The invention discloses a hollow closed pore SiO 2 antireflection film and its preparation method, which belongs to the field of preparation technology of optical elements, including: (1) preparation of hollow SiO 2 sol; (2) preparation of acidic silica sol; (3) preparation of coating solution; (4) spin coating and calcination. The antireflective film prepared by the method of the invention has high transmittance, achieves accurate control of the thickness of the antireflective film, and improves the uniformity of the transmittance of the antireflective film.
【技术实现步骤摘要】
一种中空闭孔SiO2减反射膜及其制备方法
本专利技术属于光学元件的制备
，具体涉及一种中空闭孔SiO2减反射膜及其制备方法。
技术介绍
减反射膜，又称增透膜，主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光，广泛应用于日常生活、工业、天文学、军事学、电子等领域，用于提高光的利用率。目前制备减反射膜的方法有光刻、斜角沉积、粒子溅射、催化蚀刻和化学气相沉积，但是由于真空处理、多个蚀刻步骤和折射率的有限可控性的要求，这些方法缺乏成本效益和高通量能力。提拉镀膜法也是一种制备减反射膜的常用方法，该法需要把镀膜的基片浸入胶体溶液中，所以膜层的厚度和均匀性对衬底和流动条件(例如液体池和头顶气体)非常敏感，同时，由于在浸涂过程中溶胶会流动，所以如何控制膜的粗糙度仍然是浸涂法中的一个挑战。旋涂是依靠工件旋转时产生的离心力及重力作用，将落在工件上的涂料液滴全面流布于工件表面的涂覆过程。旋涂工艺非常容易和灵活，可以实现对镀膜厚度的精确控制，而且旋涂期间因溶剂快速蒸发形成致密的表层，易于进行额外的旋涂。
技术实现思路
本专利技术...
【技术保护点】
1.一种中空闭孔SiO2减反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将模板剂溶于碱性催化剂中，制得溶液Ⅰ；将溶液Ⅰ缓慢加至有机溶剂Ⅰ中，制得溶液Ⅱ；将二氧化硅前驱体Ⅰ加至溶液Ⅱ，反应8～15h，制得碱性中空SiO2溶胶，将所述碱性中空SiO2溶胶室温静置除氨气12h，最终制得中空SiO2溶胶；所述模板剂：碱性催化剂：二氧化硅前驱体Ⅰ：有机溶剂Ⅰ的摩尔比为1:74.8:3.8:14.4，所述中空SiO2溶胶中SiO2质量分数为2.07％～6.56％；(2)将二氧化硅前驱体Ⅱ加至有机溶剂Ⅱ中并混合均匀，制得溶液Ⅲ；将酸性催化剂与共催化剂混合均匀并缓慢加至溶液Ⅲ中反应4～...
【技术特征摘要】
1.一种中空闭孔SiO2减反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将模板剂溶于碱性催化剂中，制得溶液Ⅰ；将溶液Ⅰ缓慢加至有机溶剂Ⅰ中，制得溶液Ⅱ；将二氧化硅前驱体Ⅰ加至溶液Ⅱ，反应8～15h，制得碱性中空SiO2溶胶，将所述碱性中空SiO2溶胶室温静置除氨气12h，最终制得中空SiO2溶胶；所述模板剂：碱性催化剂：二氧化硅前驱体Ⅰ：有机溶剂Ⅰ的摩尔比为1:74.8:3.8:14.4，所述中空SiO2溶胶中SiO2质量分数为2.07％～6.56％；(2)将二氧化硅前驱体Ⅱ加至有机溶剂Ⅱ中并混合均匀，制得溶液Ⅲ；将酸性催化剂与共催化剂混合均匀并缓慢加至溶液Ⅲ中反应4～6h，制得酸性硅溶胶；二氧化硅前驱体Ⅱ：酸性催化剂：共催化剂：有机溶剂Ⅱ的摩尔比为1:0.085:6.4:3.8，所述酸性硅溶胶中SiO2质量分数为2.34％；(3)将步骤(1)制得的中空SiO2溶胶和步骤(2)制得的酸性硅溶胶按质量比为1:1～5:1混合均匀，制得镀膜液；(4)将清洗后的载玻片放置在旋涂仪的吸盘上，在旋涂速率为2000～8000rpm、旋涂时间为10～30s、室温条件下将步骤(3)制备的镀膜液沉积在载玻片上，将镀有镀膜液的载玻片置于室温下10～20min挥发溶剂，再将镀有镀膜液的载玻片置于450℃马弗炉中煅烧1～4h，制得厚度为64...
【专利技术属性】
技术研发人员：焦剑，黄粉超，邵雨滴，王佳，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：发明
国别省市：陕西,61
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