一种低反射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低反射镀膜玻璃，包括基板、设置于基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层高折射膜层和各层低折射率膜层交替设置；高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度为20nm～100nm，N不小于2。可见，本申请中通过高折射率膜层和低折射率膜层的交替设置降低反射率，并且通过将高折射率膜层的厚度设为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度设为20nm～100nm，使本申请中的低反射镀膜玻璃相比于现有技术在410nm～430nm以及840nm‑860nm的波段内具有更低的反射率，从而在使用时能够提高成像画面的清晰度。

【技术实现步骤摘要】
一种低反射镀膜玻璃
本技术实施例涉及镀膜
，特别是涉及一种低反射镀膜玻璃。
技术介绍
电视墙镜片的反射率如果较高，则会形成光的干涉，导致成像时形成重影，影响画面清晰度。因此，为了降低电视墙镜片反射，需要在电视墙镜片上设置低反射镀膜，目前的低反射镀膜玻璃主要是针对400～900nm整个波段的，例如AR膜，通用性较强，故现有技术中的电视墙镜片使用AR膜来降低反射，但是，由于电视墙镜片所针对的波段是410nm～430nm以及840nm-860nm，而现有技术中的镀膜玻璃在410nm～430nm以及840nm-860nm的波段内的反射率仍旧较高，造成一定的重影现象，在一定程度上影响电视墙镜片的清晰度。因此，如何提供一种解决上述技术问题的低反射镀膜玻璃成为本领域技术人员目前需要解决的问题。
技术实现思路
本技术实施例的目的是提供一种低反射镀膜玻璃，在使用过程中相比于现有技术在410nm～430nm以及840nm-860nm的波段内具有更低的反射率，从而在使用时能够提高成像画面的清晰度。为解决上述技术问题，本技术实施例提供了一种低反射镀膜玻璃，包括基板、设置于所述基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层所述高折射膜层和各层所述低折射率膜层交替设置；所述高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，所述低折射率膜层的厚度为20nm～100nm，所述N不小于2，所述高折射率膜层与所述基板直接接触。可选的，所述高折射率膜层为五氧化三钛层Ti3O5膜层。可选的，所述低折射率膜层为二氧化硅SiO2膜层。可选的，所述N等于5。可选的，第一Ti3O5膜层、第二Ti3O5膜层、第三Ti3O5膜层、第四Ti3O5膜层和第五Ti3O5膜层的厚度分别为18.22nm、42.08nm、111.41nm、104.2nm以及18.22nm；所述第一Ti3O5膜层与所述基板直接接触；第一SiO2膜层、第二SiO2膜层、第三SiO2膜层、第四SiO2膜层和第五SiO2膜层分别位于所述第一Ti3O5膜层至所述第五Ti3O5膜层的上方，所述第一SiO2膜层、所述第二SiO2膜层、所述第三SiO2膜层、所述第四SiO2膜层和所述第五SiO2膜层的厚度分别为27.57nm、27.41nm、38.53nm、47.73nm以及99.36nm。可选的，所述基板为玻璃基板。本技术实施例提供了一种低反射镀膜玻璃，包括基板、设置于基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层高折射膜层和各层低折射率膜层交替设置；高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度为20nm～100nm，N不小于2。可见，本申请中通过高折射率膜层和低折射率膜层的交替设置降低反射率，并且通过将高折射率膜层的厚度设为10nm～120nm，低折射率膜层的厚度设为20nm～100nm，使本申请中的低反射镀膜玻璃相比于现有技术在410nm～430nm以及840nm-860nm的波段内具有更低的反射率，从而在使用时能够提高成像画面的清晰度。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对现有技术和实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术实施例提供的一种低反射镀膜玻璃的结构示意图；图2为与本技术实施例中的一种低反射镀膜玻璃对应的反射率曲线示意图；图3为图2的局部放大示意图；图4为与现有技术中的低反射镀膜玻璃对应的反射率曲线示意图；图5为图4的局部放大示意图。具体实施方式本技术实施例提供了一种低反射镀膜玻璃，在使用过程中相比于现有技术在410nm～430nm以及840nm-860nm的波段内具有更低的反射率，从而在使用时能够提高成像画面的清晰度。为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参照图1，图1为本技术实施例提供的一种低反射镀膜玻璃的结构示意图。该低反射镀膜玻璃，包括基板3、设置于基板3上的N层高折射率膜层1和N层低折射率膜层2，各层高折射膜层1和各层低折射率膜层2交替设置；高折射率膜层1的厚度为10nm～120nm，低折射率膜层2的厚度为20nm～100nm，N不小于2。需要说明的是，本申请中的低反射镀膜玻璃主要是针对410nm～430nm以及840nm-860nm的波段的光波进行设计的，并且本申请中的基板3可以为玻璃基板，当然也可以为其他材质的基板。另外，由于五氧化三钛层Ti3O5具有较高的折射率、稳定性高、耐腐蚀等优点，所以本申请中的高折射率膜层1可以为Ti3O5膜层；又由于二氧化硅SiO2的性能较为稳定、且折射率较低，所以本申请中的低折射率膜层2可以为SiO2膜层。具体的，本申请中的低反射镀膜玻璃具体可以由基板和10层膜层构成，也即N等于5，其中，五层Ti3O5膜层和五层Ti3O5膜层交替设置。如图1所示，从下至上依次为基板、第一Ti3O5膜层、第一SiO2膜层、第二Ti3O5膜层、第二SiO2膜层、第三Ti3O5膜层、第三SiO2膜层、第四Ti3O5膜层、第四SiO2膜层、第五Ti3O5膜层和第五SiO2膜层。为了使低反射镀膜玻璃在410nm～430nm以及840nm-860nm的波段具有较低的反射率，以防止将该低反射镀膜玻璃设置于电视墙镜片时出现重影现象，更进一步的，本申请中的第一Ti3O5膜层、第二Ti3O5膜层、第三Ti3O5膜层、第四Ti3O5膜层和第五Ti3O5膜层的厚度分别为18.22nm、42.08nm、111.41nm、104.2nm以及18.22nm；相应的，第一SiO2膜层、第二SiO2膜层、第三SiO2膜层、第四SiO2膜层和第五SiO2膜层的厚度分别为27.57nm、27.41nm、38.53nm、47.73nm以及99.36nm。当本申请中的低反射镀膜玻璃为基于上述各个Ti3O5膜层和各个SiO2膜层的镀膜玻璃时，本申请中的低反射镀膜玻璃在在410nm～430nm以及840nm-860nm波段的反射率相比于现有技术中的镀膜玻璃在410nm～430nm以及840nm-860nm波段的反射率大大降低，从而在使用过程中可以进一步减小镜片表面的反射，提高电视墙玻璃的画面清晰度及成像质量，提高用户的使用体验。其中，本技术实施例中的低反射镀膜玻璃在400～900nm波段内反射率曲线示意图如图2和图3所示，其中，如3为图2的局部放大示意图；现有技术中的低反射镀膜玻璃在400～900nm波段内反射率曲线示意图如图4和图5所示，其中，如5为图4的局部放大示意图。由图3可知，本申请中的低反射镀膜玻璃在410nm～430nm以及840nm-860nm波段的反射率均为0.05％以下，由图5可知，现有技术中的低反射镀膜玻璃在410nm～430nm以及840nm-本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低反射镀膜玻璃，其特征在于，包括基板、设置于所述基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层所述高折射膜层和各层所述低折射率膜层交替设置；所述高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，所述低折射率膜层的厚度为20nm～100nm，所述N不小于2，所述高折射率膜层与所述基板直接接触。

【技术特征摘要】
1.一种低反射镀膜玻璃，其特征在于，包括基板、设置于所述基板上的N层高折射率膜层和N层低折射率膜层，各层所述高折射膜层和各层所述低折射率膜层交替设置；所述高折射率膜层的厚度为10nm～120nm，所述低折射率膜层的厚度为20nm～100nm，所述N不小于2，所述高折射率膜层与所述基板直接接触。2.根据权利要求1所述的低反射镀膜玻璃，其特征在于，所述高折射率膜层为五氧化三钛层Ti3O5膜层。3.根据权利要求2所述的低反射镀膜玻璃，其特征在于，所述低折射率膜层为二氧化硅SiO2膜层。4.根据权利要求3所述的低反射镀膜玻璃，其特征在于，所述N等于5。5.根据权利要求4所述的低反射镀膜玻璃，其特征在于，第一Ti3O5膜层、第二Ti3O5...

【专利技术属性】
技术研发人员：周群飞，陈立志，
申请(专利权)人：蓝思科技长沙有限公司，
类型：新型
国别省市：湖南,43