一种玻璃盖板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种玻璃盖板，所述玻璃盖板包括相对的内表面和外表面，所述内表面与所述外表面之间的间隔为0.3～2mm，所述内表面与所述外表面之间具有通过离子交换形成的压缩应力层，所述压缩应力层的深度为40μm～150μm，所述外表面处的压应力为500Mpa～900Mpa。所述玻璃盖板具有厚度薄且强度高的优点，满足高机械强度高透明度的电子显示前盖板需求，也可以作为智能通讯设备的非金属后盖板，以适应5G通讯，无线充电时代。

【技术实现步骤摘要】
一种玻璃盖板
本技术涉及玻璃制品，具体涉及一种玻璃盖板。
技术介绍
玻璃是由二氧化硅和其他化学物质熔融在一起形成，具有良好的透视、透光性能，隔音性和保温性，广泛应用于建筑、日用、艺术、医疗、化学、电子、仪表、核工程等领域。现在的手机屏幕，很多都是玻璃制成，随着手机的轻薄化，用作手机屏幕的玻璃盖板的厚度也被要求超薄化，而随着厚度的减小其强度也会随之减小，这会导致手机掉落后碎屏概率增大。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，针对现有技术中的问题，提供一种厚度薄、且强度高的玻璃盖板。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种玻璃盖板，所述玻璃盖板包括相对的内表面和外表面，所述内表面与所述外表面之间的间隔为0.3～2mm，所述内表面与所述外表面之间具有通过离子交换形成的压缩应力层，所述压缩应力层的深度为40μm～150μm，所述外表面处的压应力为500Mpa～900Mpa。在本技术提供的玻璃盖板中，所述外表面包括外平面和自所述外平面边缘弯曲延伸的外曲面，内表面包括与所述外平面平行的内平面和自所述内平面边缘弯曲延伸的内曲面，所述内曲面与所述外曲面之间的间隔等于所述内平面与所述外平面之间的间隔。在本技术提供的玻璃盖板中，所述外曲面的边缘与所述外平面之间的距离为2mm至10mm。在本技术提供的玻璃盖板中，所述外曲面的经过且垂直于所述外曲面的边缘的切线与所述外平面之间的夹角为30°至90°。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板在400nm～750nm的可见光谱上呈现50％～92％的透过率。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板呈无色或黄色。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板的折射率为1.50～1.54，密度为2.3g/cm3～2.8g/cm3，维氏硬度为600kgf/mm2～980kgf/mm2。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板在20℃～500℃范围内的线膨胀系数为7×10-6/k～10×10-6/k。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板包括晶体结构和无定形结构，其中，所述晶体结构的含量为30wt％～70wt％。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构的含量40wt％～50wt％。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构的平均粒径小于100nm。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构的平均粒径为20nm～70nm。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构均匀的分布于所述内表面与所述外表面之间。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构包括β-石英固溶体，所述β-石英固溶体的数量占所述晶体结构的80％以上。在本技术提供的玻璃盖板中，所述晶体结构还包括β-锂辉石、金红石、莫来石、尖晶石和锌尖晶石中的一种或多种。在本技术提供的玻璃盖板中，所述玻璃盖板的抗冲击强度为1.22J～3.8J，且所述玻璃盖板的抗冲击强度在玻璃厚度为0.4～2mm内满足如下关系，y＝ax+b，其中，y为抗冲击强度，x为厚度，a、b为相关常数，且1.375≤a≤2.141，0.126≤b≤0.754；所述玻璃盖板的抗弯曲强度为1500Mpa～3000MPa，所述玻璃盖板在1.50m～2.85m高度范围内负载跌落破碎率小于等于50％。在本技术提供的玻璃盖板中，所述内表面与所述外表面之间的间隔为0.5～1mm。在本技术提供的玻璃盖板中，所述压缩应力层形成于分别自所述内表面和所述外表面向所述玻璃盖板内部延伸一定深度的区域。实施本技术提供的玻璃盖板，可以达到以下有益效果：所述玻璃盖板具有厚度薄且强度高的优点，满足高机械强度高透明度的电子显示前盖板需求，也可以作为智能通讯设备的非金属后盖板，以适应5G通讯，无线充电时代。附图说明图1为本技术第一实施例中玻璃盖板的立体示意图；图2为本技术第一实施例中玻璃盖板的剖面示意图；图3为本技术第一实施例中玻璃盖板的中压缩应力层的分布示意图；图4为本技术第一实施例中四点弯曲法的示意图。具体实施方式为了对本技术的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本技术的具体实施方式。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术公开了一种玻璃盖板，同时，还给出了所述玻璃盖板的制备方法。本技术提供的玻璃盖板的制备工艺，包括：步骤S1、将平面玻璃进行热弯成型处理以得到3D曲面玻璃；将所述3D曲面玻璃放置在内部具有轮廓与所述3D曲面玻璃一致的空腔的载具内，并将所述载具放入一晶化炉内，对所述3D曲面玻璃进行微晶化处理以得到3D曲面微晶玻璃；步骤S3、对所述3D曲面微晶玻璃进行化学强化处理以得到所述玻璃盖板。所述步骤S2中的将多个内部容置有所述3D曲面玻璃的所述载具放入一晶化炉内的过程包括：先将多个内部容置有所述3D曲面玻璃的所述载具摆放至由不锈钢材料制成的承烧架中，然后将所述承烧架放入所述晶化炉内。所述步骤S3中可将所述玻璃盖板于NaNO3或KNO3盐浴中进行离子交换，以盐浴中大直径碱金属离子取代玻璃小直径碱金属离子，通过“挤塞效应”使所述玻璃盖板产生复合压应力。离子交换过程中，可进行钾-钠或钠-锂一元离子交换，亦可进行钾-钠和钠-锂混合二元离子交换，大直径碱金属离子为钾、钠离子，小直径碱金属为钠、锂离子。离子交换的温度可设置在370℃至450℃之间，离子交换时间可定为30min至12h之间。所述载具可为现有的热弯成型工艺中通用的石墨模具或碳化硅模具。所述承烧架是一个立方框架结构，内部具有多个用来容置一个所述载具的格间。本领域技术人员可根据所述载具的尺寸和预计所述承烧架需要一次性容置所述载具的数量来设计所述承烧架的具体结构及尺寸。所述晶化炉包括炉膛，所述炉膛内设有传送装置，所述炉膛内的空间包括依次连续的呈一字型排列的预热区、成核区、晶化区、退火区和冷却区，在所述预热区、所述成核区和所述晶化区均设有对应的加热装置，在所述退火区和所述冷却区均设有对应的降温装置。所述预热区又可以划分成四个温度由低到高阶梯递增的区域。所述退火去有可以划分成三个温度由高到低阶梯递减的区域。所述冷却区又可以划分成六个温度由高到低阶梯递减的区域。特别的，在所述冷却区设置的降温装置采用的是循环冷却水套冷装置或循环冷风冷却装置。所述微晶化处理包括按先后顺序依次进行的预热工序、成核工序、晶化工序、退火工序和冷却工序，所述预热工序、所述成核工序、所述晶化工序、所述退火工序和所述冷却工序分别在所述预热区、所述成核区、所述晶化区、所述退火区和所述冷却区完成。需要说明的是，在所述步骤S2中，是将所述承烧架放入所述炉膛内。所述传送装置用于带动所述承烧架依次的经过所述预热区、所述成核区、所述晶化区、所述退火区和所述冷却区。从而，提高了所述承烧架内的所述3D曲面玻璃被微晶化的连续性。本技术提供的玻璃盖板的制备工艺中，所述预热工序包括先后进行的第一预热阶段、第二预热阶段、第三预热阶段和第四预热阶段；其中，在所述第一预热阶段中，将所述3D曲面玻璃传送至所述晶化炉内的温度为100℃～200本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板包括相对的内表面和外表面，所述内表面与所述外表面之间的间隔为0.3～2mm，所述内表面与所述外表面之间具有通过离子交换形成的压缩应力层，所述压缩应力层的深度为40μm～150μm，所述外表面处的压应力为500Mpa～900Mpa。

【技术特征摘要】
1.一种玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板包括相对的内表面和外表面，所述内表面与所述外表面之间的间隔为0.3～2mm，所述内表面与所述外表面之间具有通过离子交换形成的压缩应力层，所述压缩应力层的深度为40μm～150μm，所述外表面处的压应力为500Mpa～900Mpa。2.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述外表面包括外平面和自所述外平面边缘弯曲延伸的外曲面，内表面包括与所述外平面平行的内平面和自所述内平面边缘弯曲延伸的内曲面，所述内曲面与所述外曲面之间的间隔等于所述内平面与所述外平面之间的间隔。3.根据权利要求2所述的玻璃盖板，其特征在于，所述外曲面的边缘与所述外平面之间的距离为2mm至10mm。4.根据权利要求2所述的玻璃盖板，其特征在于，所述外曲面的经过且垂直于所述外曲面的边缘的切线与所述外平面之间的夹角为30°至90°。5.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板在400nm～750nm的可见光谱上呈现50％～92％的透过率。6.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板呈无色或黄色。7.根据权利要求1所述的玻璃盖板，其特征在于，所述玻璃盖板的折射率为1.50～1.54，密度为2.3g/cm3～2.8g/cm3，维氏硬度为600kgf/mm2～980kgf/mm2。8.根据权利要求1所述的玻璃盖...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡伟，谈宝权，覃文城，陈芳华，
申请(专利权)人：深圳市东丽华科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44