一种结构拓扑优化方法技术

本发明专利技术公开了一种结构拓扑优化方法，包括如下步骤：定义初始结构和相应的水平集函数；将当前的节点水平集函数值φN平均插值得到各单元初始水平集函数值φ；引入可调节宽度的水平集带概念和用于控制中间密度范围的参数Δ，将单元水平集函数值φ通过参数为Δ的映射函数处理得到分布在0‑1之间的单元密度值H(φ)，即得到含有中间密度的拓扑结构；对拓扑结构进行有限元分析，更新节点水平集函数值φN；迭代并进行收敛判断，得到具有清晰边界的结构设计；输出优化结果。本发明专利技术可实现连续的拓扑演化，解决边界相关的优化问题，确保优化结果的物理可制造性，可得到合理的结构拓扑，最终收敛时可以得到通过零水平集表达的具有清晰边界的结构设计。

A Structural Topology Optimization Method

The invention discloses a structural topology optimization method, which includes the following steps: defining the initial structure and corresponding level set function; average interpolation of the current node level set function value_N to get the initial level set function value_of each element; introducing the concept of level set band with adjustable width and parameter_used to control the range of intermediate density, and passing the unit level set function value_through parameters as follows: The mapping function of is processed to obtain the element density value H(_) distributed between 0_1, i.e. the topological structure with intermediate density; the finite element analysis of the topological structure is carried out to update the value of the node level set function_N; iteration and convergence judgment are carried out to obtain the structural design with clear boundary; and the optimization results are output. The invention can realize continuous topological evolution, solve boundary-related optimization problems, ensure the physical manufacturability of optimization results, obtain reasonable structural topology, and eventually obtain a structural design with clear boundary expressed by zero level set when convergence occurs.

【技术实现步骤摘要】
一种结构拓扑优化方法
本专利技术涉及结构优化设计相关
，特别涉及一种基于可调节宽度水平集带的结构拓扑优化方法。
技术介绍
基于材料插值模型的变密度法(以SIMP方法为代表)和水平集方法是目前拓扑优化的两种常用方法。变密度法是引入假想的可在0-1之间连续取值的单元伪密度作为设计变量，然后假定材料物理属性值如弹性模量与伪密度之间存在函数关系的拓扑优化方法。其中，SIMP模型是变密度法中最常用的模型，其单元弹性模量E取为单元伪密度的函数：E(ρ)＝ρpE0其中，p为惩罚因子，ρ为材料伪密度，E0为实体材料的弹性模量。在实际的应用中，当p取值较小时，优化结构含有大部分的灰色单元即中间密度单元，而当p取值较大时又往往会出现收敛过快从而陷入局部最优的问题。因此，目前实际应用中一般取p＝3。该方法通过惩罚因子p的作用实现材料伪密度趋近于0或1从而逐渐去除结构中的中间密度单元，但该方法有两个问题：1.对于三维复杂结构最终结果往往仍然存在大量中间密度单元无法消除；2.对于同时涉及质量与刚度的优化问题如结构自重及动力学问题，需要质量与刚度同时进行惩罚，但由于质量与刚度的物理属性不同，同样的惩罚因子会因为惩罚效果不匹配导致收敛问题，往往需要进行额外处理。基于水平集的拓扑优化方法，是利用高维标量水平集函数场φ的零等值线(二维问题)或零等值面(三维问题)，即φ＝0，来隐式描述结构的几何轮廓或不同材料的交界面，并利用特定的速度场驱动结构的边界演化，得到非0即1的离散材料分布和明确的结构边界，但水平集方法由于不存在中间密度，拓扑演化过程不连续，往往存在初始设计的依赖性问题，即初始设计对最终设计的影响较大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的缺点与不足，提供一种结构拓扑优化方法，此方法能充分发挥中间密度的拓扑表现潜力，并得到收敛的具有明确边界的优化结果，以解决边界相关的优化问题和确保优化结果的物理可制造性。本专利技术的目的通过以下的技术方案实现：一种结构拓扑优化方法，包括如下步骤：S1、选择一个设计域并进行离散和有限元网格划分，导出节点信息、单元信息；S2、选定需要优化的目标函数，根据实际工作状况施加位移约束条件和荷载；S3、给定初始水平集带宽度2Δinit及各节点的初始水平集函数值φNinit，使材料在设计域范围内满布；S4、将当前的节点水平集函数值φN平均插值得到各单元初始水平集函数值φ；S5、将单元水平集函数值φ通过参数为Δ的映射函数处理得到分布在0-1之间的单元密度值H(φ)，即得到含有中间密度的拓扑结构，Δ表示用于控制中间密度范围的参数；S6、对上一步得到的拓扑结构进行有限元分析，得到当前用于驱动速度场演化的响应量，进而得到新的节点水平集函数值φN；S7、迭代收敛判断，当优化目标达到标准时，优化迭代结束，执行步骤S8，否则按式Δ＝Δ-Δt更新参数Δ值，并重复步骤S4至步骤S7，Δt表示预设的每步减小幅度；S8、输出优化结果，从而得到通过零水平集表达的具有清晰边界的结构设计。优选的，所述步骤S1中通过编译代码对设计域进行离散和有限元网格划分。优选的，所述步骤S1中在有限元建模、分析软件中对设计域进行离散和有限元网格划分。优选的，所述步骤S1中的节点信息包括所有节点的编号及坐标，单元信息包括单元编号以及组成每个单元的节点编号。优选的，所述步骤S2中目标函数的优化目标包括结构应变能最小化、结构刚度最大化、动态振动频率优化。优选的，所述步骤S2中，位移约束条件的约束信息包括约束点编号及坐标、被约束的自由度，荷载信息包括：受力点编号及坐标、受力方向对应的自由度和受力大小。优选的，所述步骤S5中的映射函数为Heaviside函数，其表达式如下：其中，a为接近0的正数，Δ是控制中间密度范围的参数。优选的，所述步骤S7中设定每步减小幅度为Δt，初始值为Δinit，下限为Δmin；那么在每一步迭代中，可调节的水平集带宽度为2Δ。当Δmin取非常接近0的正数时，可调节的水平集带宽度为接近0的2Δmin，拓扑结构的中间密度范围极小，当Δmin取为0时，则完全去除中间密度，得到具有明确边界的拓扑优化结果。本专利技术与现有技术相比，具有如下优点和有益效果：1、本专利技术利用使单元密度可以取0-1之间的中间值这一策略，实现连续的拓扑演化，从而解决边界相关的优化问题和确保优化结果的物理可制造性。2、本专利技术方法，开始取一个比较大的水平集带宽度(例如10倍单元尺寸)，然后逐渐减小，从而通过水平集带宽度这一个参数的改变实现从密度法到水平集法的平滑过渡，在开始阶段可以得到合理的结构拓扑，最终收敛时可以得到通过零水平集表达的具有清晰边界的结构设计。3、本专利技术在映射函数处理阶段引入Heaviside函数，可以使不同区域的材料性质光滑过度，从而得到合理的结构拓扑，最终收敛时可以得到通过零水平集表达的具有明确边界的结构设计。附图说明图1是本专利技术单元初始水平集函数值φinit示意图。图2是本专利技术对单元初始水平集函数值φinit进行Heaviside处理，所得单元密度值H(φ)示意图。图3是本专利技术迭代过程中，单元水平集函数值φ示意图。图4是本专利技术迭代过程中，水平集带宽度为2Δ，对上一步水平集函数进行Heaviside处理，所得单元密度值H(φ)的示意图。图5是本专利技术迭代终止时，单元水平集函数值φ示意图。图6是本专利技术迭代终止时，水平集带宽度为2Δmin，对上一步水平集函数进行Heaviside处理，所得单元密度值H(φ)示意图。图7是本专利技术一种结构拓扑优化方法的流程图。图8是本专利技术的实施例一个矩形初始设计域的示意图。图9是本专利技术的实施例取一个比较大的水平集带初始宽度Δinit＝5，然后逐渐减小至Δmin＝0.5获得的实施例的拓扑结果，(a)初始拓扑图，(b)迭代过程中的拓扑图、(c)最终拓扑图。图10是本专利技术的实施例取一个固定的比较小的水平集带初始宽度Δ＝0.5获得的实施例的拓扑结果，(a)初始拓扑图，(b)迭代过程中的拓扑图、(c)最终拓扑图。具体实施方式为了更好的理解本专利技术的技术方案，下面结合附图详细描述本专利技术提供的实施例，但本专利技术的实施方式不限于此。实施例1如图7所示，本实施例一种结构拓扑优化方法，包括步骤如下：S1、本实施例中以图8所示的二维平面应力结构为例来进行结构拓扑优化的说明，该结构中矩形初始设计域左端为固定约束，长0.8m，宽0.4m，厚度为0.01m，实体材料的弹性模量为2.1×1011Pa，空白材料的弹性模量为2.1×102pa，泊松比为0.3，结构在右端中点处受到竖直方向集荷载100N的作用，以结构应变能最小化为优化目标，施加体积等式约束，体积分数取50％。S2、如图9-10所示采用四节点平面应力单元，通过有限元建模，利用Abaqus将设计域划分为80×40＝3200个单元的网格，并设置单元各节点初始水平集函数值φNinit，使材料在设计域内均匀分布，给定初始水平集带宽度2Ainit。S3、将当前的节点水平集函数值φN平均插值得到单元水平集函数值φ，如图1所示。S4、将单元水平集函数值φ通过参数为Δ的Heaviside函数处理得到分布在0-1之间的单元密度值H(φ)，如图2所示，即得到含有中间密度的拓扑结构；Heaviside函数表达式如下：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种结构拓扑优化方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、选择一个设计域并进行离散和有限元网格划分，导出节点信息、单元信息；S2、选定需要优化的目标函数，根据实际工作状况施加位移约束条件和荷载；S3、给定初始水平集带宽度2Δinit及各节点的初始水平集函数值φNinit，使材料在设计域范围内满布；S4、将当前的节点水平集函数值φN平均插值得到各单元初始水平集函数值φ；S5、将单元水平集函数值φ通过参数为Δ的映射函数处理得到分布在0‑1之间的单元密度值H(φ)，即得到含有中间密度的拓扑结构，Δ表示用于控制中间密度范围的参数；S6、对上一步得到的拓扑结构采用基于水平集的拓扑优化方法进行有限元分析，得到当前用于驱动速度场演化的响应量，进而得到新的节点水平集函数值φN；S7、迭代收敛判断，当优化目标达到标准时，优化迭代结束，执行步骤S8，否则按式Δ＝Δ‑Δt更新参数Δ值，并重复步骤S4至步骤S7，Δt表示预设的每步减小幅度；S8、输出优化结果。

【技术特征摘要】
1.一种结构拓扑优化方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、选择一个设计域并进行离散和有限元网格划分，导出节点信息、单元信息；S2、选定需要优化的目标函数，根据实际工作状况施加位移约束条件和荷载；S3、给定初始水平集带宽度2Δinit及各节点的初始水平集函数值φNinit，使材料在设计域范围内满布；S4、将当前的节点水平集函数值φN平均插值得到各单元初始水平集函数值φ；S5、将单元水平集函数值φ通过参数为Δ的映射函数处理得到分布在0-1之间的单元密度值H(φ)，即得到含有中间密度的拓扑结构，Δ表示用于控制中间密度范围的参数；S6、对上一步得到的拓扑结构采用基于水平集的拓扑优化方法进行有限元分析，得到当前用于驱动速度场演化的响应量，进而得到新的节点水平集函数值φN；S7、迭代收敛判断，当优化目标达到标准时，优化迭代结束，执行步骤S8，否则按式Δ＝Δ-Δt更新参数Δ值，并重复步骤S4至步骤S7，Δt表示预设的每步减小幅度；S8、输出优化结果。2.根据权利要求1所述的结构拓扑优化方法，其特征在于，所述步骤S1中通过编译代码对设计域进行离散和有限元网格划分。3.根据权利要求1所述的结构拓扑优化方法，其特征在于，所述步骤S1中在有限元建模、分析...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏鹏，汪雯雯，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：广东,44