An example method includes providing a working stack with a first substrate layer, a second substrate layer and radiation absorbing materials placed between the first substrate layer and the second substrate layer. The working stack includes a cavity with a specified liquid. The bonding interface is defined between the radiation absorbing material and at least one of the first substrate layer or the second substrate layer. The interface has a membrane of the specified liquid. The method also includes guiding radiation to the bonding interface to form a peripheral sealing part. The surrounding sealing part is away from the outer region of the cavity and the interface. The method also includes directing the radiation to the external area of the bonding interface to fasten the first substrate layer and the second substrate layer together. When the radiation is directed to the outer region, the surrounding sealing part prevents the bubble from entering the cavity from the outer region.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体装置及其制造方法相关申请的交叉引用本申请案主张2017年1月31日申请的美国临时申请案第62/452,923号的权益,该案以全文引用的方式并入本文中。背景各种产业使用容纳液体或允许液体穿过的装置。此类装置广泛用于生物技术、光电子及微机电系统(MEMS)中。作为一个实例,用于生物研究的系统可使用被称作流动池的流体装置在流动通道内进行指定反应。这些反应(或反应的迹象)是藉由摄影机子系统来成像,该摄影机子系统具有定位成邻近于流动池的物镜。为校准该摄影机子系统,另一装置定位于流动池典型地所位于之处。此另一装置是看起来类似于流动池的光学对准工具。该光学对准工具具有在大小及形状上类似于流动通道的封闭腔室。该封闭腔室填充有包括一种或更多种荧光染料的液体。界定封闭腔室的内部表面具有金属垫,这些金属垫具有穿过其的经塑形开口。为对准摄影机子系统,藉由激发封闭腔室中的荧光染料来对金属垫成像。分析影像中的金属垫的经塑形开口以判定如何对准摄影机子系统。上文所描述的诸如流动池的流体装置及光学对准工具可包括紧固至彼此的多个离散结构。然而,在这些结构的特征变得更小或这些结构的设计变得更复杂时,接合这些结构变得更具挑战性。用以接合这些结构的一种技术被称作“激光熔接”或“激光结合”,其中沿两个邻近结构之间的界面引导光束(例如,激光束)以使这些结构中的至少一者的材料熔融。在材料冷却及凝固之后形成熔接件。随流体装置可能出现的常见问题是液体可经由界面或经由流体装置的孔口泄漏。除此之外,常常需要液体所在的空腔中不存在(或几乎不存在)气泡。气泡可降低影像质量或阻止诸如液体阀及透镜的某些机构恰当地操作 ...
【技术保护点】
1.一种方法,其包含:提供工作堆栈,所述工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于所述第一基板层与所述第二基板层之间的辐射吸收材料,所述工作堆栈包括空腔,在所述空腔中具有指定液体,其中结合界面被界定于所述辐射吸收材料与所述第一基板层或所述第二基板层中的至少一者之间,所述结合界面具有所述指定液体的膜;沿预定路径将辐射引导至所述结合界面上以形成周边密封部,所述周边密封部经定位以分离所述空腔与所述结合界面的外部区域;及将所述辐射引导至所述结合界面的所述外部区域上以将所述第一基板层及所述第二基板层紧固在一起,所述周边密封部在当所述辐射被引导至所述外部区域上时阻止气泡自所述外部区域进入至所述空腔中。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2017.01.31 US 62/452,9231.一种方法,其包含:提供工作堆栈,所述工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于所述第一基板层与所述第二基板层之间的辐射吸收材料,所述工作堆栈包括空腔,在所述空腔中具有指定液体,其中结合界面被界定于所述辐射吸收材料与所述第一基板层或所述第二基板层中的至少一者之间,所述结合界面具有所述指定液体的膜;沿预定路径将辐射引导至所述结合界面上以形成周边密封部,所述周边密封部经定位以分离所述空腔与所述结合界面的外部区域;及将所述辐射引导至所述结合界面的所述外部区域上以将所述第一基板层及所述第二基板层紧固在一起,所述周边密封部在当所述辐射被引导至所述外部区域上时阻止气泡自所述外部区域进入至所述空腔中。2.如权利要求1所述的方法,其中提供所述工作堆栈包括:将所述辐射吸收材料定位至所述第一基板层上,所述辐射吸收材料经图案化以包括开放式空腔;将辐射引导至所述第一基板层与所述辐射吸收材料之间的次要界面上以将所述第一基板层及所述辐射吸收材料紧固至彼此;用所述指定液体填充所述辐射吸收材料的所述开放式空腔;及相对于所述辐射吸收材料及所述第一基板层堆叠所述第二基板层,由此覆盖所述开放式空腔且形成所述工作堆栈的所述空腔,所述指定液体的所述膜在所述第二基板层覆盖所述开放式空腔时沿所述结合界面存在。3.如权利要求1所述的方法,其中将辐射引导至所述结合界面上以形成所述周边密封部包括将所述周边密封部定位成与所述工作堆栈的所述空腔相距一距离使得一间隔存在于所述周边密封部与所述空腔之间。4.如权利要求1所述的方法,其中所述工作堆栈及所述第二基板层形成一装置的至少一部分,且其中所述第一基板层、所述辐射吸收材料及第二基板层是连续层,使得所述装置不含准许所述指定液体流入或流出所述工作堆栈的所述空腔的孔口。5.如权利要求1所述的方法,其中提供所述工作堆栈包括沿所述第一基板层或所述第二基板层中的至少一者形成目标层,所述目标层包括以指定图案位于其上的不透明材料。6.如权利要求1所述的方法,其中所述辐射吸收材料包括安置于所述第一基板层与所述第二基板层之间的单独区段及在所述辐射材料的邻近区段之间的出口通道,所述出口通道与所述工作堆栈的外部或一储集器中的至少一者流动连通,其中当将所述辐射引导至所述结合界面的所述外部区域上时,所述指定液体及所述气泡被准许自所述外部区域进入所述出口通道。7.如权利要求1所述的方法,其中所述工作堆栈包括多个所述空腔,且所述方法进一步包含在紧固所述第一基板层及所述第二基板层之后切割所述工作堆栈以形成多个装置。8.如权利要求1所述的方法,其中所述工作堆栈的所述空腔包括成像区及存在于所述成像区与所述辐射吸收材料之间的沟槽区,所述成像区具有待成像的目标,所述沟槽区不含所述目标。9.如权利要求1所述的方法,其中所述辐射吸收材料包括透明层及不透明层,所述不透明层吸收所述辐射以形成复合接合部。10.如权利要求1所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:约翰·格哈特·厄尼,J·富勒顿,卡莱布·史密斯,巴拉·穆拉利·K·文卡特桑,
申请(专利权)人:伊鲁米那股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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