成像设备和成像方法技术

本申请提供了一种成像装置和成像方法。该成像装置包括：照明光源，用于输出照明光；照明光学系统，用于将照明光朝向样品透射；成像光学系统，用于透射从样品反射的光；工作台，用于沿预定传送方向移动样品；以及拍摄单元，用于接收反射光。成像设备可以包括位于样品的共轭焦平面处的一个或多个衍射光栅。拍摄单元的操作可以与工作台对样品的移动同步，以根据时间延迟集成方法获得图像。

【技术实现步骤摘要】
成像设备和成像方法相关申请的交叉引用本申请要求2017年7月18日提交给日本知识产权局的日本专利申请No.2017-138724以及2017年10月18日提交给韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2017-0135454的优先权，这些申请的公开内容通过引用全部合并于此。
示例实施例涉及一种成像设备和成像方法。
技术介绍
随着半导体器件变得更小，要由光学半导体检查设备检查的缺陷尺寸可以变得更小。随着缺陷尺寸变得更小，检查缺陷变得更加困难。在光学半导体检查设备中，改善光学分辨率可以是有效的。通常，可以通过减小要使用的光的波长和增加物镜的NA(数值孔径)来改善光学分辨率。关于波长的减小，传统的光学半导体检查设备可以使用在约260nm的深紫外(deepUV)范围内的光。在一些情况下，可以使用覆盖约400nm的UV范围的宽波段。关于光学系统，在宽波段中可能难以确保足够的透射系数。关于光源，可能难以确保具有深UV处的宽波段的光源具备足够亮度。关于NA，可以使用高NA、孔径接近0.9的物镜。为了保持高分辨率，可能需要将像差抑制到极限，但是在宽波长范围内抑制像差可能是非常困难的。由于上述原因，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成像设备，包括：工作台，其将样品定位在物平面中，并将所述样品沿预定的传送方向移动；照明光源，其输出照明光；第一衍射光栅，其位于照明光学系统内的第一共轭焦平面处，所述第一衍射光栅配置为将从所述照明光源接收的照明光朝向所述工作台上的样品透射；第二衍射光栅，其位于成像光学系统内的第二共轭焦平面处，所述第二衍射光栅配置为透射从所述样品反射的光；以及图像传感器，其用于接收由所述第二衍射光栅透射的从所述样品反射的光，其中，所述第一共轭焦平面、所述第二共轭焦平面和所述物平面是所述成像设备的同一组共轭的焦平面中的组成部分，并且其中，所述图像传感器配置为以与所述工作台的移动同步的时序重复操作，以获得时间...

【技术特征摘要】
2017.07.18 JP 2017-138724;2017.10.18 KR 10-2017-011.一种成像设备，包括：工作台，其将样品定位在物平面中，并将所述样品沿预定的传送方向移动；照明光源，其输出照明光；第一衍射光栅，其位于照明光学系统内的第一共轭焦平面处，所述第一衍射光栅配置为将从所述照明光源接收的照明光朝向所述工作台上的样品透射；第二衍射光栅，其位于成像光学系统内的第二共轭焦平面处，所述第二衍射光栅配置为透射从所述样品反射的光；以及图像传感器，其用于接收由所述第二衍射光栅透射的从所述样品反射的光，其中，所述第一共轭焦平面、所述第二共轭焦平面和所述物平面是所述成像设备的同一组共轭的焦平面中的组成部分，并且其中，所述图像传感器配置为以与所述工作台的移动同步的时序重复操作，以获得时间延迟集成图像。2.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述第一衍射光栅和所述第二衍射光栅在光学上彼此相同。3.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述第一衍射光栅和所述第二衍射光栅各自包括沿与所述传送方向光学对应的第一方向上排列的不同类型的光栅图案。4.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述第一衍射光栅和所述第二衍射光栅各自包括光栅图案，所述光栅图案具有相对于第一方向斜向地倾斜的线性光栅元件，所述第一方向与所述传送方向光学对应。5.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述第一衍射光栅和所述第二衍射光栅各自包括光栅图案，所述光栅图案具有与所述照明光学系统和所述成像光学系统的数值孔径和所述照明光的波长所确定的分辨率极限相对应的周期。6.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述第二衍射光栅和所述图像传感器被定位...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川明夫，小泽谦，金洸秀，S·朴，沼田光徳，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR