摩擦力的区间，并且被测量为在滑动件移动的区间中测量的摩擦力的平均值，具体地为在动态测试距离区间中测量的摩擦力。本文使用的最大振幅(A)是在测试距离中的动态测试距离中测量的，并且是指在在动态测试距离区间中获得平均摩擦力、最大摩擦力和最小摩擦力之后，平均摩擦力与最大摩擦力或最小摩擦力之间的差的绝对值中的最大值。因此，关于最大振幅(A)的参数不是由测试距离的起始点测量的，而是在动态测试距离处通过平均摩擦力与最大摩擦力或最小摩擦力之间的差测量的，这可以作为判断抗反射膜的表面的滑动特性的度量。例如，根据一个实施方案的抗反射膜的摩擦力测量的图可以如下获得：使用摩擦测试仪(FrictionTester，FP-2260，由Thwing-AlbertInstrumentCompany制造)使TAC膜与抗反射膜的表面接触，在其上放置具有400g负荷的滑动件，然后在以18cm/分钟的测试速度拉动滑动件总计10cm的测试距离的同时测量摩擦力。在这种情况下，总测试距离中的静态测试距离是测试距离中直至3cm的区间，动态测试距离对应于测试距离中从3cm至10cm的区间。因此，在确定在所测量的摩擦力的图上从3cm至10cm的区间中的平均摩擦力(动摩擦力)、最大摩擦力和最小摩擦力之后，平均摩擦力与最大摩擦力或最小摩擦力之间的差的绝对值中的最大值可以定义为最大振幅(A)。此外，抗反射膜的摩擦力可以通过测量低折射率层的表面的摩擦力获得，因为抗反射膜包括硬涂层和形成在硬涂层上的低折射率层。更具体地，在通过向抗反射膜的表面施加400g的负荷而测量的与TAC膜的摩擦力的测量图中，当基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小、0.001至0.08、0.005至0.07、或0.01至0.05时，与最大振幅(A)大于0.1的抗反射膜相比可以改善滑动特性，从而实现优异的耐刮擦性和防污性。此外，由于抗反射膜包括形成在硬涂层上的低折射率层，因此其可以在380nm至780nm的可见光波长区中表现出0.7％或更小的平均反射率。因此，抗反射膜可以在具有低反射率和高透光率的同时表现出高耐刮擦性和防污性。在抗反射膜的表面的与TAC膜的摩擦力的测量图中，最大振幅(A)和平均反射率可以根据形成对应于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗反射膜，包括：硬涂层；和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中在通过向表面施加400g的负荷而测量的与TAC(三乙酰纤维素)膜的摩擦力的测量图中，基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.04.28 KR 10-2017-00556721.一种抗反射膜，包括：硬涂层；和低折射率层，所述低折射率层包含粘合剂树脂以及分散在所述粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒，其中在通过向表面施加400g的负荷而测量的与TAC(三乙酰纤维素)膜的摩擦力的测量图中，基于平均摩擦力的最大振幅(A)为0.1或更小。2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述最大振幅(A)是在摩擦力测量的图上的动态测试距离区间中确定平均摩擦力、最大摩擦力和最小摩擦力之后，所述平均摩擦力与所述最大摩擦力之间的差的绝对值和所述平均摩擦力与所述最小摩擦力之间的差的绝对值中的最大值。3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述抗反射膜在380nm至780nm的可见光波长区中表现出0.7％或更小的平均反射率。4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的平均颗粒直径与所述中空无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比为0.55或更小。5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的平均颗粒直径与所述中空无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比为0.15至0.55。6.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的平均颗粒直径与所述中空无机纳米颗粒的平均颗粒直径之比为0.26至0.55。7.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述中空无机纳米颗粒的平均颗粒直径在40nm至100nm的范围内。8.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述中空无机纳米颗粒的颗粒直径在10nm至200nm的范围内。9.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的平均颗粒直径在1nm至30nm的范围内。10.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中所述实心无机纳米颗粒的颗粒直径在0.1nm至100nm的范围内。11.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中与所述中空无机纳米颗粒相比，所述实心无机纳米颗粒更靠近所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面分布。12.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中实心无机纳米颗粒的总体积的至少70体积％存在于距所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面对应于所述低折射率层的总厚度的50％的距离内。13.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中中空无机纳米颗粒的总体积的30体积％或更多存在于在所述低折射率层的厚度方向上距所述硬涂层与低折射率层之间的界面比总体积的实心无机纳米颗粒更远的距离处。14.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中中空无机纳米颗粒的总体积的至少30体积％存在于从距所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面超过所述低折射率层的整体厚度的50％的点到面向所述界面的所述低折射率层的另一表面的区域中。15.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中实心无机纳米颗粒的总体积的70体积％或更多存在于距所述硬涂层与所述低折射率层之间的界面对应于所述低折射率层的总厚度的30％的距离内。16.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中中空无机纳米颗粒的总体积的至少70体积...

【专利技术属性】
技术研发人员：边真锡，金在永，张影来，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国,KR