一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法，其中，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃包括玻璃基层，及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；通过控制第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1，第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5，有效降低了低辐射镀膜玻璃的反射率，该低反射率的低辐射镀膜玻璃合成中空玻璃后的室外反射率低于7.5％。

A low reflectivity low radiation coated glass and its preparation method

The invention discloses a low-reflectivity low-radiation coated glass and a preparation method thereof, in which the low-reflectivity low-radiation coated glass comprises a glass base and a coating layer arranged on one side of the glass base. The coating layer comprises a first dielectric layer, a first protective layer, a functional layer, a second protective layer and a second intermediary arranged outward in turn from one side of the glass base. By controlling the thickness ratio of the first dielectric layer to the second dielectric layer from 1.6 to 3.0:1, the thickness ratio of the first protective layer to the second protective layer from 1:1.5 to 2.5, the reflectivity of the low-radiation coated glass is effectively reduced, and the outdoor reflectivity of the low-radiation coated glass after synthesizing the hollow glass is less than 7.5%.

【技术实现步骤摘要】
一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及玻璃
，特别涉及一种低反射率的低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
技术介绍
随着玻璃幕墙在高层建筑中的大规模应用，符合节能环保要求的低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)备受推崇。低辐射镀膜玻璃具有良好的隔热性能和遮阳性能，既能满足室内采光的要求，又能阻隔太阳辐射进入室内，减少室内空调的荷载。然而，目前低辐射镀膜玻璃(Low-E玻璃)的反射率普遍较高，因此造成建筑玻璃的镜面反光现象十分严重，使得光污染成为继废气、废水、废渣和噪声等污染之后的一种新的环境污染源。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提出一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，通过控制膜层比例来降低低辐射镀膜玻璃的反射率。为实现上述目的，本专利技术提出的低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。优选地，所述第一介质层为SiNx层，厚度为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。

【技术特征摘要】
1.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。2.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层为SiNx层，厚度为48nm～120nm；所述第二介质层为SiNx层，厚度为23nm～50nm；其中，SiNx中x的范围是0.5～1.33。3.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层为NiCr层，厚度为1.5nm～5nm；所述第二保护层为NiCr层，厚度为2.3nm～10nm。4.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能层为Ag层，所述Ag层的厚度为5nm～15nm。5.如权利要求1至4任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层、所述功能层及所述第二保护层构成的金属层厚度小于28nm。6.如权利要求1至4任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一结合层和/或第二结合层，所述第一结合层设于所述第一保护层与所述第一介质层之间，所述第二结合层设于所述第二保护层与所述第二介质层之间。7.如权利要求6所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm，和/或所述第二结合层为AZO层，厚度为4nm～8nm。8.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃的制备方法，用于制备如权利要求1至7任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该制备方法包...

【专利技术属性】
技术研发人员：董炳荣，李向阳，姜磊，谢鹏程，江超凡，宋惠平，
申请(专利权)人：浙江旗滨节能玻璃有限公司，深圳市新旗滨科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33