基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法技术

本发明专利技术提供一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法。该方法包括如下步骤：将N张输入图像分别组合成一个混合矩阵；对混合矩阵进行ICA变换，获得N个独立成分；选定N张输入图像中的一张输入图像作为比较图像，分别计算每一个独立成分与所述比较图像之间的SSIM值；设定各个独立成分的背景范围并统计各个独立成分中亮度极值点数量；根据SSIM值及各个亮度极值点数量计算各个独立成分的比较值，并选择比较值最大的独立成分作为目标独立成分；对目标独立成分进行ICA逆变换，得到缺陷增强图像，并选择缺陷阈值对所述缺陷增强图像进行缺陷分割，能够取代人眼自适应选择目标独立成分，满足生产自动化的需要。

【技术实现步骤摘要】
基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)及有机发光二极管显示器件(OrganicLightEmittingDisplay，OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。随着科技的发展及人们物质生活的需求，现金平面显示器的尺寸做得越来越大，显示分辨率也越来越高，对生产工艺的要求也越来越严苛。目前在显示面板生产过程中由于生产工艺等原因经常会产生Mura，所谓Mura是指因显示面板亮度不均匀造成各种痕迹的现象。通过在暗室中将显示面板切换到黑色画面以及其他低灰阶画面，然后从各种不同角度去看显示面板是否存在痕迹即可判断该显示面板是否存在Mura，各种痕迹可能是横向条纹或四十五度角条纹，可能是切得很直的方块，可能是某个角落出现一块，也可能是没有规则可言的痕迹，通常我们将这种出现各种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、将N张输入图像分别转换为一维向量，并组合成一个混合矩阵，N为大于1的整数；步骤S2、对混合矩阵进行ICA变换，获得N个独立成分；步骤S3、选定N张输入图像中的一张输入图像作为比较图像，分别计算每一个独立成分与所述比较图像之间的SSIM值；步骤S4、设定各个独立成分的背景范围并统计各个独立成分中亮度极值点数量，所述亮度极值点数量为独立成分中灰阶值位于其背景范围外的像素的数量；步骤S5、根据各个独立成分的SSIM值及各个独立成分的亮度极值点数量计算各个独立成分的比较值，并选择比较值最大的独立成分作为目标独立成分；...

【技术特征摘要】
1.一种基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、将N张输入图像分别转换为一维向量，并组合成一个混合矩阵，N为大于1的整数；步骤S2、对混合矩阵进行ICA变换，获得N个独立成分；步骤S3、选定N张输入图像中的一张输入图像作为比较图像，分别计算每一个独立成分与所述比较图像之间的SSIM值；步骤S4、设定各个独立成分的背景范围并统计各个独立成分中亮度极值点数量，所述亮度极值点数量为独立成分中灰阶值位于其背景范围外的像素的数量；步骤S5、根据各个独立成分的SSIM值及各个独立成分的亮度极值点数量计算各个独立成分的比较值，并选择比较值最大的独立成分作为目标独立成分；所述比较值的计算公式为：Q＝SSIM+w/M，其中Q为独立成分的比较值，SSIM为独立成分的SSIM值，w为与SSIM值相关的系数，M为独立成分的亮度极值点数量；步骤S6、对目标独立成分进行ICA逆变换，得到缺陷增强图像，并选择缺陷阈值对所述缺陷增强图像进行缺陷分割。2.如权利要求1所述的基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，定义待计算的独立成分为图像X，比较图像为图像Y，所述步骤S3中计算独立成分与比较图像之间的SSIM值的公式为：SSIM＝L×C×S；其中，其中，μx为该独立成分中所有像素的灰阶值的均值，μy为比较图像中所有像素的灰阶值的均值，σx为该独立成分中所有像素的灰阶值的方差，σy为比较图像中所有像素的灰阶值的方差，σxy为比较图像中所有像素的灰阶值与独立成分中所有像素的灰阶值的协方差，C1、C2及C3分别为亮度常数、对比度常数及结构常数，L、C及S分别为亮度比较值、对比度比较值及结构比较值，SSIM为独立成分与比较图像之间的SSIM值。3.如权利要求1所述的基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，所述步骤S4中具体包括：分别设定独立成分中每一行像素的背景范围为μ-σ至μ+σ，其中μ和σ分别为该独立成分中该行像素的灰阶值的平均值和方差；依据独立成分中每一行像素的背景范围统计独立成分中亮度极值点数量。4.如权利要求1所述的基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，所述步骤S4中具体包括：分别设定独立成分中每一列像素的背景范围为μ’-σ’至μ’+σ’，其中μ’和σ’分别为该独立成分中该列像素的灰阶值的平均值和方差；依据独立成分中每一列像素的背景范围统计独立成分中亮度极值点数量。5.如权利要求1所述的基于独立成分自适应选择的Mura侦测方法，其特征在于，所述步骤S4中具体包括：分别设定独立成分中每一行像素的背景范围为μ-σ至μ+σ，其中μ和σ分别为该独立成分中该行像素的灰阶值的平均值和方差；依据独立成分中每一...

【专利技术属性】
技术研发人员：史超超，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44