一种复合式磁控溅射沉积台制造技术

本发明专利技术属于磁控溅射装置，具体涉及一种复合式磁控溅射沉积台。一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台和子沉积台，其特征在于：母沉积台固定在真空室内部下方，且位置在磁控溅射装置的正下方，子沉积台通过电机装置连接到母沉积台上方，并且子沉积台的台面能够水平转动，电声换能装置固定在母沉积台上，与子沉积台的台面水平。通过间歇性超声控制，有效的增强附着在金属丝表面层附着力。

A Composite Magnetron Sputtering Deposition Platform

The invention belongs to a magnetron sputtering device, in particular to a composite magnetron sputtering deposition platform. A composite magnetron sputtering depositing platform, mother depositing platform and sub depositing platform, is characterized in that the mother depositing platform is fixed below the vacuum chamber and positioned directly below the magnetron sputtering device, the sub depositing platform is connected to the mother depositing platform through an electrical device, and the sub depositing platform can rotate horizontally, and the electroacoustic energy conversion device is fixed on the mother depositing platform and the sub depositing platform. Table level. Intermittent ultrasound control can effectively enhance the adhesion on the surface of the wire.

【技术实现步骤摘要】
一种复合式磁控溅射沉积台
本专利技术属于磁控溅射装置，具体涉及一种复合式磁控溅射沉积台。
技术介绍
磁控溅射沉积是利用足够高能量的粒子轰击靶材表面，使靶材中的原子获得做够高的能量，在表面发出的高能粒子在磁场的作用下运动，最终沉积在基体表面，形成金属薄膜。磁控溅射已经成为一种成熟的工业镀膜技术，由于其突出的有点，广泛应用于金属表面改性领域。磁控溅射包括很多种类，各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。目前，磁控溅射多用于大面积区域金属镀膜，如果溅射对象是金属丝或镂空金属配件，接触面积小，溅射层容易脱落，如何在金属丝表面形成稳定附着力强的磁控溅射技术，是亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述技术问题，提出了一种复合式磁控溅射沉积台。一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台和子沉积台，其特征在于：母沉积台固定在真空室内部下方，且位置在磁控溅射装置的正下方，子沉积台通过电机装置连接到母沉积台上方，并且子沉积台的台面能够水平转动，电声换能装置固定在母沉积台上，与子沉积台的台面水平。所述，电声换能装置通过连接件固定在母沉积台上，扩散口水平对准子沉积台上方加工物体，扩散口与母沉积台相对位置通过连接件调节。所述，功率放大器和信号发生器通过导线控制扩散口处声波功率。所述，功率放大器和信号发生器隐藏在真空室外部。所述，扩散口处通保护气体，保护气体在声波作用下作用在子沉积台加工物体上。所述，通过控制功率放大器和信号发生器，能够间歇性控制声波发射。本专利技术有益效果：通过间歇性声波控制，有效的增强附着在金属丝表面层附着力，这种作用的效果有两个，其中一个是使沉积在金属丝表面不牢固的表面金属脱落，另一个有益效果是给金属丝表面一个垂直作用力，压实沉积涂层。间歇性的声波发射，也使得沉积金属表层实现沉积，压实，再沉积，再压实的效果，此技术适合应用在溅射对象为复杂镂空或金属丝等细微结构物体上。附图说明图1为磁控溅射系统。图2为电声换能装置。1真空室；2磁控溅射装置；3电声换能装置；4母沉积台；5子沉积台；31扩散口；32声波导管；33连接件；34导线；35功率放大器；36信号发生器。具体实施方式电声换能装置能量转换过程是：将电信号转换成机械振动能，然后，机械振动产生声波，声波能冲击材料表面，实现无接触作用力。以下结合附图和实施例对本技术进行详细表述。实施例11）选用合适尺寸的金属丝，打磨剖光，用有机溶剂超生清洗基底表面，清洗完毕，冷风干燥备用；2）靶材选用钛靶，砂纸打磨抛光靶材表面，安装在磁控溅射装置2的磁控溅射靶位；3）调节磁控溅射靶位高度，将金属丝固定在支架上，支架至于子沉积台5上面;4）真空室1抽真空，磁控溅射过程，采用本底真空1.0-5.0×10-4Pa，充入氮气作为反应气体，氮气流量控制在30-105sccm，工作真空1.0-8.0×10-1Pa，预溅5分钟，磁控溅射源功率调节范围100-120W，负偏压0V，溅射10-15分钟；5）关闭系统，关闸板阀，关闭分子泵，分子泵停止工作后关闭电磁阀，关机械泵，取样品；6）调节显微镜，观察待测样品金属丝表面形貌。实施例2复合式磁控溅射沉积台工作状态：母沉积台4固定在真空室1内部下方，且位置在磁控溅射装置2的正下方，子沉积台5通过电机装置连接到母沉积台4上方，并且子沉积台5的台面能够水平转动，金属丝固定在支架上，放置在子沉积台5表面，子沉积台5在电机控制下沿水平方向旋转，使溅射金属均匀沉积在金属丝表面。电声换能装置3固定在母沉积台4上，与子沉积台5台面水平。电声换能装置3通过连接件33固定在母沉积台4上，调节声波导管32，扩散口31水平对准子沉积台5上方加工物体，扩散口31与母沉积台4相对位置通过连接件33调节。通过控制功率放大器35和信号发生器36，能够间歇性控制声波发射，声波发射时扩散口31处链接导管，在导管中通保护气体氮气，氮气在声波作用下，间歇性的作用在金属丝表面，氮气流量需要严格控制，既能满足声波的传播介质，又在真空度合理的工作范围内，这种作用的效果有两个，其中一个是使沉积在金属丝表面不牢固的表面金属脱落，另一个有益效果是给金属丝表面一个垂直作用力，压实沉积图层，当与子沉积台5旋转时，金属丝表面全方位受到声波力的作用。为了降低溅射金属对控制功率放大器35和信号发生器36的损伤，以及对声波功率的控制，将功率放大器35和信号发生器36通过导线34链接，隐藏在真空室1外部。实施例3对电声换能装置3工作的控制：功率放大器35、信号发生器36通过导线34链接，信号发生器36用于产生低频交流模拟信号，功率放大器35用于放大低频交流模拟信号，电声换能装置3将电信号转化为声波，声波导管32一端与信号发生器36链接，另一端与扩散口31处聚能件链接，聚能件用于产生声压梯度，增强聚能件远离声波导管一端输出的声波。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台（4）和子沉积台（5），其特征在于：母沉积台（4）固定在真空室（1）内部下方，且位置在磁控溅射装置（2）的正下方，子沉积台（5）通过电机装置连接到母沉积台（4）上方，并且子沉积台（5）的台面能够水平转动，电声换能装置（3）固定在母沉积台（4）上，与子沉积台（5）的台面水平。

【技术特征摘要】
1.一种复合式磁控溅射沉积台，母沉积台（4）和子沉积台（5），其特征在于：母沉积台（4）固定在真空室（1）内部下方，且位置在磁控溅射装置（2）的正下方，子沉积台（5）通过电机装置连接到母沉积台（4）上方，并且子沉积台（5）的台面能够水平转动，电声换能装置（3）固定在母沉积台（4）上，与子沉积台（5）的台面水平。2.根据权利要求1所述一种复合式磁控溅射沉积台，其特征在于：电声换能装置（3）通过连接件（33）固定在母沉积台（4）上，扩散口（31）水平对准子沉积台（5）上方加工物体，扩散口（31）与母沉积台（4）相对位置通过连接件（33）调节。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁红，乔宪武，
申请(专利权)人：杭州联芳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33