一种槽体装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出了一种槽体装置，包括槽体，槽体内形成有第一腔体；隔板，设置于第一腔体内、并将第一腔体分隔为上子腔和下子腔，隔板上设置有连通上子腔和下子腔的多个扩散孔；管式进料分布器，设置在下子腔内，其一端伸出槽体并向下子腔内引入液体，管式进料分布器的外壁上设置有连通其内外的出液孔，用以使管式进料分布器内的液体均匀分布在下子腔内。通过设置隔板将第一腔体分隔为上、下子腔，并将隔板上设置扩散孔和管式进料分布器上设置出液孔，使得管式进料分布器中浓度较高的溶质在下子腔出液并充分扩散、混合，再扩散至作业区域，使下子腔和上子腔内溶液浓度更为均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种槽体装置
本申请涉及但不局限于一种容器，更具体地，涉及一种槽体装置。
技术介绍
硅片制绒是通过酸或碱对硅片表面进行处理，去除硅片表面的机械损伤，清除表面油污和金属杂质，得到虫孔状绒面或者金字塔状绒面的一种处理太阳能级硅片的工艺方法，是硅太阳能电池片生产的一道工序，可提高硅片的陷光作用。在使用硅片腐蚀槽进行制绒操作时，需将硅片放入硅片腐蚀槽的腔体内，硅片腐蚀槽内则冲入酸液或者碱液等药液进行反应腐蚀。位于硅片腐蚀槽底部一侧的进液管道上设置有一个出液孔，由槽体一侧向另一侧喷液，在反应过程中，药液中的化学物质被消耗，浓度变低，需要收集起来进行补液或补药，然后再经进液管道输送到硅片腐蚀槽以循环使用。但使用这种硅片腐蚀槽进行处理后的硅片存在表面性能不一致的情况，对于其他相类似的槽体装置，利用槽体内的溶液对物料进行处理的场合，也存在类似的问题。
技术实现思路
本申请提供了一种槽体装置，包括：槽体，所述槽体内形成有第一腔体；隔板，设置于所述第一腔体内、并将所述第一腔体分隔为上子腔和下子腔，所述隔板上设置有连通所述上子腔和下子腔的多个扩散孔；管式进料分布器，设置在所述下子腔内，其一端伸出所述槽体并向所述下子腔内引入液体，所述管式进料分布器的外壁上设置有连通其内外的出液孔，用以使所述管式进料分布器内的液体均匀分布在所述下子腔内。本申请提供的槽体装置中，利用隔板将第一腔体分隔为上子腔和下子腔，可以使得经由管式进料分布器输送的浓度较高的溶质(如酸、碱等化学物质)在下子腔内得到充分扩散、混合，浓度分布较为均匀后，再经扩散孔进入上子腔(即作业区域)内，在上子腔内经过进一步充分扩散、混合后，进而使上子腔内溶液的浓度更为均匀，最终达到对上子腔内物料(如待腐蚀硅片)表面进行均匀腐蚀的目的，以提高物料表面性能(如硅片表面各处绒面反射率的一致性)，从而提升其使用性能。本申请与现有技术相比，获得的有益效果包括：1、通过设置隔板将第一腔体分隔为上、下子腔，使得管式进料分布器中浓度较高的溶质在出液区域得到充分扩散、混合，浓度较为均匀后，再扩散至作业区域，保证作业区域内溶液浓度更为均匀；2、通过设置出液孔和扩散孔均为喇叭形孔，使流出溶液以发散的形式流出，有助于出口处溶液的充分扩散、混合，提升下子腔和上子腔内溶液浓度的均匀性；3、通过在下子腔内设置管式进料分布器，其通过多个均匀布置的分液管道及分液管道上均匀分布的出液孔，向下子腔内均匀出液，以利于溶液均匀扩散；4、通过在分液管道上沿长度方向和截面周向均匀设置多个出液孔，使管道沿长度方向和截面周向空间范围内出液更为均匀，提高整体范围内的溶液浓度均匀性；5、通过设置多层出液孔，使第一腔体不同高度上同时出液，增大出液范围，提高溶液在三维空间范围内的浓度均匀性；6、通过设置多个出液孔具有不同的出液方向，特别是相邻两排出液孔相对设置、出液方向相反时，可以减少溶液单向流动区域，更利于溶液扩散，实现浓度均匀。本技术实施例的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本技术实施例技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术的技术方案，并不构成对本技术实施例技术方案的限制。图1为根据本实施例一的槽体装置的沿槽体轴向剖切得到的结构示意图；图2A为图1中沿A-A方向剖切得到的结构示意图，图2B为图1的俯视结构示意图；图3为根据本实施例二的槽体装置的沿槽体轴向剖切得到的结构示意图；图4为根据本实施例三的槽体装置的俯视结构示意图；图5为根据本实施例四中一示例的槽体装置的俯视结构示意图(分液管道围成圆形)；图6为根据本实施例四中另一示例的槽体装置的俯视结构示意图(分液管道围成椭圆形)。其中，图1-图6中附图标记与部件名称之间的关系为：100槽体，101槽体外壁，103槽体内壁，1第一腔体，11下子腔，12上子腔，13入口(入口位置)，2第二腔体，3支架，4隔板，41扩散孔，5管式进料分布器，51分液管道，511出液孔，512管接头，52管式进料分布器的一端(或管式进料分布器的液体输入端)。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实施例中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。本技术的专利技术人经研究发现，硅片腐蚀槽的管式进料分布器设置在底部，底部属于进液区域，溶液的浓度较高，溶质将从下向上扩散到工作区域。相比于将硅片腐蚀槽的进液管道设置在底部一侧，药液由一侧向槽体的另一侧喷液的结构设计，使得扩散过程中底部区域相同高度上的溶液浓度始终存在差异，一侧较高而另一侧较低，溶质向上扩散进入工作区域后，工作区域两侧的溶液浓度也会存在差异，导致溶液对不同位置的硅片表面的腐蚀效果不同，无法保证硅片表面各处绒面反射率的一致性，影响硅片的使用性能。其他使用槽体内的溶液对物料进行处理的场合也存在这种因溶液浓度不均匀而导致物料经溶液处理后性能不一致的情况。在以下本技术实施例中，使出液孔在槽体底部区域尽量均匀分布，可以有效消除溶液浓度的不均匀，避免物料经溶液处理后性能不一致。另外，除了因浓度差异而发生的自然扩散外，溶液流动也是溶质从高浓度区域向低浓度区域扩散的一种方式，这种扩散方式的方向性强，在扩散方向上溶质的扩散速度较快，在其他方向上扩散速度较慢，也会导致扩散过程中溶液浓度的差异，因而还可以通过抑制溶液的单向流动，以提高溶液浓度的均匀性。为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下本技术实施例的槽体装置以硅片腐蚀槽为示例进行阐述。但不局限于此，该槽体装置也可用于其他通过药液对物料进行处理的场合，例如电解槽、电镀槽、硅片清洗槽等等。除此之外，该槽体装置也可以是其他用途的槽体装置，例如，溶液制备槽、溶液混合装置或给排水设备中的槽体，等等。实施例一：本实施例提供了一种槽体装置，图1为本实施例作为示例的槽体装置的结构示意图，展示的是沿槽体100轴向(垂直方向)剖切得到的剖面，图2A为本实施例槽体装置的沿图1中A-A方向剖切得到的结构示意图，图2B为本实施例槽体装置的俯视结构示意图。如图1、图2A和图2B所示，该槽体装置包括槽体100，槽体100内形成有第一腔体1，第一腔体1内设置有隔板4和管式进料分布器5。其中，隔板4将第一腔体1分隔为上子腔12和下子腔11，同时，隔板4上设置有多个扩散孔41，使上子腔12和下子腔11之间通过多个扩散孔41连通。管式进料分布器5设置在下子腔11内，管式进料分布器的一端52(即管式进料分布器的液体输入端，见图3中标号端52)经由下子腔11腔壁上设置的入口13伸出槽体，与供液端相连，进而将供液端提供的液体引入下子腔11内，管式进料分布器5的外壁上设置有连通其内外的出液孔511，即管式进料分布器5内部通过多个出液孔511与下子腔11连通，使管式进料分布器5内部的液体均匀分布在下子腔11内。使用上述的槽体装置进行腐蚀作业时，隔板4将两个区域分隔开来，下子腔11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种槽体装置，其特征在于，包括：槽体，所述槽体内形成有第一腔体；隔板，设置于所述第一腔体内、并将所述第一腔体分隔为上子腔和下子腔，所述隔板上设置有连通所述上子腔和下子腔的多个扩散孔；管式进料分布器，设置在所述下子腔内，其一端伸出所述槽体并向所述下子腔内引入液体，所述管式进料分布器的外壁上设置有连通其内外的出液孔，用以使所述管式进料分布器内的液体均匀分布在所述下子腔内。

【技术特征摘要】
1.一种槽体装置，其特征在于，包括：槽体，所述槽体内形成有第一腔体；隔板，设置于所述第一腔体内、并将所述第一腔体分隔为上子腔和下子腔，所述隔板上设置有连通所述上子腔和下子腔的多个扩散孔；管式进料分布器，设置在所述下子腔内，其一端伸出所述槽体并向所述下子腔内引入液体，所述管式进料分布器的外壁上设置有连通其内外的出液孔，用以使所述管式进料分布器内的液体均匀分布在所述下子腔内。2.根据权利要求1所述的槽体装置，其特征在于：所述扩散孔的孔径从下至上逐渐增大；和/或，所述出液孔的孔径从所述管式进料分布器的内部向所述管式进料分布器的外部逐渐增大。3.根据权利要求1所述的槽体装置，其特征在于：所述管式进料分布器包括至少两根平行设置的分液管道，所述分液管道设置在所述下子腔的底部，所述分液管道的管壁上设置有所述出液孔。4.根据权利要求1所述的槽体装置，其特征在于：所述管式进料分布器包括围成环形的分液管道，所述分液管道设置在所述下子腔的底部，所述分液管道的管壁上设置有所述出液孔，所述分液管道围成圆形、椭圆形或多边形。5.根据权利要求4所述的槽体装置，其特征在于：所述下子腔底部为N边形，所述分液管道包...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴路军，
申请(专利权)人：君泰创新北京科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11