用于制造高垂度透镜阵列的方法以及高垂度透镜阵列技术

技术编号:20114421 阅读:40 留言:0更新日期:2019-01-16 11:30
本发明专利技术公开一种用于制造一高垂度透镜阵列的方法高垂度透镜阵列,该方法包含有:个别地将一光学胶材喷射到一模具的多个透镜模腔中,以独立地形成多个透镜部件;对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化;在该些透镜部件上喷射一光学胶层;在该光学胶层上形成一透明基底;对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件;以及去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。

Method for fabricating high-sag lens array and high-sag lens array

The invention discloses a method for manufacturing a high-sag lens array. The method comprises: injecting an optical adhesive individually into a plurality of lens cavity of a die to form a plurality of lens components independently; exposing the lens components to harden the optical adhesive in the lens cavity; and spraying an optical adhesive layer on the lens components. A transparent substrate is formed on the optical adhesive layer; the optical adhesive layer is exposed to harden the optical adhesive layer and combine with the transparent substrate, the optical adhesive layer and the lens components; and the die is removed to form the high sag lens array.

【技术实现步骤摘要】
用于制造高垂度透镜阵列的方法以及高垂度透镜阵列
本专利技术涉及一种制造透镜阵列的方法,尤其是涉及一种用于制造高垂度(sag)透镜阵列的方法以及用半导体制作工艺制造的高垂度透镜阵列。
技术介绍
一般而言,制造一微透镜阵列的传统方法会先在具有多个空腔的模具上同时注入一紫外线(UV)胶层,然后将一玻璃基板定位在该紫外线胶层上,在该玻璃基板挤压该紫外线胶层的同时照射紫外线,以硬化该紫外线胶层并将该玻璃基板和该紫外线胶层结合起来,制成该微透镜阵列。然而,当该些空腔具有超过300微米的深度时,上述的传统方法将导致该些空腔中的紫外线胶层的不完整填充成型或气泡,并且这样的不完整成型和气泡问题将导致很差的光学特性。换句话说,当使用该传统方法制造高度超过300微米的微透镜阵列时,在微透镜阵列的每个微透镜的顶部区域上将存在变形或气泡问题。请参考图1,图1所绘示的为利用该传统方法制造的微透镜阵列中的玻璃基板12上的微透镜10以及微透镜10的俯视示意图。如图1所示,微透镜10在其顶部区域具有严重的气泡问题。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的之一在于提供一种用于制造高垂度(sag)透镜阵列的方法以及用半导体制作工艺制造的高垂度透镜阵列,以解决上述问题。为达上述目的,本专利技术揭露一种用于制造一高垂度透镜阵列的方法,其包含有:个别地将一光学胶材喷射到一模具的多个透镜模腔中,以独立地形成多个透镜部件;对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化;在该些透镜部件上喷射一光学胶层;在该光学胶层上形成一透明基底;对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件;以及去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。本专利技术还揭露一种高垂度透镜阵列,其包含有:一透明基底、一光学胶层以及多个透镜。该光学胶层系形成于该透明基板上;以及该些透镜形成于该光学胶层上,且具有一超过300微米的高度。综上所述,本专利技术可以使用一半导体制作工艺来制造高度超过300微米的一高凹陷透镜阵列,并且该高凹陷透镜阵列中的每个透镜都具有良好的形状而没有气泡问题。附图说明图1为利用传统方法制造的微透镜阵列中的玻璃基板上的微透镜以及该微透镜的俯视示意图;图2~图6为本专利技术的一实施例的制造一高垂度透镜阵列的顺序过程的截面示意图;图7为高垂度透镜阵列中的一个透镜部件的俯视示意图;图8为依据本专利技术的一实施例的一种用于制造一高垂度透镜阵列的方法的流程示意图。符号说明10:微透镜12:玻璃基板100:高垂度透镜阵列102:模具104:透镜模腔106:透镜部件108:光学胶层110:透明基板具体实施方式在本说明书以及后续的权利要求当中使用了某些词汇来指称特定的元件,而所属领域中具有通常知识者应可理解,硬件制造商可能会用不同的名词来称呼同一个元件,本说明书及后续的权利要求并不以名称的差异来作为区分元件的方式,而是以元件在功能上的差异来作为区分的准则,在通篇说明书及后续的请求项当中所提及的「包含有」为一开放式的用语,故应解释成「包含有但不限定于」,此外,「耦接」一词在此包含有任何直接及间接的电气连接手段,因此,若文中描述一第一装置耦接于一第二装置,则代表该第一装置可以直接电气连接于该第二装置,或通过其他装置或连接手段间接地电气连接至该第二装置。请参考图2~图6,图2~图6所绘示的为依据本专利技术的一实施例的制造一高垂度透镜阵列100的顺序过程的截面示意图,其中高垂度透镜阵列100可以是在半导体芯片中使用的微透镜阵列。如图2所示,形成具有多个透镜模腔104的模具102,其中透镜模腔104可以具有超过300微米的深度。如图3所示,个别地将光学胶材喷射到模具102的透镜模腔104中,以独立地形成多个透镜部件106,其中光学胶材可以是紫外线(UV)胶材料。举例来说,本专利技术可以将光学胶材一个一个地喷射到透镜模腔104中,或者两个两个地喷射到透镜模腔104中,或者通过一批次一批次地喷射到透镜模腔104中。接着,对透镜部件106曝光以使透镜模腔104中的光学胶材硬化。举例来说,本专利技术可以用紫外线照射透镜部件106,以硬化透镜模腔104中的光学胶材。如图4所示,在透镜部件106上喷射一光学胶层108,其中光学胶层108可以包括与透镜模腔104中的光学胶材相同的紫外线胶材。如图5所示,在光学胶层108上形成一透明基板110,并且对光学胶层108曝光以使光学胶层108硬化并结合透明基板110、光学胶层108与透镜部件106,其中该透明基底110可以为一玻璃基底。如图6所示,去除模具102以形成高垂度透镜阵列100,其中高垂度透镜阵列100具有超过300微米的高度。以这种方式,本专利技术可以使用半导体制作工艺来制造具有良好形状的高垂度透镜阵列100,而没有气泡问题。请参考图7,图7所绘示的为高垂度透镜阵列100中的一个透镜部件106的俯视示意图。此外,在此请注意,上述的实施例仅作为本专利技术的举例说明,而不是本专利技术的限制条件,举例来说,可以根据不同的设计要求来改变透镜模腔104和透镜部件106的数量。请参考图8,图8所绘示的为依据本专利技术的一实施例的一种用于制造一高垂度透镜阵列的方法的流程示意图。假如大体上可以得到相同的结果,则流程中的步骤不一定需要照图8所示的顺序来执行,也不一定需要是连续的,也就是说,这些步骤之间可以插入其他的步骤。本专利技术的方法包含有下列步骤:步骤200:形成具有多个透镜模腔的一模具。步骤210:个别地将一光学胶材喷射到该模具的该些透镜模腔中,以独立地形成多个透镜部件。步骤220:对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化。步骤230:在该些透镜部件上喷射一光学胶层。步骤240:在该光学胶层上形成一透明基底。步骤250:对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件。步骤260:去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。综上所述,本专利技术可以使用一半导体制作工艺来制造高度超过300微米的一高凹陷透镜阵列,并且该高凹陷透镜阵列中的每个透镜都具有良好的形状而没有气泡问题。以上所述仅为本专利技术的优选实施例,凡依本专利技术权利要求所做的均等变化与修饰,都应属本专利技术的涵盖范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造高垂度透镜阵列的方法,其特征在于,包含有:个别地将一光学胶材喷射到一模具的多个透镜模腔中,以独立地形成多个透镜部件;对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化;在该些透镜部件上喷射一光学胶层;在该光学胶层上形成一透明基底;对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件;以及去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。

【技术特征摘要】
2017.07.06 US 15/642,3401.一种用于制造高垂度透镜阵列的方法,其特征在于,包含有:个别地将一光学胶材喷射到一模具的多个透镜模腔中,以独立地形成多个透镜部件;对该些透镜部件曝光以使在该些透镜模腔中的光学胶材硬化;在该些透镜部件上喷射一光学胶层;在该光学胶层上形成一透明基底;对该光学胶层曝光以使该光学胶层硬化并结合该透明基板、该光学胶层与该些透镜部件;以及去除该模具以形成该高垂度透镜阵列。2.如权利要求1所述的方法,其中该些透镜模腔具有超过300微米的深度。3.如权利要求1所述的方法,...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄腾德赖人晖许书豪
申请(专利权)人:奇景光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾,71

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