Some aspects of the present disclosure generally relate to source degradation using cross-coupled transistors for amplification stages. For example, the amplifier stage generally includes a differential amplifier of the transistor, a cross-coupled transistor coupled to the differential amplifier, and an impedance coupled between the drains of the cross-coupled transistor. In some respects, differential amplifiers include push-pull amplifiers, and the transistors of push-pull amplifiers include cascade connected transistors.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有轨到轨输出摆幅的源极退化的放大级相关申请的交叉引用本申请要求2016年6月9日提交的美国申请No.15/178,251的优先权,该申请被转让给本申请的受让人并且据此以其整体通过引用明确地并入本文。
本公开的某些方面一般地涉及电子电路,并且更特别地涉及用于信号放大的电路。
技术介绍
无线通信网络被广泛地部署以提供各种通信服务,诸如电话、视频、数据、消息传递、广播,等等。这样的网络(其通常是多址网络)通过共享可用的网络资源来支持用于多个用户的通信。例如,一个网络可以是3G(第三代移动电话标准和技术)系统,其可以经由各种3G无线电接入技术(RAT)中的任何一种来提供网络服务,各种3GRAT包括EVDO(演进数据优化)、1xRTT(1倍无线电传输技术,或简称1x)、W-CDMA(宽带码分多址)、UMTS-TDD(通用移动电信系统-时分双工)、HSPA(高速分组接入)、GPRS(通用分组无线电服务)、或EDGE(全球演进的增强数据速率)。3G网络是一种广域蜂窝电话网络,除了语音呼叫之外,其还演进为包含高速互联网接入和视频电话。此外,3G网络可能比其他网络系统更多地被建立并且提供更大的覆盖区域。这种多址网络还可以包括码分多址(CDMA)系统、时分多址(TDMA)系统、频分多址(FDMA)系统、正交频分多址(OFDMA)系统、单载波FDMA(SC-FDMA)网络、第3代合作伙伴项目(3GPP)长期演进(LTE)网络、以及长期演进高级(LTE-A)网络。无线通信网络可以包括一定数目的基站,一定数目的基站可以支持用于一定数目的移动台的通信。移动台(MS)可以经由下行链路 ...
【技术保护点】
1.一种放大级,包括:差分放大器,包括晶体管;第一交叉耦合晶体管,耦合到所述差分放大器的所述晶体管;以及耦合在所述第一交叉耦合晶体管的漏极之间的阻抗。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.06.09 US 15/178,2511.一种放大级,包括:差分放大器,包括晶体管;第一交叉耦合晶体管,耦合到所述差分放大器的所述晶体管;以及耦合在所述第一交叉耦合晶体管的漏极之间的阻抗。2.根据权利要求1所述的放大级,其中所述差分放大器包括推挽式放大器,并且其中所述推挽式放大器的所述晶体管包括串叠式连接的晶体管。3.根据权利要求1所述的放大级,其中所述阻抗包括电阻器。4.根据权利要求3所述的放大级,其中所述电阻器经由多晶硅电阻器、金属电阻器、扩散电阻器、或有源晶体管来实施。5.根据权利要求3所述的放大级,其中所述电阻器的电阻基于所述第一交叉耦合晶体管中的一个晶体管的跨导。6.根据权利要求1所述的放大级,其中:所述差分放大器的所述晶体管耦合到第一电压轨;并且所述第一交叉耦合晶体管耦合在第二电压轨与所述差分放大器之间。7.根据权利要求6所述的放大级,还包括:第二交叉耦合晶体管,耦合在所述第一电压轨与所述差分放大器之间。8.根据权利要求7所述的放大级,还包括:耦合在所述第二交叉耦合晶体管的漏极之间的阻抗。9.根据权利要求6所述的放大级,其中所述第一交叉耦合晶体管包括耦合在所述第二电压轨与所述差分放大器之间的PMOS晶体管,并且其中所述第二电压轨具有比所述第一电压轨大的电压。10.根据权利要求6所述的放大级,其中所述第一交叉耦合晶体管包括耦合在所述第二电压轨与所述差分放大器之间的NMOS晶体管,并且其中所述第一电压轨具有比所述第二电压轨大的电压。11.根据权利要求6所述的放大级,其中所述第二电压轨包括参考电位,并且其中所述第一电压轨具有大于所述参考电位的电压。12.根据权利要求1所述的放大级,其中所述差分放大器包括:第一p-沟道金属氧化物半导体(PMOS)晶体管和第二PMOS晶体管;以及分别串叠式连接到所述第一PMOS晶体管和所述第二PMOS晶体管的第一n-沟道金属氧化物半导体(NMOS)晶体管和第二NMOS晶体管。13.根据权利要求12所述的放大级,其中所述第一NMOS晶体管的漏极和所述第二NMOS晶体管的漏极包括所述放大级的差分输出。14.根据权利要求12所述的放大级,其中所述第一NMOS晶体管的栅极和所述第二NMOS晶体管的栅极包括所述放大级的差分输入。15.根据权利要求1所述的放大级,其中所述放大级包括AB类放大级。16.根据权利要求1所述的放大级,其中所述差分放大器的所述晶体管包括鳍式场效应晶体管(FinF...
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