一种低能耗刻蚀液中和反应罐制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐、中和灌、进液腔和出液口。其特征在于：通过在混流罐内设置相互交错的多层隔板，酸性刻蚀液和碱性刻蚀液在重力作用下流经层层隔板，大大加长加宽了液体流程，即增加了酸液和碱液混合的机会和时间，不需要搅拌装置即可实现酸液和碱液的充分混合；将酸液口和碱液口集成在一起，酸、碱刻蚀液可同时注入混流罐，而且进液腔下端设置有网孔较小的网状挡板，使得酸液和碱液在进入混流罐之前已经得到了初步混合。本实用新型专利技术结构简单，取消了搅拌装置，大大降低了酸、碱刻蚀液中和反应的能耗。

A Low Energy Consumption Etching Solution and Reaction Tank

The utility model discloses a low energy consumption etching solution and a reaction tank, which comprises a mixing tank, a neutralization irrigation tank, a liquid inlet cavity and a liquid outlet. The characteristics are as follows: by setting interlaced multi-layer baffles in the mixing tank, acid etching solution and alkaline etching solution flow through the layer baffles under the action of gravity, the liquid flow is greatly lengthened and broadened, that is, the opportunity and time of mixing acid and alkali liquor are increased, and the full mixing of acid and alkali liquor can be realized without stirring device; the acid and alkali liquor are integrated together. The alkali etching solution can be injected into the mixing tank at the same time, and a small mesh baffle is arranged at the lower end of the intake chamber, which makes the acid and alkali liquids have been preliminarily mixed before entering the mixing tank. The utility model has simple structure, eliminates the stirring device, and greatly reduces the energy consumption of acid and alkali etching solution and reaction.

【技术实现步骤摘要】
一种低能耗刻蚀液中和反应罐
本技术涉及一种反应罐，具体涉及一种低能耗刻蚀液中和反应罐。
技术介绍
刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀分为湿法刻蚀和干法刻蚀，湿法刻蚀是最普遍、成本最低的刻蚀方法，因此刻蚀液在半导体生产工艺应用非常普遍。刻蚀液的生产过程中，有时需要将酸性刻蚀液与碱性刻蚀液进行中和，此时需要用到中和反应罐。目前，现有的中和反应罐都需要通过搅拌电机带动搅拌装置进行搅拌混匀，能耗较高。
技术实现思路
本技术为了克服上述问题，设计一种低能耗刻蚀液中和反应罐。本技术是通过如下技术方案实现的：一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐、中和罐、进液腔和出液口其特征在于：所述混流罐为方形，混流罐内设置有多层隔板，所述隔板一端与混流罐内壁封闭连接，另一端与混流罐内壁有间隙，相邻隔板与混流罐内壁形成的间歇交错排列；所述混流罐其中一侧可开关，与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽，所述隔板与混流罐连接的连接端头截面呈梯形，连接端头与梯形槽相匹配，隔板通过连接端头插入梯形槽；所述隔板上设有纵横交错的凹槽；所述进液腔设置于混流罐顶部，进液腔上集成有酸液口和碱液口；所述进液腔底部为网状挡板；所述中和罐与混流罐一体成型，并位于混流罐的底部，中和罐与混流罐之间由一边高一边低的斜面板隔开，斜面板较低的一端与混流罐侧壁有间歇，该间歇成为液体流入中和罐的通道；所述中和罐内壁设置有pH值检测头，所述混流罐顶部设置有pH值显示器，pH值检测头与pH值显示器电性连接；所述pH值检测头与中和罐底部的距离和与斜面板最高处的距离相等。进一步地，所述隔板与混流罐内壁之间的间歇宽度为3cm~5cm。进一步地，所述网状挡板网孔为圆形，网孔直径0.3mm~0.5mm。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：1、本技术完全取消了搅拌装置，通过设置相互交错的多层隔板，酸液和碱液在重力作用下流经层层隔板，大大加长加宽了液体流程，也就是增加了酸液和碱液混合的机会和时间；同时，隔板上设有纵横交错的凹槽，进一步促进了液体的混合，不需要搅拌装置即可实现酸液和碱液的充分混合。2、本技术将酸液口和碱液口集成在一起，酸、碱刻蚀液可同时注入混流罐，而且进液腔下端设置有网孔较小的网状挡板，使得酸液和碱液在进入混流罐之前已经得到了初步混合，进一步提高了混合效果。3、隔板通过梯形端头插入梯形槽的方式与混流罐内壁连接，混流罐还可以打开，便于将隔板抽出清洗。4、中和罐内设有pH值检测头，该检测头与设置于混流罐顶部的pH值显示器电性连接，酸、碱刻蚀液的中和结果是否符合要求，可以得到直观的显示。5、pH值检测头与中和罐底部的距离和与斜面板最高处的距离相等，只有当混合液达到一定高度，pH值检测头才会检测到数据并传给显示器，因此，pH值检测头还兼具监测液位的功能。附图说明图1是本技术总体结构示意图。图2是本技术局部放大视图。图3是本技术隔板俯视图。其中，1-混流罐，2-隔板，21-连接端头，22-凹槽，3-进液腔，31-酸液口，32-碱液口，4-网状挡板，5-出液口，6-pH值检测头，7-pH值显示器，8-中和罐，9-斜面板，10-梯形槽。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。如图1所示，一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐1、中和罐8、进液腔3和出液口5其特征在于：所述混流罐1为方形，混流罐1内设置有多层隔板2，所述隔板2一端与混流罐1内壁封闭连接，另一端与混流罐1内壁有间隙，相邻隔板2与混流罐1内壁形成的间歇交错排列；所述混流罐1其中一侧可开关，与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽10，所述隔板2与混流罐1连接的连接端头21截面呈梯形，连接端头21与梯形槽10相匹配，隔板2通过连接端头21插入梯形槽10；所述隔板2上设有纵横交错的凹槽22；所述进液腔3设置于混流罐1顶部，进液腔3上集成有酸液口31和碱液口32；所述进液腔3底部为网状挡板4；所述中和罐8与混流罐1一体成型，并位于混流罐1的底部，中和罐8与混流罐1之间由一边高一边低的斜面板9隔开，斜面板9较低的一端与混流罐1侧壁有间歇，该间歇成为液体流入中和罐8的通道；所述中和罐8内壁设置有pH值检测头6，所述混流罐1顶部设置有pH值显示器7，pH值检测头6与pH值显示器7电性连接；所述pH值检测头6与中和罐8底部的距离和与斜面板9最高处的距离相等。本实施例中，所述隔板2与混流罐1内壁之间的间歇宽度为3cm~5cm。本实施例中，所述网状挡板4网孔为圆形，网孔直径0.3mm~0.5mm。工作原理：本技术在使用时，同时注入酸性刻蚀液和碱性刻蚀液，两种刻蚀液因进液腔3底部的网状挡板4的阻挡，在进液腔3里短暂停留，因此得到初步的混合；在经过网状挡板4的网孔时，得到进一步均化；流到隔板2上之后，混合液在隔板2上铺开，在凹槽22内来回流动，并从隔板2与混流罐1内壁之间的空隙流向下一层隔板2，最终流经所有的隔板2，由于流程很长，当流出最下层隔板2时，两种液体已经得到了非常充分的混合；混合液再流入中和罐8，在中和罐中8进一步完成中和反应；当显示器显示出pH值数据时，表明混合液已经达到一定的量，为是否继续进液提供依据。而整个过程不需要用到任何搅拌装置，大大降低了中和反应的能耗。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐（1）、中和罐（8）、进液腔（3）和出液口（5）其特征在于：所述混流罐（1）为方形，混流罐（1）内设置有多层隔板（2），所述隔板（2）一端与混流罐（1）内壁封闭连接，另一端与混流罐（1）内壁有间隙，相邻隔板（2）与混流罐（1）内壁形成的间歇交错排列；所述混流罐（1）其中一侧可开关，与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽（10），所述隔板（2）与混流罐（1）连接的连接端头（21）截面呈梯形，连接端头（21）与梯形槽（10）相匹配，隔板（2）通过连接端头（21）插入梯形槽（10）；所述隔板（2）上设有纵横交错的凹槽（22）；所述进液腔（3）设置于混流罐（1）顶部，进液腔（3）上集成有酸液口（31）和碱液口（32）；所述进液腔（3）底部为网状挡板（4）；所述中和罐（8）与混流罐（1）一体成型，并位于混流罐（1）的底部，中和罐（8）与混流罐（1）之间由一边高一边低的斜面板（9）隔开，斜面板（9）较低的一端与混流罐（1）侧壁有间歇，该间歇成为液体流入中和罐（8）的通道；所述中和罐（8）内壁设置有pH值检测头（6），所述混流罐（1）顶部设置有pH值显示器（7），pH值检测头（6）与pH值显示器（7）电性连接；所述pH值检测头（6）与中和罐（8）底部的距离和与斜面板（9）最高处的距离相等。...

【技术特征摘要】
1.一种低能耗刻蚀液中和反应罐，包括混流罐（1）、中和罐（8）、进液腔（3）和出液口（5）其特征在于：所述混流罐（1）为方形，混流罐（1）内设置有多层隔板（2），所述隔板（2）一端与混流罐（1）内壁封闭连接，另一端与混流罐（1）内壁有间隙，相邻隔板（2）与混流罐（1）内壁形成的间歇交错排列；所述混流罐（1）其中一侧可开关，与可开关一侧相邻的两侧设有梯形槽（10），所述隔板（2）与混流罐（1）连接的连接端头（21）截面呈梯形，连接端头（21）与梯形槽（10）相匹配，隔板（2）通过连接端头（21）插入梯形槽（10）；所述隔板（2）上设有纵横交错的凹槽（22）；所述进液腔（3）设置于混流罐（1）顶部，进液腔（3）上集成有酸液口（31）和碱液口（32）；所述进液腔（3）底部为网状挡板（4...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯卫文，王涛，宋斌，罗堂富，王芳，
申请(专利权)人：绵阳艾萨斯电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51