单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示设备制造技术

公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示设备。所述单体由化学式1表示，在化学式1中，R

Monomers, Polymers, Compensation Films, Optical Films and Display Equipment

Monomers, polymers, compensation films, optical films and display devices are disclosed. The monomer is represented by chemical formula 1, in which R

【技术实现步骤摘要】
单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示设备对相关申请的交叉引用本申请要求在韩国知识产权局于2017年8月2日提交的韩国专利申请No.10-2017-0098286和于2018年8月1日提交的韩国专利申请No.10-2018-0089691的优先权和权益，将其全部内容引入本文中作为参考。
公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜、和显示设备(装置)。
技术介绍
无色透明材料已被研究用于多种多样的用途例如用于光学透镜、功能光学膜、和磁盘基底，但是由于信息设备正在被进一步小型化且显示设备正在提供更高的分辨率，因此对所述材料要求更多的功能和更好的性能。因此，研究者们正在热情地研究以开发具有改善的透明性、耐热性、机械强度、和柔性的无色透明材料。
技术实现思路
一种实施方式提供可应用于补偿膜的新型单体。另一实施方式提供通过使所述新型单体聚合而获得的聚合物。又一实施方式提供包括所述聚合物的补偿膜。还一实施方式提供包括所述补偿膜的光学膜。进一步的实施方式提供包括所述补偿膜或所述光学膜的显示设备。一种实施方式提供由化学式1表示的单体：[化学式1]其中，在化学式1中，L1和L2独立地为O或NRb(其中，Rb为氢或C1-C20烷基)，A1和A2独立地为C6-C30芳族环或C3-C30杂芳族环，p和q独立地为范围0-20的整数，o和r独立地为范围0-3的整数，和R1和R2独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、取代或未取代的C3-C30环烷基、取代或未取代的C3-C30环烷氧基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C2-C30杂芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、羟基、卤素、硝基、-NR'R”、-CO-NR'R”、-SiR'R”R”'(其中R'、R”、和R”'独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4独立地为O、CO、COO、C≡C、或CONRb(其中，Rb为氢或C1-C30烷基)，A3和A4独立地为取代或未取代的C6-C30芳族环基团、取代或未取代的芴环、取代或未取代的C7-C30芳烷基基团、或者取代或未取代的C3-C30杂芳族环基团，和s和t独立地为范围0-3的整数。在化学式1中，L1和L2可独立地为O或NH，A1和A2可独立地为C6-C20芳族环、或含有氮和硫的至少一种的C3-C20杂芳族环，p和q可独立地为范围1-6的整数，o和r可独立地为范围0-2的整数，和R1和R2可独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C10烷氧基、C6-C20芳基、C2-C20杂芳基、C7-C20芳烷基、卤素、硝基、-CO-NR'R”(其中，R'和R”独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4可独立地为O、CO、COO、C≡C、或CONH，A3和A4可独立地为取代或未取代的C6-C20芳族环基团、或者含有氮和硫的至少一种的取代或未取代的C3-C20杂芳族环基团，和s和t可独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。在化学式1中，L1和L2可独立地为O或NH，A1和A2可独立地选自苯环、萘环、蒽环、并环戊二烯环、吡唑环、咪唑环、噻唑环、三唑环、吡啶环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环、三嗪环、吲唑环、吲嗪环、苯并咪唑环、苯并噻唑环、苯并噻吩环、苯并嘌呤环、异喹啉环、或嘌呤环，p和q可独立地为1或2，o和r可独立地为0或1，和R1和R2可独立地为氢、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C6-C10芳基、卤素、硝基、-CO-NR'R”(其中，R'和R”独立地为氢、C1-C20烷基、C6-C20芳基、或C7-C20芳烷基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4可独立地为COO、C≡C、或CONH，A3和A4可为取代或未取代的苯环，和s和t可独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。由化学式1表示的单体可由化学式3表示：[化学式3]其中，在化学式3中，L1、L2、A1、A2、R1、R2、o、p、q、和r与在化学式1中定义的相同。在化学式3中，L1和L2可独立地为O或NH，A1和A2可独立地为C6-C20芳族环、或含有氮和硫的至少一种的C3-C20杂芳族环，p和q可独立地为范围1-6的整数，o和r可独立地为范围0-2的整数，和R1和R2可独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C10烷氧基、C6-C20芳基、C2-C20杂芳基、C7-C20芳烷基、卤素、硝基、-CO-NR'R”(其中，R'和R”独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4可独立地为O、CO、COO、C≡C、或CONH，A3和A4可独立地为取代或未取代的C6-C20芳族环基团、或者含有氮和硫的至少一种的取代或未取代的C3-C20杂芳族环基团，和s和t可独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。在化学式3中，L1和L2可独立地为O或NH，A1和A2可独立地选自苯环、萘环、蒽环、并环戊二烯环、吡唑环、咪唑环、噻唑环、三唑环、吡啶环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环、三嗪环、吲唑环、吲嗪环、苯并咪唑环、苯并噻唑环、苯并噻吩环、苯并嘌呤环、异喹啉环、或嘌呤环，p和q可独立地为1或2，o和r可独立地为0或1，和R1和R2可独立地为氢、C1-C10烷基、C1-C10烷氧基、C6-C10芳基、卤素、硝基、-CO-NR'R”(其中，R'和R”独立地为氢、C1-C20烷基、C6-C20芳基、或C7-C20芳烷基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4可独立地为COO、C≡C、或CONH，A3和A4可为取代或未取代的苯环，和s和t可独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。在化学式3中，L1和L2可独立地为O或NH，A1和A2可独立地选自苯环、萘环、或苯并噻唑环，p和q可独立地为1或2，o和r可独立地为0或1，和R1和R2可独立地为氢、异丙基、叔丁基、氟基团、硝基、甲氧基、乙氧基、-CO-NR'R”(其中，R'和R”独立地为氢、C1-C10烷基、或C6-C10芳基)、或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中在化学式2中，L3和L4可独立地为COO、C≡C、或CONH，A3和A4可独立地为取代或未取代的苯环，和s和t可独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。在另一实施方式中，聚合物为包括根据所述实施方式的单体和二酐的反应物的反应产物。所述二酐可由化学式4-1或化学式4-2表示：[化学式4-1]其中在化学式4-1中，R10为单键、-O-、-S-、-C(＝O)-、-CH(OH)-、-C(＝O)NH-、-S(＝O)2-、-Si(CH3)2-、-(CH2)p-、-(CF2)q-、-C(CnH2n+1)2-、-C(CnF2n+1)2-、-(CH2)p-C(CnH2n+1)2-(CH2)q-、或-(CH2)p-C(CnF2n+1)2-(CH2)q-，其中1≤n≤10，1≤p≤10，和1≤q≤10，R12和R13独立地为卤素、羟基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.由化学式1表示的单体：[化学式1]

【技术特征摘要】
2017.08.02 KR 10-2017-0098286;2018.08.01 KR 10-2011.由化学式1表示的单体：[化学式1]其中，在化学式1中，L1和L2独立地为O或其中Rb为氢或C1-C20烷基的NRb，A1和A2独立地为C6-C30芳族环或C3-C30杂芳族环，p和q独立地为范围0-20的整数，o和r独立地为范围0-3的整数，和R1和R2独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、取代或未取代的C3-C30环烷基、取代或未取代的C3-C30环烷氧基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C2-C30杂芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、羟基、卤素、硝基、-NR'R”、-CO-NR'R”、-SiR'R”R”'、或由化学式2表示的基团，其中R'、R”、和R”'独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基，[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4独立地为O、CO、COO、C≡C、或其中Rb为氢或C1-C30烷基的CONRb，A3和A4独立地为取代或未取代的C6-C30芳族环、取代或未取代的芴环、取代或未取代的C7-C30芳烷基基团、或者取代或未取代的C3-C30杂芳族环基团，和s和t独立地为范围0-3的整数。2.如权利要求1所述的单体，其中化学式1的L1和L2独立地为O或NH，A1和A2独立地为C6-C20芳族环、或含有氮和硫的至少一种的C3-C20杂芳族环，p和q独立地为范围1-6的整数，o和r独立地为范围0-2的整数，和R1和R2独立地为氢，C1-C20烷基，C1-C10烷氧基，C6-C20芳基，C2-C20杂芳基，C7-C20芳烷基，卤素，硝基，其中R'和R”独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基的-CO-NR'R”，或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4独立地为O、CO、COO、C≡C、或CONH，A3和A4独立地为取代或未取代的C6-C20芳族环基团、或者含有氮和硫的至少一种的取代或未取代的C3-C20杂芳族环基团，和s和t独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。3.如权利要求1所述的单体，其中化学式1的L1和L2独立地为O或NH，A1和A2独立地选自苯环、萘环、蒽环、并环戊二烯环、吡唑环、咪唑环、噻唑环、三唑环、吡啶环、哒嗪环、嘧啶环、吡嗪环、三嗪环、吲唑环、吲嗪环、苯并咪唑环、苯并噻唑环、苯并噻吩环、苯并嘌呤环、异喹啉环、或嘌呤环，p和q独立地为1或2，o和r独立地为0或1，和R1和R2独立地为氢，C1-C10烷基，C1-C10烷氧基，C6-C10芳基，卤素，硝基，其中R'和R”独立地为氢、C1-C20烷基、C6-C20芳基、或C7-C20芳烷基的-CO-NR'R”，或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中，在化学式2中，L3和L4独立地为COO、C≡C、或CONH，A3和A4为取代或未取代的苯环，和s和t独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。4.如权利要求1-3任一项所述的单体，其中由化学式1表示的单体由化学式3表示：[化学式3]其中，在化学式3中，L1、L2、A1、A2、R1、R2、o、p、q、和r与在化学式1中定义的相同。5.如权利要求4所述的单体，其中化学式3的L1和L2独立地为O或NH，A1和A2独立地选自苯环、萘环、或苯并噻唑环，p和q独立地为1或2，o和r独立地为0或1，和R1和R2独立地为氢，异丙基，叔丁基，氟基团，硝基，甲氧基，乙氧基，其中R'和R”独立地为氢、C1-C10烷基、或C6-C10芳基的-CO-NR'R”，或由化学式2表示的基团：[化学式2]其中在化学式2中，L3和L4独立地为COO、C≡C、或CONH，A3和A4为取代或未取代的苯环，和s和t独立地为范围0-2的整数，条件是1≤s+t≤2。6.聚合物，其为包括如权利要求1-5任一项所述的单体和二酐的反应物的产物。7.如权利要求6所述的聚合物，其中所述二酐由化学式4-1或化学式4-2表示：[化学式4-1]其中在化学式4-1中，R10为单键、-O-、-S-、-C(＝O)-、-CH(OH)-、-C(＝O)NH-、-S(＝O)2-、-Si(CH3)2-、-(CH2)p-、-(CF2)q-、-C(CnH2n+1)2-、-C(CnF2n+1)2-、-(CH2)p-C(CnH2n+1)2-(CH2)q-、或-(CH2)p-C(CnF2n+1)2-(CH2)q-，其中1≤n≤10，1≤p≤10，和1≤q≤10，R12和R13独立地为卤素，羟基，取代或未取代的C1-C10脂族有机基团，取代或未取代的C6-C20芳族有机基团，其中R201为C1-C10脂族有机基团的-OR201基团，或其中R210、R211、和R212独立地为氢或C1-C10脂族有机基团的-SiR210R211R212基团，和n7和n8独立地为0-3的整数之一；[化学式4-2]其中，在化学式4-2中，L5为O或其中Rb为氢或C1-C20烷基的NRb，A5为C6-C30芳族有机基团，和Ra为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、取代或未取代的C3-C30环烷基、取代或未取代的C3-C30环烷氧基、取代或未取代的C6-C30芳基、取代或未取代的C7-C30芳烷基、羟基、卤素、硝基、-NR'R”、-CO-NR'R”、-SiR'R”R”'、或由化学式A表示的基团，其中R'、R”、和R”'独立地为氢、C1-C30烷基、C6-C30芳基、或C7-C30芳烷基，[化学式A]其中，在化学式A中，L3和L4独立地为O...

【专利技术属性】
技术研发人员：D安德罗索夫，崔玹硕，K费多斯亚，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR