一种湿式制程设备液流物理洗净装置制造方法及图纸

一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，包括本体，本体包括特氟龙管，所述特氟龙管为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管的圆柱外壁设有均匀排列的通孔，特氟龙管外壁设有包覆的刷毛。本实用新型专利技术所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置，设计为整合型模刷清洗机构，特氟龙管一端通入药液，药液经特氟龙管上的通孔流出，可一边刷一边通入药液，药液从刷毛间流出，洗刷过程中的冲力可以使得脏污难以粘附在毛刷上，保持毛刷的洁净度，从而可保证对半导体晶圆刷洗过程中不带入污染物，提高良品率的同时，延长模刷的使用寿命。

A Liquid Flow Physical Cleaning Device for Wet Process Equipment

The utility model relates to a liquid flow physical cleaning device for a wet process equipment, which is transversely installed in the wet process equipment, including a body, which comprises a Teflon tube. The Teflon tube is sealed at one end and a cylindrical cavity with a connecting hole at the other end. The connecting hole end is connected with the medicine liquid intake pipe of the wet process platform, and the end is connected with the transmission shaft sleeve of the wet process platform. The outer wall of the cylinder is provided with uniformly arranged through holes, and the outer wall of the Teflon tube is provided with coated brushes. The utility model relates to a liquid flow physical cleaning device for a wet process equipment, which is designed as an integrated mould brush cleaning mechanism. One end of the Teflon tube is filled with medicinal liquid, and the medicinal liquid flows out through the through hole on the Teflon tube. The medicinal liquid flows in while brushing, and the medicinal liquid flows out from the brush to the brush. The impulse force in the washing process can make the dirty dirt difficult to adhere to the brush and maintain the cleanliness of the brush. It can ensure that no pollutants are brought into the process of semiconductor wafer brushing, improve the rate of good products, and prolong the service life of the die brush.

【技术实现步骤摘要】
一种湿式制程设备液流物理洗净装置
本技术涉及湿式制程设备领域，尤其涉及一种湿式制程设备液流物理洗净装置。
技术介绍
半导体制程是在超洁净无尘室进行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染的主要来源，大多会造成良率和可靠度的下降；在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展，但有些机构设计，使用上有维修困难、耗液量大、均匀性不佳、漏液，背面脏污等等问题。其中，模刷机构最常被使用到，主要用来刷除基板上半导体晶圆表面残留的污染物等，但刷毛使用一段时间后，其表面经常会粘附脏污，容易将脏污带入到半导体晶圆上，影响产品的良率，另外，刷毛因容易粘附脏污，导致刷毛的使用寿命降低，需要经常更换，费时费力的同时，增加了设备成本降低了生产效率。
技术实现思路
本技术正是针对现有技术存在的不足，提供了一种湿式制程设备液流物理洗净装置。为解决上述问题，本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，其特征是，包括本体(1)，所述本体(1)包括特氟龙管(2)，所述特氟龙管(2)为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管(3)联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管(2)的圆柱外壁设有均匀排列的通孔(4)，特氟龙管(2)外壁设有包覆的刷毛(5)。

【技术特征摘要】
1.一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，其特征是，包括本体(1)，所述本体(1)包括特氟龙管(2)，所述特氟龙管(2)为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管(3)联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管(2)的圆柱外壁设有均匀排列的通孔(4)，特氟龙管(2)外壁设有包覆的刷毛(5)。2.根据权利要求1所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置，其特征是，所述湿式...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈滢如，简健哲，
申请(专利权)人：安徽宏实自动化装备有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34