一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料及其制备方法技术

技术编号:20005438 阅读:31 留言:0更新日期:2019-01-05 17:53
本发明专利技术公开了一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料及其制备方法。其制备方法为以玻璃为基底,先采用磁控溅射法在基底上制备WO3纳米薄膜,然后采用浸渍‑沉淀‑光还原法将Ag/AgCl纳米颗粒附着到WO3薄膜表面。本发明专利技术得到的纳米薄膜可用于光电催化,太阳能电池等多个领域,具有成本低,操作简单,性能稳定等特点。

A kind of Ag/AgCl/WO3 nano-film material and its preparation method

The invention discloses an Ag/AgCl/WO3 nano-film material and a preparation method thereof. The preparation method is based on glass, WO3 nano-film is prepared on the substrate by magnetron sputtering, then Ag/AgCl nanoparticles are attached to the surface of WO3 film by impregnation, precipitation and photoreduction. The nano film obtained by the invention can be used in many fields such as photoelectric catalysis, solar cells and so on, and has the characteristics of low cost, simple operation and stable performance.

【技术实现步骤摘要】
一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料及其制备方法
本申请涉及纳米薄膜材料,特别是涉及到一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料,还涉及到这种复合薄膜的制备方法。
技术介绍
太阳能是地球上用之不竭,取之不尽的可循环能源,具有其他能源所不可比拟的优点。制备具有高催化活性、高可见过利用率,高催化稳定性以及低成本的光催化材料一直是该领域的研究热点。传统光催化材料TiO2由于其禁带宽度较宽(3.2eV),决定其只能利用太阳光中很少的一部分,而占据了太阳光光谱43%的可见光却不能充分利用。因此,人们不断寻找新的可见光响应的光催化材料。WO3作为一种重要的n型半导体材料,其最热门的应用主要光(电)致变色、气敏特性,而近几年开始应用于新型的可见光驱动的光催化剂,因为其禁带宽度为2.8eV,可被480nm波长(可见光)激发,同时其价带电位为+3.2eV,使得价带空穴具有强的氧化能力。但是WO3光催化材料的在实际应用中的量子利用率还是很低,对WO3进行改性来降低电子空穴复合速率至关重要。纳米Ag/AgCl材料由于表面存在的Ag0原子可以通过等离子体共振(SPR)效应大大加强AgCl在可见光区域的光响应,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料,其特征在于,以玻璃为基底,基底上覆有一层WO3纳米薄膜,WO3纳米薄膜上负载有纳米Ag/AgCl颗粒。

【技术特征摘要】
1.一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料,其特征在于,以玻璃为基底,基底上覆有一层WO3纳米薄膜,WO3纳米薄膜上负载有纳米Ag/AgCl颗粒。2.根据权利要求1所述的Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料,其特征在于,所述的WO3纳米薄膜的厚度为300-600nm。3.根据权利要求1或2所述的Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料,其特征在于,所述的玻璃为医用载玻片或氧化铟锡透明导电玻璃。4.一种Ag/AgCl/WO3纳米薄膜材料的制备方法,其特征在于,步骤如下:(1)基底的预处理:玻璃基底经超声清洗后,待用;(2)WO3纳米薄膜的制备:采用磁控溅射方法,以金属钨为溅射靶材,以氩气和氧气为工作气体,制备WO3纳米薄膜,随后在马弗炉中退火处理,自然降温至室温;所述的磁控溅射的工艺参数为工作气压为1-2Pa,溅射功率为80-100W,溅射时间为30-60min;所述的马弗炉中退火处理:以5-10℃/min的速率升温至400-500℃,保温1-2h后自然降温至室温;(3)纳米Ag/AgCl/WO3薄膜的制备:以步骤(2)中制备的WO3纳米薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:李贺牟宗信张家良刘升光
申请(专利权)人:大连理工大学
类型:发明
国别省市:辽宁,21

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