【技术实现步骤摘要】
一种设备前端模块及生产线
本技术涉及半导体领域,特别是涉及一种设备前端模块及生产线。
技术介绍
半导体制造业的特点是超精密化,超洁净环境和细微化,其加工工艺涉及近百道工序,其中有许多重要的工艺环境需要在真空环境下完成。在加工过程中,基片需要在生产线上不同工艺加工模块之间进行高效传输和定位,半导体设备前端模块(EquipmentFrontEndModule,EFEM)正是完成这一任务的关键装备,是符合半导体工艺精度和净化要求,具有高精度,高效率,高洁净度和高可靠性,是连接物料搬送系统和晶圆处理系统的桥梁,能够使晶圆在不受污染的条件下被准确的传输。半导体设备前端模块(EFEM)在整个生产线上完成晶圆的分类,预对准等功能,是晶圆生产线不可或缺的组成部分。目前的半导体设备前端模块设备主要包括:EFEM外部框架、装载端口、预对准装置、机械手、风机过滤单元、控制系统及人机交互设备等。以下为各个部分功能介绍:EFEM外部框架都由洁净材料铸成,使内部形成密封良好的腔室,可以更好地保证内部整体的洁净度,防止晶圆在内部运输过程中被污染。装载端口具有装载从自动化搬送设备处传送来的晶圆盒 ...
【技术保护点】
1.一种设备前端模块,其特征在于,包括:设置在卸载腔室和装载腔室之间的清洗腔室;所述清洗腔室的第一端与所述卸载腔室的一端相连,所述清洗腔室的第二端与所述装载腔室的一端相连;所述清洗腔室用于清洗从所述卸载腔室输出的载体,以及将清洗后的载体输送至所述装载腔室。
【技术特征摘要】
1.一种设备前端模块,其特征在于,包括:设置在卸载腔室和装载腔室之间的清洗腔室;所述清洗腔室的第一端与所述卸载腔室的一端相连,所述清洗腔室的第二端与所述装载腔室的一端相连;所述清洗腔室用于清洗从所述卸载腔室输出的载体,以及将清洗后的载体输送至所述装载腔室。2.根据权利要求1所述的设备前端模块,其特征在于,所述清洗腔室内设有清洗部件,所述清洗部件包括辊刷和吸尘器;所述辊刷设置在所述清洗腔室的一侧或两侧,所述吸尘器设置在所述清洗腔室内。3.根据权利要求2所述的设备前端模块,其特征在于,所述辊刷可沿所述载体的输送方向作往复运动。4.根据权利要求2所述的设备前端模块,其特征在于,所述辊刷可沿所述清洗腔室的侧壁上下运动。5.根据权利要求2所述的设备前端模块,其特征在于,所述吸尘器设置在所述清洗腔室的顶部。6.根据权利要求2所述的设备前端模块,其特征在于,所述辊刷处于所述吸尘器的吸入口处。7.根据权利要求2所述的设备前端模块,其特征在于,所述辊刷的材质为动...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈健健,姚立强,陆涛,田洪生,赵兵权,
申请(专利权)人:东泰高科装备科技北京有限公司,
类型:新型
国别省市:北京,11
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