一种两节瓷自定位真空灭弧室制造技术

本实用新型专利技术提供一种两节瓷自定位真空灭弧室。包括静导电杆、动导电杆、触头机构、上瓷壳和下瓷壳，触头机构的外部设置屏蔽筒，所述的上瓷壳和下瓷壳之间设置用于定位上瓷壳、下瓷壳和屏蔽筒的定位机构。所述的定位机构截面呈“T”形，局部与屏蔽筒焊接。所述的定位机构包括用于定位上瓷壳和下瓷壳的中封定位环，还包括用于定位屏蔽筒的屏蔽筒定位环。本实用新型专利技术省去了动导电杆与连接环的气密性焊缝，减少加工步骤，改善了密封性。

【技术实现步骤摘要】
一种两节瓷自定位真空灭弧室
本技术涉及一种两节瓷自定位真空灭弧室。
技术介绍
如图1所示，现有的两节瓷真空灭弧室其外壳包括上瓷壳4’和下瓷壳5’，上瓷壳4’和下瓷壳5’之间没有定位功能，装配时需要用专用夹具完成装配，由于采用模具进行定位，导致零件容易产生偏移。灭弧室还包括静导电杆1’、静盖板3’和导电块2’三个独立零件，且静导电杆与静盖板以及导电块通过焊料焊接，存在焊缝，增加了加工难度和成本，且气密性稍差。灭弧室上部的动导电杆1’以及设置在动导电杆外部的连接环6’是两体结构，且动导电杆7’与波纹管8’之间需要连接环进行过渡，也是通过焊料焊接，存在焊缝，增加了加工难度和成本，且气密性稍差。
技术实现思路
本技术针对上述问题，提供一种两节瓷自定位真空灭弧室，改善了两节瓷真空灭弧室的定位结构，定位精准，不容易发生偏移。为此，本技术采取如下技术方案，一种两节瓷自定位真空灭弧室，其特征在于包括静导电杆、动导电杆、触头机构、上瓷壳和下瓷壳，触头机构的外部设置屏蔽筒，所述的上瓷壳和下瓷壳之间设置用于定位上瓷壳、下瓷壳和屏蔽筒的定位机构。所述的定位机构截面呈“T”形，局部与屏蔽筒焊接。所述的定位机构包括用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种两节瓷自定位真空灭弧室，其特征在于包括静导电杆、动导电杆、触头机构、上瓷壳和下瓷壳，触头机构的外部设置屏蔽筒，所述的上瓷壳和下瓷壳之间设置用于定位上瓷壳、下瓷壳和屏蔽筒的定位机构。

【技术特征摘要】
1.一种两节瓷自定位真空灭弧室，其特征在于包括静导电杆、动导电杆、触头机构、上瓷壳和下瓷壳，触头机构的外部设置屏蔽筒，所述的上瓷壳和下瓷壳之间设置用于定位上瓷壳、下瓷壳和屏蔽筒的定位机构。2.根据权利要求1所述的两节瓷自定位真空灭弧室，其特征在于所述的定位机构截面呈“T”形，局部与屏蔽筒焊接。3.根据权利要求2所述的两节瓷自定位真空灭弧...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈炳祥，
申请(专利权)人：金华菁英科技服务有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33