基板处理装置制造方法及图纸

技术编号:20275609 阅读:34 留言:0更新日期:2019-02-02 04:47
基板处理装置可包括连续地配置的多个工作台、能够使得所述多个工作台之间相隔绝的挡板及位于所述多个工作台的下部且在所述挡板位于所述多个工作台之间时向所述挡板的两侧部施加力以相对于所述多个工作台整列所述挡板的整列部件。本发明专利技术的基板处理装置能够使得实质上连续地配置的多个工作台之间相隔绝。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置本申请要求于2017年7月25日向韩国特许厅申请的韩国专利申请第10-2017-0094081号的优先权。
本专利技术例示的实施例涉及基板处理装置。更具体来讲,本专利技术例示的实施例涉及包括能够使得实质上连续地配置的多个工作台之间相隔绝的挡板的基板处理装置。
技术介绍
制造平板显示(FlatPanelDisplay:FPD)装置之类的显示装置时通常可能使用具有连续地配置的多个工作台的基板处理装置。这种基板处理装置的例子有提供约60℃的温度的工作台及提供约110℃的温度的工作台连续地配置的烘干装置。在所述基板处理装置中,所述连续地配置的多个工作台在对基板执行工程时能够影响工程条件,因此在对所述基板执行所述工程期间可能需要用挡板(shutter)使得所述连续地配置的工作台之间相隔绝。但现有的基板处理装置的挡板大体上以摆动方式驱动,因此所述挡板的设置可能会需要相对大的空间,这种挡板和内部配置有所述多个工作台的腔室的壁可能发生碰撞产生颗粒物。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供一种包括能够从外部隔绝用于对基板执行工程的空间的挡板及用于整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。本专利技术的另一目的是提供一种包括能够使得连续地配置的多个工作台之间相隔绝的挡板及相对于所述连续地配置的多个工作台整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。本专利技术的又一目的是提供一种包括能够使得连续地配置的多个超声波工作台之间相隔绝的挡板及相对于所述多个超声波工作台整列所述挡板的整列部件的基板处理装置。技术方案根据本专利技术的一个方面,提供一种包括挡板及整列部件的基板处理装置。所述挡板能够从外部隔绝用于对基板执行制造集成电路装置所需的工程的空间。所述整列部件在利用所述挡板从所述外部隔离所述空间时能够向所述挡板的两侧部施加力以整列所述挡板。根据例示的实施例,所述基板处理装置还可以包括:工程腔室,其包括对所述基板执行所述工程的所述空间;以及出入部,其配置于所述工程腔室的至少一侧部用于承载及卸载所述基板。该情况下,所述挡板可隔绝所述出入部。根据例示的实施例,所述基板处理装置可包括连续地配置的两个工程腔室。其中,所述连续地配置的两个工程腔室的出入部可彼此相对地配置,所述挡板能够使得所述连续地配置的两个工程腔室的出入部之间相隔绝。根据例示的实施例,所述挡板可向实质上垂直的方向移动以从所述外部隔绝用于执行所述工程的所述空间。根据例示的实施例,所述挡板可位于所述工程腔室的下部,可向所述工程腔室的实质上的上方移动。根据例示的实施例,所述挡板可包括实质上具有薄膜形状的板。根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可由超声波发生。根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可由空气发生。根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可具有实质上相同的大小。根据本专利技术的另一方面,提供一种包括连续地配置的多个工作台的基板处理装置。所述基板处理装置还可以包括:挡板,其使得所述多个工作台之间相隔绝;以及整列部件,其配置于所述多个工作台的下部且在所述挡板位于所述多个工作台之间时向所述挡板施力以相对于所述多个工作台整列所述挡板。根据例示的实施例,所述挡板可在所述多个工作台之间向实质上垂直的方向移动使得所述多个工作台之间相隔绝。根据例示的实施例,所述挡板可位于所述多个工作台的下部,实质上可向所述多个工作台的上方移动。根据例示的实施例,所述挡板可包括实质上具有薄膜形状的板。根据例示的实施例,所述力可从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部。根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可由超声波或空气发生。根据例示的实施例,从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力可具有实质上相同的大小。根据本专利技术又一方面,提供一种包括能够利用超声波浮起基板的连续地配置的多个超声波工作台的基板处理装置。所述基板处理装置还可以包括:挡板,其使得所述多个超声波工作台之间相隔绝;以及超声波整列部件,其配置于所述多个超声波工作台的下部且在所述挡板位于所述多个超声波工作台之间时向所述挡板提供超声波以相对于所述多个超声波工作台整列所述挡板。根据例示的实施例,所述挡板可在所述多个超声波工作台之间向实质上垂直的方向移动使得所述多个超声波工作台之间相隔绝。根据例示的实施例,所述挡板可配置于所述多个超声波工作台的下部,实质上可向所述多个超声波工作台的上方移动。根据例示的实施例,所述挡板可包括实质上具有薄膜形状的板。根据例示的实施例,所述超声波整列部件可向所述挡板的两侧部施加实质上相同强度的超声波。技术效果根据本专利技术例示的实施例,所述基板处理装置可包括所述连续地配置的多个工作台、具有所述实质上具有薄膜形状的板的挡板及能够以非接触方式相对于所述连续地配置的多个工作台整列所述挡板的整列部件。因此,具有上述构成的基板处理装置能够有利地设置于相对狭窄的空间内。并且,由于能够以所述非接触方式相对于所述连续地配置的多个工作台整列所述挡板,因此能够防止所述挡板与所述连续地配置的工作台的角部及/或侧部发生碰撞。附图说明图1为显示本专利技术例示实施例的基板处理装置的简要示意图;图2为显示本专利技术例示实施例的包括超声波工作台的基板处理装置的简要示意图。具体实施方式本专利技术可实施多种变更,可以具有多种形态,说明书对例示的实施例进行详细说明。但这些实施例并非用于将本专利技术限定于特定的公开形态,实际上应该理解为包括本专利技术的思想及技术范围内的所有变更、等同物及替代物。在说明各附图时对类似的构成要素标注类似的附图标记。第一、第二等用语可用于说明多种构成要素,但所述构成要素并非受限于所述用语。所述用语只是用于使一个构成要素与其他构成要素相区分。本申请中使用的用语只是用于说明特定实施例,而并非限定本专利技术。单数的表现形式在无其他明确说明的情况下还包括复数的表现形式。应该将本申请中所述的“包括”或“具有”、“构成”等用语理解为存在说明书上记载的特征、数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合,而不应理解为预先排除一个或多个其他特征或数字、步骤、动作、构成要素、部件或其组合。若无另行定义,包括技术用语或科学用语在内的此处使用的所有用语均表示与本专利技术所属
的普通技术人员通常理解相同的意思。通常使用的词典中定义过的用语应解释为与相关技术的文章脉络相一致的意思,本申请中没有明确定义的情况下不得解释为理想或过度形式性的意思。以下说明本专利技术例示实施例的基板处理装置。根据本专利技术例示的实施例,基板处理装置可包括为了制造平板显示装置之类的显示装置而对基板执行多种工程的预定的空间。可对所述基板执行用于制造例如半导体装置、平板显示装置等集成电路装置的多种工程。例示的实施例的基板处理装置可包括能够提供用于执行制造所述集成电路装置所需的多种工程的所述空间的工程腔室。例如,所述工程腔室可包括真空腔室、加热腔室等。这种工程腔室的一侧部或两侧部可具有用于承载及/或卸载所述基板的出入部(可以有多个)。根据例示的实施例,所述基板处理装置可包括至少两个工程腔室,所述至少两个工程腔室可连续地配置。该情况下,所述工程腔室的出入部可以实质上彼此相对。各所述工程腔室可包括上部承载所述基板的工作台。根据例示的实施例,一个工程腔室可包括至少两个工作本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:挡板,其从外部隔绝用于对基板执行制造集成电路装置所需的工程的空间;以及整列部件,其在利用所述挡板从所述外部隔离所述空间时向所述挡板的两侧部施加力以整列所述挡板。

【技术特征摘要】
2017.07.25 KR 10-2017-00940811.一种基板处理装置,其特征在于,包括:挡板,其从外部隔绝用于对基板执行制造集成电路装置所需的工程的空间;以及整列部件,其在利用所述挡板从所述外部隔离所述空间时向所述挡板的两侧部施加力以整列所述挡板。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,还包括:工程腔室,其包括对所述基板执行所述工程的所述空间;以及出入部,其配置于所述工程腔室的至少一侧部用于承载及卸载所述基板,其中,所述挡板隔绝所述出入部。3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于:包括连续地配置的两个工程腔室,所述连续地配置的两个工程腔室的出入部彼此相对地配置,所述挡板使得所述连续地配置的两个工程腔室的出入部之间相隔绝。4.根据权利要求2所述的基板处理装置,其特征在于:所述挡板向垂直方向移动以从所述外部隔绝用于执行所述工程的所述空间。5.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于:所述挡板位于所述工程腔室的下部,向所述工程腔室的上方移动。6.根据权利要求4所述的基板处理装置,其特征在于:所述挡板包括具有薄膜形状的板。7.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于:从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力由超声波发生。8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于:从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力由空气发生。9.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于:从所述整列部件施加于所述挡板的两侧部的力具有相同的大小。10.一种基板处理装置,包括连续地配置的多个工作台,其特征在于,包括:挡板,其使得所述多个工作台之间相隔绝;以及整列部件,其配置于所述多个工作台的下部且在所述挡...

【专利技术属性】
技术研发人员:金基哲崔峰满
申请(专利权)人:细美事有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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