显影装置及基板显影方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显影装置及基板显影方法。该显影装置包括：传送平台以及设于所述传送平台上方的喷淋机构；所述喷淋机构包括喷淋管以及设于所述喷淋管上的多个第一喷嘴和多个第二喷嘴；所述传送平台用于传动基板，并在传动过程中使基板相对于水平方向倾斜，可以使药液流向较为一致，降低基板产生Mura的可能性；且新旧药液置换率较高，对于区域性浓度控制较好，后续只需要较小的吹风力道即可干燥基板，进一步降低基板产生Mura的可能性，所述第一喷嘴用于持续向基板喷淋药液；所述第二喷嘴用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液，可以防止基板上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板内的关键尺寸的一致性。

【技术实现步骤摘要】
显影装置及基板显影方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显影装置及基板显影方法。
技术介绍
薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)是目前液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光显示装置(ActiveMatrixOrganicLight-EmittingDiode，AMOLED)中的主要驱动元件，直接关系平板显示装置的显示性能。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(ThinFilmTransistorArraySubstrate，TFTArraySubstrate)与彩色滤光片(ColorFilter，CF)基板之间灌入液晶分子，并在两片基板上分别施加像素电压和公共电压，通过像素电压和公共电压之间形成的电场控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线透射出来产生画面。随着小尺寸TFT-LCD越做越精细，对应工艺设备也在不断更新换代以满足工艺需求，以6代LTPS(LowTemperaturePoly-silicon，低温多晶硅)产线为例，在CF基板制造中使用的显影机，已将基板从水平搬送方式变更为倾斜搬送方式。倾斜搬送方式有如下优点：1、药液流向较为一致，Mura发生可能性较小；2、干燥效果好，吹除时所需力道小，Mura发生可能性较小；3、新旧药液置换率较高，对于区域性浓度控制较好，同时洗净能力较强，对节省去离子水用量比较有利；4、药液水膜较薄，对减少药液持出量较好。尽管倾斜搬送方式有上述优点，但仍有不足的地方：1、导辊(GuideRoller)磨损会比较严重，水平线调整频繁，基板破片问题较为严重；2、倾斜部是生产周期时间(TactTime)的瓶颈，设备总体长度会偏长一些；3、药液均匀分布会有浓度梯度产生，基板内的关键尺寸(CriticalDimension，CD)会呈现梯度分布，不利于控制关键尺寸一致性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显影装置，可以防止基板上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板内的关键尺寸的一致性。本专利技术的目的还在于提供一种基板显影方法，可以防止基板上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板内的关键尺寸的一致性。为实现上述目的，本专利技术提供了一种显影装置，包括：传送平台以及设于所述传送平台上方的喷淋机构；所述喷淋机构包括喷淋管以及设于所述喷淋管上的多个第一喷嘴和多个第二喷嘴；所述传送平台用于传动基板，并在传动过程中使基板相对于水平方向倾斜；所述第一喷嘴用于持续向基板喷淋药液；所述第二喷嘴用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。所述传送平台中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊。所述基板相对于水平方向倾斜的角度为5°。所述第二喷嘴内具有螺纹，通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴。所述多个第二喷嘴分别位于每相邻两个第一喷嘴之间。本专利技术还提供一种基板显影方法，包括如下步骤：步骤S1、提供显影装置；所述显影装置包括：传送平台以及设于所述传送平台上方的喷淋机构；所述喷淋机构包括喷淋管以及设于所述喷淋管上的多个第一喷嘴和多个第二喷嘴；步骤S2、所述传送平台传动基板，并在传动过程中使基板相对于水平方向倾斜；步骤S3、所述第一喷嘴持续向基板喷淋药液；所述第二喷嘴根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。所述传送平台中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊。所述基板相对于水平方向倾斜的角度为5°。所述第二喷嘴内具有螺纹，所述步骤S3中通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴。所述多个第二喷嘴分别位于每相邻两个第一喷嘴之间。本专利技术的有益效果：本专利技术的显影装置包括：传送平台以及设于所述传送平台上方的喷淋机构；所述喷淋机构包括喷淋管以及设于所述喷淋管上的多个第一喷嘴和多个第二喷嘴；所述传送平台用于传动基板，并在传动过程中使基板相对于水平方向倾斜，可以使药液流向较为一致，降低基板产生Mura的可能性；且新旧药液置换率较高，对于区域性浓度控制较好，后续通过吹风干燥基板时，只需要较小的吹风力道即可干燥基板，进一步降低基板产生Mura的可能性。所述第一喷嘴用于持续向基板喷淋药液；所述第二喷嘴用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液，可以防止基板上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板内的关键尺寸的一致性。本专利技术的基板显影方法，可以防止基板上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板内的关键尺寸的一致性。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的显影装置的结构示意图；图2为本专利技术的基板显影方法的流程图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1，本专利技术提供一种显影装置，包括：传送平台10以及设于所述传送平台10上方的喷淋机构20；所述喷淋机构20包括喷淋管21以及设于所述喷淋管21上的多个第一喷嘴22和多个第二喷嘴23；所述传送平台10用于传动基板30，并在传动过程中使基板30相对于水平方向倾斜；所述第一喷嘴22用于持续向基板30喷淋药液；所述第二喷嘴23用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。需要说明的是，本专利技术通过传送平台10传动基板30的过程中使基板30相对于水平方向倾斜，可以使药液流向较为一致，降低基板30产生Mura的可能性；且新旧药液置换率较高，对于区域性浓度控制较好，后续通过吹风干燥基板30时，只需要较小的吹风力道即可干燥基板，进一步降低基板30产生Mura的可能性。本专利技术进一步在喷淋管21上设置多个第二喷嘴23，该第二喷嘴23根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液，在实际显影过程中，当需要对基板30上的某一区域增加或减少药液量，可以通过第二喷嘴23的开启或关闭来对应增加或减少基板30上的某一区域的药液量，防止基板30上分布的药液浓度有梯度产生，提高药液分布的一致性，进而提高基板30内的关键尺寸的一致性。此外，由于设置有第二喷嘴23，因此不需要将传送平台10设置的过长，以降低显影装置的成本。具体的，所述传送平台10中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊11，该导辊11传动基板30并在传动过程中可以使基板30相对于水平方向倾斜。在显影过程中，导辊11会逐渐磨损，基板30的倾斜角度也会随之发生变化，本专利技术可以根据发生变化之后的倾斜角度来开启或关闭第二喷嘴23，而不要需要频繁调整导辊11的倾斜角度来提高药液分布的一致性，避免基板30破片的风险。此外，所述喷淋管21与基板30平行，即喷淋管21倾斜的角度与基板30倾斜的角度相同，以便更好地向基板30喷淋药液。具体的，所述基板30相对于水平方向倾斜的角度为5°，当药液从基板30的一端流向另一端时，基板30产生Mura可能性较小。具体的，所述第二喷嘴23内具有螺纹，通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴23。具体的，所述多个第二喷嘴23分别位于每相邻两个第一喷嘴22之间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影装置，其特征在于，包括：传送平台(10)以及设于所述传送平台(10)上方的喷淋机构(20)；所述喷淋机构(20)包括喷淋管(21)以及设于所述喷淋管(21)上的多个第一喷嘴(22)和多个第二喷嘴(23)；所述传送平台(10)用于传动基板(30)，并在传动过程中使基板(30)相对于水平方向倾斜；所述第一喷嘴(22)用于持续向基板(30)喷淋药液；所述第二喷嘴(23)用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。

【技术特征摘要】
1.一种显影装置，其特征在于，包括：传送平台(10)以及设于所述传送平台(10)上方的喷淋机构(20)；所述喷淋机构(20)包括喷淋管(21)以及设于所述喷淋管(21)上的多个第一喷嘴(22)和多个第二喷嘴(23)；所述传送平台(10)用于传动基板(30)，并在传动过程中使基板(30)相对于水平方向倾斜；所述第一喷嘴(22)用于持续向基板(30)喷淋药液；所述第二喷嘴(23)用于根据预设的喷淋密度开启喷淋药液或关闭喷淋药液。2.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述传送平台(10)中设有多个相对于水平方向倾斜的导辊(11)。3.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述基板(30)相对于水平方向倾斜的角度为5°。4.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述第二喷嘴(23)内具有螺纹，通过T型螺帽与螺纹配合来关闭第二喷嘴(23)。5.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，所述多个第二喷嘴(23)分别位于每相邻两个第一喷嘴(22)之间。6.一种基板显影方法，其特征在于，包括如下步骤...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁鹏，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42