一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置制造方法及图纸

一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，包括化学槽箱体，化学槽箱体为矩形槽腔体，箱体内腔上部设有固定安装的喷淋管，喷淋管底部设有均匀直线分布的喷嘴，箱体内腔底部设有滚动辊，滚动辊水平且与喷淋管空间上垂直，滚动辊上放置基板，所述喷淋管的下方，基板的上方设有网板，网板上设有均匀分布的贯通网槽，滚动辊的两侧端部设有齿轮传动轴，网板底部与齿轮传动轴联动。网板上有排列均匀的网槽，喷淋管上喷嘴喷出的药液经网槽均匀蚀刻基板上的产品，通过改变实际制程过程中网板的网槽大小和排列情况，实现化学槽箱体内流场更稳定均匀，在制程进行时，网板与滚动辊的齿轮传动轴联动发生小幅度的摆动，进一步确保流场的均匀性。

A Dynamic Etching Drug Homogenization Device for Wet Process Equipment

The utility model relates to a dynamic etching liquid homogenization device for wet process equipment, which comprises a chemical tank body, a rectangular tank body, a fixed sprinkler tube on the upper part of the tank body, a sprinkler nozzle with uniform linear distribution at the bottom of the sprinkler tube, a rolling roller at the bottom of the tank body, and a horizontal roll in the space with the sprinkler tube. Vertical, a base plate is placed on the rolling roll. Under the spray pipe, a mesh plate is arranged on the top of the base plate, and a uniformly distributed through mesh groove is arranged on the mesh plate. The two ends of the rolling roll are provided with a gear transmission shaft, and the bottom of the mesh plate is linked with the gear transmission shaft. There are uniform mesh grooves arranged on the mesh board, and the medicinal liquid ejected from the nozzle on the spray pipe etches the products on the substrate evenly through the mesh groove. By changing the mesh groove size and arrangement of the mesh plate in the actual process, the flow field in the chemical groove box is more stable and uniform. During the process, the mesh plate and the gear transmission shaft of the rolling roll are interacted. A small oscillation is generated to further ensure the uniformity of the flow field.

【技术实现步骤摘要】
一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置
本技术涉及湿式制程设备领域，尤其涉及一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置。
技术介绍
半导体制程是在超洁净无尘室进行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染的主要来源，大多会造成良率和可靠度的下降；在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展，但有些机构设计，使用上有维修困难、耗液量大、均匀性不佳、漏液，背面脏污等等问题。其中，半导体在生产工艺上需要进行去毛边处理，常规的物力抛丸方式，不仅会带入异物，污染产品，还容易导致半导体产品的损伤，因此药液蚀刻成为较佳方式，药液的喷洒的均匀性比较难控制，如何使得药液均匀性蚀刻半导体显得尤为重要，药液过渡接触半导体容易造成蚀刻过渡，药液量不足容易导致蚀刻不完全，影响半导体性能，导致半导体良品率较低。
技术实现思路
本技术正是针对现有技术存在的不足，提供了一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置。为解决上述问题，本技术所采取的技术方案如下：一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，包括化学槽箱体，化学槽箱体为矩形槽腔体，箱体内腔上部设有固定安装的喷淋管，喷淋管底部设有均匀直线分布的喷嘴，箱体内腔底部设有滚动辊，滚动辊水平且与喷淋管空间上垂直，滚动辊上放置基板，所述喷淋管的下方，基板的上方设有网板，网板上设有均匀分布的贯通网槽，滚动辊的两侧端部设有齿轮传动轴，网板底部与齿轮传动轴联动。进一步的，所述化学槽箱体两侧分别设有抽气口和进气口，箱体外部设有风机，抽气口和进气口通过外设的风机管路联通。进一步的，所述喷淋管设有进液管路和进气管路，进气管路与进气口连接，进液管路与化学槽箱体上方设有的进液管连接。进一步的，所述喷淋管与喷嘴的连接处设有密封圈。进一步的，所述网板的网槽口设有内倾的坡口，且网槽口的数量、大小形状和排列方式根据制程需要设计。本技术与现有技术相比较，本技术的有益效果如下：本技术所述的一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，在喷淋管和基板之间安装的网板，网板上有排列均匀的网槽，喷淋管上喷嘴喷出的药液经网槽均匀蚀刻基板上的产品，通过改变实际制程过程中网板的网槽大小和排列情况，实现化学槽箱体内流场更稳定均匀，在制程进行时，网板与滚动辊的齿轮传动轴联动发生小幅度的摆动，进一步确保流场的均匀性。附图说明图1为本技术所述的一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置结构示意图；图2为图1中网板的结构示意图。具体实施方式下面将结合具体的实施例来说明本技术的内容。如图1和图2所示，所述的一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，包括化学槽箱体1，化学槽箱体1为矩形槽腔体，箱体1内腔上部设有固定安装的喷淋管2，喷淋管2底部设有均匀直线分布的喷嘴3，箱体1内腔底部设有滚动辊4，滚动辊4水平且与喷淋管2空间上垂直，滚动辊4上放置基板5，所述喷淋管2的下方，基板5的上方设有网板6，网板6上设有均匀分布的贯通网槽7，滚动辊4的两侧端部设有齿轮传动轴8，网板6底部与齿轮传动轴8联动。所述的一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，在喷淋管2和基板5之间安装的网板6，网板6上有排列均匀的网槽7，喷淋管2喷出的药液经网槽7均匀蚀刻基板5上的产品，通过改变实际制程过程中网板6的网槽7大小和排列情况，实现化学槽箱体1内液体流场更稳定均匀，在制程进行时，网板6与滚动辊4的齿轮传动轴8联动发生小幅度的摆动，进一步确保流场的均匀性。所述化学槽箱体1两侧分别设有抽气口9和进气口10，箱体1外部设有风机11，抽气口9和进气口10通过外设的风机11管路联通，湿式高温热制程过程中产生的热气可通过风机11从抽气口9抽出，并由进气口10循环进入箱体1中，热量循环利用，节约能源。所述喷淋管2设有进液管路12和进气管路13，进气管路13与进气口10连接，进液管路12与化学槽箱体1上方设有的进液管14连接，通过进气管路13通入高压气体，高压气体与进液管路12中的药液混合，实现药液的高压均匀雾化喷出，进一步提高蚀刻的均匀性。所述喷淋管2与喷嘴3的连接处设有密封圈，提高连接气密性的同时，保证药液通入高压气体雾化的稳定性，防止漏液漏气。所述网板6的网槽7口设有内倾的坡口，且网槽7口的数量、大小形状和排列方式根据制程需要设计，满足不同大小半导体产品的蚀刻。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，包括化学槽箱体(1)，化学槽箱体(1)为矩形槽腔体，箱体(1)内腔上部设有固定安装的喷淋管(2)，喷淋管(2)底部设有均匀直线分布的喷嘴(3)，箱体(1)内腔底部设有滚动辊(4)，滚动辊(4)水平且与喷淋管(2)空间上垂直，滚动辊(4)上放置基板(5)，其特征是，所述喷淋管(2)的下方，基板(5)的上方设有网板(6)，网板(6)上设有均匀分布的贯通网槽(7)，滚动辊(4)的两侧端部设有齿轮传动轴(8)，网板(6)底部与齿轮传动轴(8)联动。

【技术特征摘要】
1.一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，包括化学槽箱体(1)，化学槽箱体(1)为矩形槽腔体，箱体(1)内腔上部设有固定安装的喷淋管(2)，喷淋管(2)底部设有均匀直线分布的喷嘴(3)，箱体(1)内腔底部设有滚动辊(4)，滚动辊(4)水平且与喷淋管(2)空间上垂直，滚动辊(4)上放置基板(5)，其特征是，所述喷淋管(2)的下方，基板(5)的上方设有网板(6)，网板(6)上设有均匀分布的贯通网槽(7)，滚动辊(4)的两侧端部设有齿轮传动轴(8)，网板(6)底部与齿轮传动轴(8)联动。2.根据权利要求1所述的一种湿式制程设备动态蚀刻药液均匀化装置，其特征是，所述化学槽箱体(1)两侧分别设有抽气口(9)和进气口(10...

【专利技术属性】
技术研发人员：简健哲，黄荣龙，
申请(专利权)人：安徽宏实自动化装备有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34