【技术实现步骤摘要】
一种新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器及制备方法及应用
本专利技术属于电分析化学
,具体地说,涉及一种新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器(GNs/SPAEK-BI/GCE)及制备方法及应用。
技术介绍
自被发现以来,石墨烯(GNs)因其独特的纳米片状二维结构、比表面积大、导电性强和电催化活性高、机械强度和化学稳定性高、生产成本低和良好的生物相容性等优点,已在超级电容器、锂离子电极材料、电化学储氢、光电催化和机械制造等领域,特别是在修饰电极电化学传感器制备及应用研究领域表现出巨大的应用价值和广阔的应用前景。由于石墨烯片之间存在较强的范德华力,导致其在水中和大多数有机溶剂中的溶解性很差,难于制备均匀分散的稳定石墨烯溶液。尽管可以通过超声使GNs分散在一些溶剂中,但所得GNs溶液的稳定性很差,停止超声后GNs很快又团聚起来,这一点极大程度地限制了GNs在修饰电极电化学传感器中的应用。因此如何提高GNs在溶液中的分散性和稳定性,进而简化GNs修饰电极电化学传感器的制备方法,提高传感器的稳定性和灵敏度,近年来一直是电化学分析领域需要解决 ...
【技术保护点】
1.一种新型聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器,其特征在于,包括由电极绝缘套管(1)、铜棒(2)、电极引线(3)、玻碳片(4)构成的玻碳电极和修饰于玻碳电极表面的响应敏感膜(5),所述响应敏感膜(5)包含纳米材料氧化石墨烯GNs和新型高分子聚合物磺化咪唑聚芳醚酮SPAEK‑BI。
【技术特征摘要】
1.一种新型聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器,其特征在于,包括由电极绝缘套管(1)、铜棒(2)、电极引线(3)、玻碳片(4)构成的玻碳电极和修饰于玻碳电极表面的响应敏感膜(5),所述响应敏感膜(5)包含纳米材料氧化石墨烯GNs和新型高分子聚合物磺化咪唑聚芳醚酮SPAEK-BI。2.一种如权利要求1所述的新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器的制备方法,其特征在于,将石墨烯片GNs均匀分散在一种用二甲基甲酰胺DMF溶解的磺化聚芳醚酮-苯并咪唑SPAEK-BI高分子聚合物溶液中,得到稳定分散的磺化聚芳醚酮-苯并咪唑功能化的石墨烯SPAEK-BI/GNs混悬溶液,然后将SPAEK-BI/GNs混悬溶液滴涂在玻碳电极表面,制备而成一种新型的高分子聚合物功能化石墨烯修饰电极电化学传感器SPAEK-BI/GNs/GCE。3.根据权利要求2所述的新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器的制备方法,其特征在于,用DMF为溶剂,采用一种新型的高分子聚合物SPAEK-BI为分散剂,超声分散制备响应敏感膜(5)前体溶液。4.根据权利要求3所述的新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器的制备方法,其特征在于,所述响应敏感膜(5)前体溶液中SPAEK-BI浓度为4mg/mL,GNs浓度为2mg/mL。5.根据权利要求2所述的新型高分子聚合物膜功能化石墨烯修饰电极电化学传感器的制备方法,其特征在于,采用一种新型的高分子聚合物SPAEK-BI修饰在GNs表面,使得GNs表面被高分子聚合物SPAEK-BI功能化。6.根据权利要求2或3...
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