The utility model discloses a precision cleaning device for semiconductor components. The utility model comprises an ultrasonic transducer, an ultrasonic generator and a base, a box body is installed above the base, an ultrasonic generator is installed inside the box body on one side of the controller, a first heating pipe is installed inside the cleaning pool, an ultrasonic transducer is installed inside the box body on one side of the cleaning pool, and a clamping arm is installed. The inner part of the water tank is equipped with a quantitative adding cylinder, the inner part of the water tank is equipped with a second heating pipe, the inner part of the water tank on the side of the second heating pipe is equipped with a water pump, the surface of the cross bar above the bearing is equipped with a motor, and the bottom end of the rotating shaft is equipped with a cleaning basket. The utility model solves the problems that precision cleaning and recycling of water resources can not be realized by setting the structure of an ultrasonic generator, an ultrasonic transducer, a cleaning pool, a first heating pipe, a quantitative adding cylinder, a water pump, a second heating pipe, a water tank and a cleaning basket.
【技术实现步骤摘要】
一种半导体组件精密洗净装置
本技术涉及半导体
,具体为一种半导体组件精密洗净装置。
技术介绍
半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,可用来产生、控制、接收、变换、放大信号和进行能量转换。半导体器件的半导体材料是硅、锗或砷化镓,可用作整流器、振荡器、发光器、放大器、测光器等器材。为了与集成电路相区别,有时也称为分立器件。绝大部分二端器件(即晶体二极管)的基本结构是一个PN结。本技术具体为一种半导体组件精密洗净装置。但是现有的技术存在以下的不足:1、现有的半导体组件在沾染油污油脂后,很难清洗,由于半导体组件的精密性,必须进行精密式的清洗才行,然而现有设备中缺乏能够精密清洗的设备;2、在进行精密清洗后,也仅仅是初步的洗净,但是清洗后半导体组件表面会残留清洗液,需要再次冲洗,但是直接冲洗较为浪费水资源。
技术实现思路
针对现有技术的不足,本技术提供了一种半导体组件精密洗净装置,解决了无法实现精密清洗和无法实现水资源循环利用的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种半导体组件精密洗净装置,包括超声波换能器、超声 ...
【技术保护点】
1.一种半导体组件精密洗净装置,包括超声波换能器(1)、超声波发生器(11)、底座(14),其特征在于:所述底座(14)的底部安装有支腿(21),所述底座(14)的上方安装有箱体(20),所述箱体(20)的内部安装有隔板(18);所述隔板(18)一侧的箱体(20)内部安装有控制器(17),所述控制器(17)一侧的箱体(20)内部安装有超声波发生器(11),所述超声波发生器(11)的一侧通过第一电源线(12)安装有第一插头(13),所述超声波发生器(11)上方的箱体(20)内部安装有清洗池(7);所述清洗池(7)的内部安装有第一加热管(2),所述第一加热管(2)上方的清洗池( ...
【技术特征摘要】
1.一种半导体组件精密洗净装置,包括超声波换能器(1)、超声波发生器(11)、底座(14),其特征在于:所述底座(14)的底部安装有支腿(21),所述底座(14)的上方安装有箱体(20),所述箱体(20)的内部安装有隔板(18);所述隔板(18)一侧的箱体(20)内部安装有控制器(17),所述控制器(17)一侧的箱体(20)内部安装有超声波发生器(11),所述超声波发生器(11)的一侧通过第一电源线(12)安装有第一插头(13),所述超声波发生器(11)上方的箱体(20)内部安装有清洗池(7);所述清洗池(7)的内部安装有第一加热管(2),所述第一加热管(2)上方的清洗池(7)内部安装有第一滤网(8),所述清洗池(7)的底部安装有排水管(9),所述排水管(9)的表面安装有控制阀(10),所述清洗池(7)一侧的箱体(20)内部安装有超声波换能器(1),所述清洗池(7)外侧的箱体(20)表面安装有面板(34),所述清洗池(7)的上方安装有竖杆(6),所述竖杆(6)的一侧安装有夹持臂(4),所述夹持臂(4)的内侧安装有定量添加筒(5),所述隔板(18)另一侧的箱体(20)的内部安装有水箱(23);所述水箱(23)的内部安装有第二加热管(19),所述第二加热管(19)一侧的水箱(23)内部安装有水泵(22),所述水...
【专利技术属性】
技术研发人员:张唐魁,
申请(专利权)人:世巨科技合肥有限公司,
类型:新型
国别省市:安徽,34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。