大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术设计了一种大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置和方法，该装置中包括激光光源、光阑、偏振片、分束器、参考光探测器、二维扫描机构、聚焦透镜、积分球和测试光探测器，沿激光传播方向依次设置光阑、偏振片和分束器，分束器将入射光束分为参考光束和测试光束，参考光束照射在参考光探测器上，测试光束照射在待测光栅上，经过该衍射光栅衍射后，入射到聚焦透镜，经聚焦透镜聚焦后射入积分球，漫反射光被测试光探测器接收。本发明专利技术装置及方法可以对大口径光栅的衍射效率光谱及其均匀性进行准确的测量，同时可以在较短的时间内完成测量，并且本发明专利技术构建的测量系统具有结构紧凑，造价成本低的优点。

Measuring Device and Method for Diffraction Efficiency Spectrum and Uniformity of Large-aperture Grating

The device includes laser source, aperture, polarizer, beam splitter, reference light detector, two-dimensional scanning mechanism, focusing lens, integrating sphere and test light detector. The aperture, polarizer and beam splitter are arranged in turn along the direction of laser propagation, and the beam splitter divides the incident beam. For reference beam and test beam, the reference beam is irradiated on the reference light detector, and the test beam is irradiated on the grating to be measured. After the diffraction grating is diffracted, it is incident to the focusing lens. After the focusing lens is focused, it is injected into the integrating sphere, and the diffuse reflection light is received by the test light detector. The device and method of the invention can accurately measure the diffraction efficiency spectrum and its uniformity of large-aperture gratings, and can complete the measurement in a relatively short time. The measurement system of the invention has the advantages of compact structure and low cost.

【技术实现步骤摘要】
大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置和方法
本专利技术属于光栅衍射效率光谱测量
，尤其涉及一种大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置和方法。
技术介绍
大口径光栅(对角线尺寸达到米级)在基于惯性约束核聚变的高功率啁啾脉冲放大系统、大口径天文望远镜、精密位移测量、纳米压印光刻以及其他诸多科学
中起着至关重要的作用，而大口径范围内的衍射效率光谱及其均匀性是大口径光栅最重要的性能指标之一，大口径内衍射效率光谱的准确测量对于评价大口径光栅的性能、改进其加工工艺有着重要的意义。对于目前国际上普遍采用的大口径光栅衍射效率测量装置，基于该测量系统，大口径光栅衍射效率测量的方法可以比较准确的完成大口径光栅衍射效率的测量，但其只能测量单个波长位置处(如1053nm)大口径光栅的衍射效率及其均匀性，这是由于入射波长变化时衍射光的传播方向会发生变化的原因。为了测量大口径光栅在特定波段范围(如900-1100nm)的衍射效率光谱及其均匀性，一种比较直观的方法是根据目前国际上常见的小口径光栅衍射效率光谱的测量装置和测量方法，构建大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的改进测量装置。这种装置能够本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，包括激光光源、光阑、偏振片、分束器、参考光探测器、聚焦透镜、积分球和测试光探测器，沿激光传播方向依次设置光阑、偏振片和分束器，分束器将入射光束分为参考光束和测试光束，参考光束照射在参考光探测器上，测试光束照射在待测光栅上，经过该衍射光栅衍射后，入射到聚焦透镜，经聚焦透镜聚焦后射入积分球，漫反射光被测试光探测器接收。

【技术特征摘要】
1.一种大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，包括激光光源、光阑、偏振片、分束器、参考光探测器、聚焦透镜、积分球和测试光探测器，沿激光传播方向依次设置光阑、偏振片和分束器，分束器将入射光束分为参考光束和测试光束，参考光束照射在参考光探测器上，测试光束照射在待测光栅上，经过该衍射光栅衍射后，入射到聚焦透镜，经聚焦透镜聚焦后射入积分球，漫反射光被测试光探测器接收。2.根据权利要求1所述的大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，还包括快电子学组件，用于远程控制滤波器、参考光探测器和测试光探测器，实现数据采集和数据处理。3.根据权利要求1或2所述的大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，还包括二维扫描机构，二维扫描机构由载物台、竖直方向的光学精密位移台、水平方向的光学精密位移台组成，二维扫描机构用于移动待测大口径光栅样品，竖直方向的光学精密位移台和水平方向的光学精密位移台分别经步进电机控制器与计算机相连。4.根据权利要求1或2所述的大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，还包括滤波器，所述激光光源为超连续谱激光光源，滤波器设置在超连续谱激光光源与光阑之间。5.根据权利要求4所述的大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量装置，其特征在于，滤波器为液晶可调谐滤波器或声光滤波器。6.基于权利要求1-5任一项的一种大口径光栅衍射效率光谱及其均匀性的测量方法，其特征在于，包括以下步骤：①在激光光源关闭的情况下测量参考光...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏志林，朱宇，邵建达，刘世杰，王圣浩，
申请(专利权)人：武汉理工大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42