一种新型特气法兰制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型特气法兰，特气法兰内部设有一个半环形通道(2)和一个环形通道(4)，半环形通道(2)和环形通道(4)同心；特气接口(1)设置在半环形通道(2)的中间；半环形通道(2)与环形通道(4)连通；半环形通道(2)的两端分别作为环形通道(4)的两个入口(3)。采用本实用新型专利技术的技术方案具有以下优点：保持一侧特气接头，使接入的特气管路简单；使最终进入腔体的气体均匀度提高50％以上，有利于工艺均匀度；气体喷淋孔可以做的更大，不容易堵塞，可大大延长维护周期。

【技术实现步骤摘要】
一种新型特气法兰
本技术涉及到管式PE设备中的特气法兰，具体涉及一种可以提高工艺气体均匀度的特气法兰。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。现有的等离子体增强化学气相沉积装置中的特气法兰的形式及缺点如下：(1)现有特气法兰的特气接口在圆周的一侧；(2)现有特气法兰的出气不均匀；(3)现有特气法兰为了提高出气均匀性，气体喷淋孔需要做的很小，孔就容易堵塞。
技术实现思路
针对现有技术存在的缺点，本技术对现有法兰的结构重新进行了设计，旨在提高工艺气体的均匀度。特气法兰内部设有一个半环形通道2和一个环形通道4，半环形通道2和环形通道4同心；特气接口1设置在半环形通道2的中间；半环形通道2与环形通道4连通；半环形通道2的两端分别作为环形通道4的两个入口3。半环形通道2的半径大于环形通道4的半径，环形通道4上设有气体喷淋孔5。气体从特气接口1进入半环形通道2，气体会均匀朝两个对称的方向流动。在环形通道入口3出，进入环形通道4，最后由气体喷淋孔5进入腔体内部。本技术的技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型特气法兰，其特征在于：特气法兰内部设有一个半环形通道(2)和一个环形通道(4)，半环形通道(2)和环形通道(4)同心；特气接口(1)设置在半环形通道(2)的中间；半环形通道(2)与环形通道(4)连通；半环形通道(2)的两端分别作为环形通道(4)的两个入口(3)。

【技术特征摘要】
1.一种新型特气法兰，其特征在于：特气法兰内部设有一个半环形通道(2)和一个环形通道(4)，半环形通道(2)和环形通道(4)同心；特气接口(1)设置在半环形通道(2)的中间；半环形通道(2)与环形通道(4)连通；半环形通道(2)的两端分别作为环形通道(4)的两个入口(3)。2.根据权利要求1所述的一种新型特气法兰，其特征在于：半环形通道(2)的半径...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚良，张鹤，
申请(专利权)人：江苏微导纳米装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32